公开(公告)号：CN1723539B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200380105421.0

申请日：2003-12-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  马込伸贵

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/709

Abstract: 一种曝光装置，在投影光学系统(PL)与基片(P)之间的至少一部分用液体(50)充满，同时经由投影光学系统(PL)将图案像投影到基片(P)上对基片(P)进行曝光。对作为在移动基片(P)时与液体(50)接触的部分的光学元件(60)以及镜筒(PK)，实施调整与液体(50)的亲和性的表面处理。从而就防止了在投影光学系统与基片之间的液体中产生气泡，而且液体被经常维持在投影光学系统与基片之间，所以形成良好的浸液状态。

公开(公告)号：CN100552881C

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：CN200680015882.2

申请日：2006-03-31

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明的曝光装置具备：供应用以充满曝光用光的光路空间(K1)的液体的液体供应装置，与配置于曝光位置的基板表面相对向、且围住曝光用光的光路空间(K1)的第1岛面(75)，以及配置在第1岛面(75)外侧的第2岛面(76)。第1岛面(75)能将液体保持在与基板表面之间。第2岛面(76)设置成不会与和基板表面之间存在的液体的膜接触。据此，在一边移动基板一边进行曝光时，也能将曝光用光的光路空间以液体充满成期望状态。

公开(公告)号：CN1890779A

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN1420982A

公开(公告)日：2003-05-28

申请号：CN01807394.8

申请日：2001-03-29

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  青木贵史

IPC: G01N27/409 ,  G01N27/26 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G01N21/3504 ,  G03F7/70883

Abstract: 目的在于提供能高精度迅速地计测给定气体中包含的任意物质、并且作业效率良好的计测方法以及计测装置、曝光方法以及曝光装置。曝光装置S具有：能计测吸光物质的计测部M；能向计测部M供给光路空间LS内气体GS的气体供给装置N；能向计测部M供给减少了吸光物质的清净气体GT2的清净气体供给装置H；能交替切换对计测部M的气体GS以及清净气体GT2的供给的切换装置B。在减少了计测部M中的残留吸光物质的状态下，以高精度进行气体GS中包含的吸光物质浓度的计测。

公开(公告)号：CN104678715B

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201510058647.4

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/708 ,  G03F7/7095

Abstract: 本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN103748519A

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201280040882.3

申请日：2012-08-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。

公开(公告)号：CN102998910A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210468689.1

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法。提供曝光装置（EX），其具备投影光学系统（PL），该投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的像面的第1光学元件（LS1）。曝光装置（EX）具备：第1液浸机构（1），用以在设置于投影光学系统（PL）像面侧的透明构件（64）的上面（65）与第1光学元件（LS1）之间形成第1液体（LQ1）的第1液浸区域（LR1）；及观察装置（60），用以观察第1液浸区域（LR1）的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。

公开(公告)号：CN101354540B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200810160954.3

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN101589341B

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200880002821.1

申请日：2008-01-23

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种液体回收系统，其由浸没式曝光装置使用。该液体回收系统设置有：第一开口(33)；间隙部(15)，其设置成使得与第一开口相对的物体上的液体能够通过第一开口流进该间隙部；液体回收部，其通过多孔部件(30)来抽吸流进所述间隙部的液体的至少一部分；以及第二开口(34)，其不同于第一开口。所述间隙部通过所述第二开口向大气敞开。

公开(公告)号：CN1890779B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。