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公开(公告)号：CN102893197B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180024284.2
申请日：2011-05-09
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/08 , G02B17/0852 , G03B21/14 , G03B21/28
Abstract: 本发明所揭示的投影光学系统将图像投影在被投影面上。投影光学系统包括第一光学系统、折叠镜和第二光学系统，该第一光学系统包括至少一个折射光学系统并在总体上具有正光焦度，该第二光学系统包括至少一个具有光焦度的反射面并在总体上具有正光焦度。更进一步地，折叠镜将光路从第一光学系统折叠至第二光学系统，并在包括第一光学系统的光轴和被投影面的法线的平面上，满足以下条件表达式（1）至（3）：（1）0.43≤d1、（2）0.43≤d2和（3）0.7≤d2/d1≤2.0。
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公开(公告)号：CN102369471B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080014686.X
申请日：2010-03-15
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B13/06 , G02B9/62 , G02B13/0045
Abstract: 本发明提供一种广角镜头，所述广角镜头的场角超过180度，所述广角镜头包括以从目标侧到图像侧的顺序布置的前组、光圈和后组。前组包括以从目标侧到图像侧的指定顺序布置的其凸面面向目标侧的第一透镜(弯月形负透镜)、第二透镜(负透镜)和第三透镜(正透镜)。后组包括以从光圈侧到图像侧的顺序布置的第四透镜(正透镜)、第五透镜(负透镜)和第六透镜(正透镜)。因此，形成包括六个分离的透镜的成像系统。第三透镜由具有满足vdL3＜21的vdL3的阿贝数的材料制成。第五透镜由具有满足vdL5＜21的vdL5的阿贝数的材料制成。
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公开(公告)号：CN102227666B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN200980147285.9
申请日：2009-09-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B13/04 , G02B9/60 , G02B13/0045 , G02B13/18
Abstract: 一种广角透镜，包括：成像透镜系统，包括：从物侧到像侧按顺序安排的前透镜组、孔径和后透镜组；其中，所述前透镜组包括从物侧到孔径侧按顺序安排的分别具有负屈光力的第一和第二透镜元件、以及作为正透镜的第三透镜；其中，所述后透镜组包括从孔径侧到像侧按顺序安排的分别具有正屈光力的第四和第五透镜元件；其中，穿过孔径的最大视角的主光线到成像透镜系统的光轴的入射角是θI，满足以下表达式1∶40°(度)＜θI＜60°(度)...表达式1。
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公开(公告)号：CN102998782A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210448436.8
申请日：2012-09-12
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B17/0852 , G02B17/08
Abstract: 公开了一种投影光学系统，其包括第一光学系统和第二光学系统，该第一光学系统构造为形成与物体共轭的第一图像并具有光轴，该第二光学系统构造为投影与第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中，该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示该第一图像在该第一光学系统的光轴方向上的长度，该Im被该第一光学系统的焦距标准化，并且Tr表示该投影光学系统的投射比。
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公开(公告)号：CN102103312B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201110038832.9
申请日：2008-09-08
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明公开的是一种投影光学设备，包括：由具有屈光力的多个光学元件构成的形成与物体共轭的像的投影光学系统；以及构造为所述与物体共轭的像被投射的投影表面；没有屈光力的偏转元件，其被配置为偏转从所述投影光学系统出射的光束的光路以在所述多个光学元件之间通过所述光路被偏转的光束，其中在所述投影表面中心的投影表面法线不通过所述多个光学元件或所述多个光学元件之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102388331A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201080016182.1
申请日：2010-03-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B13/06
Abstract: 一种广角透镜，该广角透镜具有超过160度的场角，该广角透镜包括以从对象侧朝向图像侧的顺序布置的前组、孔径光阑和后组。前组包括凸表面面向对象的第一透镜(负凹凸)、第二透镜(负)、第三透镜(负)和第四透镜(正)，将它们从对象侧朝向图像侧的顺序布置。后组包括第五透镜(正)、第六透镜(负)和第七透镜(正)，将它们从孔径侧朝向图像侧的顺序布置。第五和第六透镜被组合在一起以形成具有正的折射屈光度的接合透镜。第五和第六透镜分别由具有大于或等于50和小于或等于30的阿贝数的材料制成。第七透镜面向图像的表面是非球面。
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公开(公告)号：CN101256273B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200710164879.3
申请日：2007-09-17
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B27/0025 , G02B17/08 , G02B17/0852 , G03B21/14 , G03B21/147 , G03B21/28 , H04N9/3102
Abstract: 提供一种投影光学系统，该投影光学系统包括：配置成形成与第一图像共轭的第二图像的第一光学系统和配置成包括反射来自该第二图像的光的反射光学元件并在投影表面上投影与该第二图像共轭的第三图像的第二光学系统，其中所述第一光学系统具有其符号与所述第二光学系统的佩茨瓦尔和的符号相反的佩茨瓦尔和。
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公开(公告)号：CN101520592B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200910006863.9
申请日：2009-02-26
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03B21/00
CPC classification number: G02B27/283 , G02B17/0804 , G02B27/1026 , G02B27/14 , G02B27/149
Abstract: 一种投影光学系统，其中从一个共轭面发射的多个光束进入另一共轭面，并且形成在所述一个共轭面上的像被投影在所述另一共轭面上，其包含：包括至少一个透镜的第一光学系统；以及包括至少两个具有光焦度的反射表面的第二光学系统，所述另一共轭面从投影在所述另一共轭面上的像的中心的法线与所述第一光学系统，或所述第二光学系统的任何空间，或所述第一光学系统和所述第二光学系统之间的空间没有相交，并且当由投影在所述另一共轭面上的像的垂直方向和所述法线的延伸方向限定的平面被设置为YZ平面时，从所述第一光学系统到所述另一共轭面，光路在所述YZ平面上仅相交一次。
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公开(公告)号：CN113574436A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080020735.4
申请日：2020-03-03
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种成像装置包括:成像元件；以及图像捕获光学系统，配置成在所述成像元件上生成物体的图像。该图像捕获光学系统具有倾斜度减小区域以及倾斜度增大区域，在倾斜度减小区域，相对于所述成像元件上生成的图像的视角的图像放大率的倾斜度变化随着所关心位置远离图像捕获光学系统的光轴而减小，在倾斜度增大区域，相对于所述成像元件上生成的图像的视角的图像放大率的倾斜度变化随着所关心位置远离图像捕获光学系统的光轴而增大。
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