光盘用原盘的制造方法和光盘的制造方法

    公开(公告)号:CN1610942A

    公开(公告)日:2005-04-27

    申请号:CN03801799.7

    申请日:2003-09-25

    CPC classification number: G11B7/261 Y10S425/81 Y10T428/24802

    Abstract: 一种光盘用原盘的制造方法和一种光盘的制造方法,该方法通过使用现有曝光系统,能够实现光盘的较高存储容量。制造光盘的方法的特征在于:使用形成有特定非均匀图案的原盘,所述图案是通过下列步骤形成的:在基片上形成抗蚀层,该抗蚀层由包含诸如W和Mo的过渡金属的不完全氧化物的抗蚀材料组成,不完全氧化物具有小于根据能够为过渡金属所拥有的化合价的理论配比成分的氧含量的氧含量,然后根据记录信号图案,使用激光束选择性曝光和显影抗蚀层,然后将非均匀图案传递到光盘上。

    制造生产光盘的母盘的方法和生产光盘的方法

    公开(公告)号:CN100409335C

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200380100324.2

    申请日:2003-12-24

    CPC classification number: G11B7/261 Y10S425/81

    Abstract: 制造生产光盘的母盘的方法包括:曝光过程,其中以记录激光辐射形成在衬底100上的无机抗蚀剂层101,通过对应于光盘上信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制该记录激光;以及之后的显影过程,其中在无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于无机抗蚀剂层的信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形;在曝光过程中,在抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光后,使评估激光辐射曝光部分,从反射光中评估抗蚀剂层的记录信号特征以基于评估结果确定记录激光的最佳焦点位置;因此从在抗蚀剂上的曝光部分的记录特征中预测并评估光盘的记录信号的特征(跳动值)以基于评估结果调节曝光聚焦位置,由此可制造具有适当凹形和凸形图形的母盘以及具有良好特征的光盘。

    制作用于制造光盘的母盘的方法和制造光盘的方法

    公开(公告)号:CN1692417A

    公开(公告)日:2005-11-02

    申请号:CN200380100300.7

    申请日:2003-11-20

    CPC classification number: G11B7/261 G11B7/1267

    Abstract: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括:曝光步骤,用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101),以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案,和显影步骤,显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的曝光图案。在曝光步骤中,将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域,利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性,并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。

    存储设备
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1574094A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410068403.6

    申请日:2004-05-27

    Abstract: 一种存储设备,包括一存储器元件,和一用于向所述存储器元件施加电压的施加装置,其中,随着所述施加装置向所述存储器元件施加电压,所述存储器元件改变其特性来在其上记录信息,当向存储器元件连续记录相同信息时,所述存储器元件进一步改变它的特性。所述存储设备具有一记录方法,包括步骤:当记录所述信息时,检测已经记录在所述存储器元件上的信息内容;将已经记录在存储器元件上的信息和要记录在存储器元件上的信息进行比较;如果所述两信息彼此不同,就向存储器元件上施加电压,来执行一般的信息记录处理;以及当所述两信息彼此相同时,就禁止执行一般的信息记录处理。因而,根据本发明的所述存储设备即使在连续记录信息时,也可以令人满意的执行记录操作。

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