空间光调变单元及曝光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117377910A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202280033807.8

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 本发明的空间光调变单元(1)是用于一面使感光基板(10)沿着扫描方向(S)移动、一面于感光基板(10)将曝光图案进行曝光的曝光装置。空间光调变单元(1)具备:空间光调变器(11),具有多个组件;控制器(12),根据曝光图案控制多个组件;及SLM基板(13),搭载空间光调变器(11)及控制器(12)。并且,控制器(12)相对于空间光调变器(11)而沿着扫描方向(S)排列配置。

    曝光装置、曝光方法及平板显示器的制造方法

    公开(公告)号:CN117597629A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280044799.7

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 曝光装置具备:照明光学系统;空间光调制器,其由来自上述照明光学系统的光进行照明;投影光学系统,其将自上述空间光调制器射出的光照射于曝光对象;及平台,其供上述曝光对象载置;且上述平台使上述曝光对象在规定的扫描方向移动,由此由上述投影光学系统照射于上述曝光对象的光在上述曝光对象上进行扫描,上述空间光调制器具备多个镜,上述多个镜分别绕倾斜轴旋转,上述倾斜轴沿与上述投影光学系统的光轴方向及上述扫描方向这两方向正交的方向延伸,上述多个镜通过调整各自的相对于上述扫描方向的倾斜成为开状态,从而使光向上述投影光学系统射出,上述曝光装置具备角度调整机构,其调整上述空间光调制器相对于上述扫描方向的倾斜角。

    曝光装置以及器件制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117651911A

    公开(公告)日:2024-03-05

    申请号:CN202280047477.8

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 为了提高曝光装置的生产量,提供一种相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光的曝光装置,该曝光装置具备:向所述空间光调制器照射照明光的照明光学系统;向所述物体投影所述图案光的投影光学系统;保持所述物体的第1移动体,其配置在所述投影光学系统的下方;第1驱动部,其使所述第1移动体向在与所述投影光学系统的光轴正交的规定平面内彼此正交的第1方向和第2方向移动;保持所述空间光调制器的第2移动体;使所述第2移动体移动的第2驱动部;测量部,其得到包括所述物体的位置信息和所述第1移动体的位置信息的至少一项来作为测量结果;以及控制部,其基于利用所述测量部得到的所述测量结果控制所述第2移动体的驱动和所述投影光学系统的调节的至少一方,控制所述图案光的曝光位置。

    曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法及曝光数据生成方法

    公开(公告)号:CN117597632A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280047260.7

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 曝光装置具备照明光学系统、被来自照明光学系统的光照明的多个空间光调制器、将从空间光调制器射出的光照射到曝光对象的多个投影光学系统、和供曝光对象载置的载台。载台一边通过多个投影光学系统使扫描曝光视野重叠一边使曝光对象沿预定的扫描方向移动,由此照射到曝光对象的光在曝光对象上进行扫描。空间光调制器进行设定,以使得在曝光中在曝光对象上重叠地受到曝光的重叠部(Oa)的照度比在曝光对象上非重叠地受到曝光的非重叠部(Sa、Sb)的照度高。

    曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法

    公开(公告)号:CN117546099A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202280044691.8

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 本发明的曝光装置具备:照明光学系统;空间光调变器,被来自照明光学系统的光所照明;投影光学系统,将自空间光调变器射出的光照射至曝光对象;载台,载置曝光对象,使曝光对象与投影光学系统于既定的扫描方向相对移动;及控制部,控制空间光调变器。空间光调变器具备多个镜面,该多个镜面可切换为:ON状态,调整倾斜而能够向投影光学系统射出光;及OFF状态,不向投影光学系统射出光。控制部以将多个镜面切换第一状态与第二状态的方式控制空间光调变器。第一状态与第二状态是成为ON状态的镜面的至少一者互不相同,自第一状态的空间光调变器射出的光与自第二状态的空间光调变器射出的光形成形状相同的曝光图案。

    曝光装置、器件制造方法、平板显示器的制造方法及曝光方法

    公开(公告)号:CN117377911A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202280036882.X

    申请日:2022-04-05

    Abstract: 经由根据图像图案被控制多个元件的光调制器对基板进行扫描曝光的曝光装置包括:支承第1基板的第1工作台;支承与所述第1基板不同的第2基板的第2工作台;测量所述第2基板的信息的测量部;以及生成部,其在所述第1基板的曝光处理中,基于所述信息生成在所述第2基板的扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据,所述测量部在所述第1基板的曝光处理中测量所述第2基板的信息。

    曝光装置及检查方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117581163A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202280046271.3

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 为检查照明空间光调制器是否有缺陷元件,本发明的曝光装置,将与由具有多个元件的空间光调制器所生成的描绘数据对应的图案光对物体进行曝光,其具备:数据输出部,将该描绘数据输出至该空间光调制器;照明光学系统,对该空间光调制器照射照明光;第1移动体,保持该物体;投影光学系统,将以该空间光调制器生成的该图案光的像投影至该物体;检测部,检测被投影的该图案光的像;以及判定部,根据该检测部的检测结果,判定该空间光调制器是否可生成与从该数据输出部输出的该描绘数据对应的图案光。

    曝光装置、曝光方法及电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN117581162A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202280045775.3

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 目的在于在多重曝光处理中抑制存储部的数据量增大。曝光装置具备:照明光学系统;空间光调制器,其通过来自照明光学系统的光而被照明;投影光学系统,其将从空间光调制器出射的光照射到曝光对象;载台,其载置曝光对象,使曝光对象和投影光学系统在规定的扫描方向上相对移动;以及控制部,其具有存储与曝光图案相关的信息的存储部,控制向曝光对象的曝光。控制部以执行第1工序和第2工序的方式控制向曝光对象的曝光,其中该第1工序基于与曝光图案相关的信息进行第1曝光,该第2工序基于在第1工序中使用的与第1曝光图案相关的信息中的至少一部分进行第2曝光。

    曝光装置、器件制造方法及平板显示器的制造方法

    公开(公告)号:CN117083572A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202280025233.X

    申请日:2022-04-05

    Abstract: 本发明的曝光装置包括:曝光单元,包括:包含多个元件且根据曝光图案而控制多个元件的空间光调制器、对空间光调制器进行照明的照明光学系统、以及将空间光调制器的像投影至基板上的投影光学系统;数据生成部,根据第2曝光图案来生成控制多个元件的控制数据;测量系统,在通过曝光单元将第2曝光图案曝光于基板上之前,对与第1曝光图案一并曝光的标记进行测量;以及控制部,根据由测量系统所得的标记的测量结果,来控制投影光学系统、空间光调制器及数据生成部中的至少任一者,从而控制由投影光学系统所得的基板上的投影位置;并且曝光单元设置有多个,将分割为多个的第2曝光图案分别曝光于上述基板上,控制部对每个曝光单元控制投影位置。

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