一种高透、高阻、高硬度共掺杂DLC薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112899631A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110109552.6

    申请日:2021-01-27

    Abstract: 本发明公开一种高透、高阻、高硬度共掺杂DLC薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1、清洗衬底,去除衬底表面污垢:S2、采用磁控三靶共溅射系统,将W靶与C靶分别放置于磁控三靶共溅射系统的两个靶位,W靶与C靶均采用直流电源,然后对磁控三靶共溅射系统抽真空、通入氩气、起辉,活化和清理靶材;S3、将衬底置于磁控三靶共溅射系统内,直流电源对磁控三靶共溅射系统抽真空,在真空度抽至6.0*10‑5Pa时,通入溅射气体氩气,起辉,进行预溅射;S4、在衬底表面溅射镀膜,得到所述共掺杂DLC薄膜;该方法既可以提高DLC薄膜的硬度,又可以达到高透过率,还能够改变薄膜的电阻,以达到高电阻的特性,满足器件更高的使用要求。

    一种低辐射镀膜玻璃
    27.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207193128U

    公开(公告)日:2018-04-06

    申请号:CN201721148332.X

    申请日:2017-09-08

    Abstract: 本实用新型涉及一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板(1),自玻璃基板表面向外采用磁控溅射法依次沉积第一电介质层(2)、第一保护层(3)、低辐射功能膜层(4)、第二保护层(5)、第二电介质层(6),其特征在于在第二电介质层上面制有第三保护层(7),第三保护层为非晶碳DLC膜或氮化碳CN膜层,厚度为10‑25nm。本实用新型具有以下优点和效果:本实用新型通过在低辐射镀膜玻璃最外侧增加一层非晶碳DLC膜或氮化碳CN膜,并且厚度相对较薄,因此在保证低辐射镀膜玻璃光学性能变化不大的情况下,可以显著提高其抗磨损、抗化学腐蚀等特性,从而解决毛刷清洗以及化学侵蚀对低辐射镀膜玻璃的影响。

    一种用于电子显示玻璃生产铂金通道的双搅拌装置

    公开(公告)号:CN211367393U

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN201922007518.9

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于电子显示玻璃生产铂金通道的双搅拌装置,包括有桶体,在所述桶体的上部设置有桶盖,桶体内设置有装载玻璃液的搅拌区域,在所述桶体的上部设置有进液通道通向所述搅拌区域,同时在所述桶体的下部设置有出液通道;在所述桶盖上设置有框架,并在所述框架内设置有驱动平台,在所述驱动平台上设置有减速电机,在所述减速电机上挂载有搅拌杆,所述搅拌杆通向所述搅拌区域,并在所述搅拌杆的下部设置有搅拌齿;将两级搅拌桶合二为一,在一个搅拌桶内设置双搅拌杆,采用非同步、反向旋转的搅拌模式,非规律的搅拌模式,以避免形成固定的流体场,以避免出现玻璃液搅拌死角,以增加玻璃液的搅拌效果,以及减缓降低玻璃液的温度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种柔性耐弯折高透低阻透明导电薄膜

    公开(公告)号:CN209071008U

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201821984651.9

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 本实用新型公开一种柔性耐弯折高透低阻透明导电薄膜,包括柔性基底,柔性基底顶面依次层叠有预制导电层、第一透明导电膜层、高透减反层、超导层以及第二透明导电膜层;预制导电层为铝膜、银膜、金膜、铜膜或钛膜;第一透明导电膜层为铝掺杂氧化锌薄膜、加镓掺杂氧化锌薄膜、铟镓掺杂氧化锌薄膜或硼掺杂氧化锌薄膜;高透减反层为单分散SiO2小球薄膜;超导层为铝膜、银膜、金膜、铜膜或钛膜;第二透明导电膜层为铝掺杂氧化锌薄膜、加镓掺杂氧化锌薄膜、铟镓掺杂氧化锌薄膜或硼掺杂氧化锌薄膜;该薄膜具有附着力强、成本低、透过率高、电阻低且性能稳定的特点。

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