导电膜及触控显示面板
    21.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207587404U

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201721133640.5

    申请日:2017-09-05

    Abstract: 一种导电膜,包括基层,所述基层包括可视区和非可视区,所述非可视区形成有标识图案;所述基层包括基材层和导电层,所述标识图案和导电层均设置于基材层上;另一种实施方式中所述基层上设置有导电层,所述标识图案设置于基层上;本实用新型还提供一种触控显示面板,包括了上述的导电膜。设置有这种标识图案的导电膜及触控显示面板,制造工艺简单,能适应各种生产设备的识别,提供了生产效率,还能有效防止产品信息丢失。

    一种透明导电膜及电容触控传感器及触控显示装置

    公开(公告)号:CN206209683U

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201621134332.X

    申请日:2016-10-19

    Abstract: 本实用新型公开了一种透明导电膜及电容触控传感器及触控显示装置,所述透明导电膜包括网格结构,所述网格结构包括多个凹槽单元,相邻的凹槽单元之间形成交叉结构,导电材料填充在凹槽内形成导电网格,其特征在于,所述交叉结构呈T字形。本实用新型的透明导电膜结构简单,通过这种类T字形结构设计,网格交叉点处的槽深宽比提高,从而导电材料可以充分纳入网格凹槽内。能够大幅度提升制程的良率、稳定性及抗静电性能,降低成本。

    触控面板及显示装置
    24.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206975619U

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201720390542.3

    申请日:2017-04-13

    Abstract: 本实用新型提供一种触控面板及显示装置,包括由上至下依次层叠设置的保护盖板、第一触控基板、第二触控基板和透明基板,该第一触控基板的上表面设有第一可视区导电层和第一非可视区导电层,该第二触控基板的上表面设有第二可视区导电层和第二非可视区导电层,该透明基板的上表面设有接地屏蔽层,该接地屏蔽层接地,该接地屏蔽层同时覆盖可视区和非可视区;或者该接地屏蔽层也可以设置在该第二触控基板的下表面。本实用新型通过在触控面板的底部设置接地屏蔽层,接地屏蔽层不仅能屏蔽触控面板向外发出的电磁波辐射,同时还阻隔外界杂讯信号对触摸屏干扰,如来自LCM、天线、主板等的信号,屏蔽层接地可以将外界杂讯信号引入大地加强抗干扰性。

    一种基于六方氮化硼的电致发光器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119342955A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202411874410.9

    申请日:2024-12-19

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 王涛 陈永辰 都薇

    Abstract: 本发明涉及一种基于六方氮化硼的电致发光器件及其制备方法,属于电致发光器件技术领域。本发明的基于六方氮化硼的电致发光器件,包括:金属基底;银纳米线层,设置于所述金属基底表面;六方氮化硼层,设置于所述银纳米线层表面;石墨烯层,设置于所述六方氮化硼层表面,并与所述金属基底接触;所述银纳米线层、六方氮化硼层和石墨烯层形成隧道结结构,克服了六方氮化硼大带隙的限制,通过电激发方式,实现了基于六方氮化硼的电致发光器件,具有在可见光到近红外波段的荧光发射。

    基于共轭微孔聚合物的复合催化剂及其制备和应用

    公开(公告)号:CN110152732A

    公开(公告)日:2019-08-23

    申请号:CN201910584833.X

    申请日:2019-07-01

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于共轭微孔聚合物的复合催化剂及其制备和应用,其制备方法包括以下步骤:将惰性载体进行酸化,然后再与硅烷偶联剂反应,得到表面修饰了氨基的载体;将所述表面修饰了氨基的载体与卤代苯甲醛反应,得到卤化载体;将卤化载体、第一单体和第二单体在催化剂的作用下进行偶联反应,得到共轭微孔聚合物修饰的载体;将共轭微孔聚合物修饰的载体与贵金属盐的有机溶液接触,并进行氢气还原反应,得到基于共轭微孔聚合物的复合催化剂。本发明将具有高耐辐照性能和疏水性的共轭微孔聚合物负载于惰性载体表面作为负载贵金属的基体来提高贵金属催化剂的催化性能及重启性能,用于氢及其同位素的催化氧化。

    一种激光熔覆熔池离焦量测量装置及其测量方法

    公开(公告)号:CN103983203B

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201410235777.6

    申请日:2014-05-29

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种激光熔覆熔池离焦量测量装置,包括壳体、镜头,依次连接的CMOS图像传感器、控制器和通信模块,所述CMOS图像传感器、控制器、通信模块设置于所述壳体内,所述镜头固定于所述壳体外部并与所述CMOS图像传感器相连接,所述镜头用于采集所述熔池实像并将其投射到所述COMS图像传感器表面,所述COMS图像传感器用于将所接收的光学实像转化为数字图像,所述控制器根据所述COMS图像光感器所转化的数字图像分析所述熔池位置,并转化为离焦量信息,所述通信模块向外传递熔池离焦量信息。本发明所揭示的激光熔覆熔池离焦量测量装置,能够在线实时测量出熔池离焦量,并将最终测量出的离焦量数据通过通信模块直接输出。

    激光光内送粉熔覆凹凸缺陷的修复方法及修复装置

    公开(公告)号:CN104651833B

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201510119382.4

    申请日:2015-03-18

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种激光熔覆工艺中凹凸缺陷的修复方法及相应装置,其中,所述修复方法包括如下步骤:S1.控制基体材料的凹凸缺陷表面中凹点位于环锥形聚焦激光束的初始负离焦位置;S2.控制环锥形聚焦激光束、位于激光束内部的粉束、以及位于粉束外围的保护气同轴出射;S3.控制激光束、连同其内部的粉束、粉束外围的保护气沿凹凸缺陷表面移动;S4.激光束将粉束熔化在材料表面并凝固成一层熔道,重复移动,通过逐层熔覆的方式逐步修复凹凸缺陷。本发明的修复方法基于中空激光以及光内送粉对基体材料的凹凸缺陷表面进行修复,同时,通过合理控制激光离焦量,在凹凸缺陷表面形成平整的熔覆层,修复了熔覆堆积成形的过程中成形表面因堆积产生的凹凸不平。

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