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公开(公告)号:CN114394760A
公开(公告)日:2022-04-26
申请号:CN202111609910.6
申请日:2021-12-27
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: C03C15/00 , C03C17/245
Abstract: 本发明公开一种漫反射彩色玻璃的制备方法,包括:S1、清洗浮法玻璃;S2、对浮法玻璃进行单面封装,做阻止酸蚀保护处理;S3、将封装后的浮法玻璃浸入酸蚀液中酸蚀处理,酸蚀液由以下重量百分比的原料组成:15‑18%氢氟酸,15‑18%硫酸,11‑13%氟化氢铵,13‑15%氯化钾,5‑6%硫酸铵,3‑4%乙酸锌,3‑4%硝酸铝,3‑4%氯化钠以及25‑30%水;S4、将酸蚀后的浮法玻璃取出清洗,去除封装面;S5、对酸蚀玻璃非腐蚀面进行镀膜,采用磁控溅射法,ZrO2靶材,射频功率190‑210W,压力1.0‑1.4pa,Ar流量18‑22sccm进行镀膜。该方法能够制备得到高雾度漫反射彩色玻璃。
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公开(公告)号:CN113307501A
公开(公告)日:2021-08-27
申请号:CN202110611999.3
申请日:2021-06-02
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 , 蚌埠中光电科技有限公司 , 玻璃新材料创新中心(安徽)有限公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明涉及一种玻璃减薄加工装置,包括以下部件:a.吸盘(1)的矩形箱体(11)背面设有的抽气管(14)与腔体内腔联通,抽气管的中部设有电磁阀(15)、端部设有气插座(21);箱体背面设有电插座(22);b.第一插头组(3a)和第二插头组(3b),它们均由气插头(31)和电插头(32)组成;第一配气机构(4a)和第一配气机构(4b),它们均由真空泵(41)、第一压缩空气机构(5a),第一电源柜(42)组成。本发明对吸盘采用插拔式供气、供电设计,再加上常闭电磁阀设计,使吸盘可以脱离真空系统独立载运玻璃,移动灵活,适用于玻璃的单面加工,省去了张贴和揭掉保护膜,不仅大大降低了玻璃的破碎率,而且大幅提高了加工效率,实现了自动化连续生产。
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公开(公告)号:CN109308952B
公开(公告)日:2020-09-29
申请号:CN201811441773.8
申请日:2018-11-29
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明公开一种高透低阻可弯曲透明导电薄膜,包括柔性基底,柔性基底顶面依次层叠有预制导电层、第一透明导电膜层、高透减反层、超导层以及第二透明导电膜层;预制导电层为铝膜、银膜、金膜、铜膜或钛膜;第一透明导电膜层为铝掺杂氧化锌薄膜、加镓掺杂氧化锌薄膜、铟镓掺杂氧化锌薄膜或硼掺杂氧化锌薄膜;高透减反层为单分散SiO2小球薄膜;超导层为铝膜、银膜、金膜、铜膜或钛膜;第二透明导电膜层为铝掺杂氧化锌薄膜、加镓掺杂氧化锌薄膜、铟镓掺杂氧化锌薄膜或硼掺杂氧化锌薄膜;该薄膜具有附着力强、成本低、透过率高、电阻低且性能稳定的特点。
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公开(公告)号:CN111470784A
公开(公告)日:2020-07-31
申请号:CN202010482732.4
申请日:2020-06-01
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: C03C17/34
Abstract: 本发明公开一种高透过宽色系盖板玻璃,包括玻璃基板,所述玻璃基板的上表面设有微结构粗糙层,且微结构粗糙层的上表面设有Si基薄膜保护层,所述玻璃基板的下表面设有介质膜层,该盖板玻璃呈现结构色反射,且盖板玻璃近法线方向的可见光反射率≥6%,所述微结构粗糙层为凹凸的织构化结构,且凹凸的织构化结构为短程有序而长程无序排列;本发明利用微结构粗糙层使玻璃基板上表面形成短程有序、长程无序的微结构,提高了可见光的透过率,增加了通过漫反射衍射效应形成的结构色彩的饱和度;在高温大气环境下,通过玻璃基板上表面的Si基薄膜保护层能够提高盖板玻璃整体的耐磨、耐蚀性,增加对太阳光的有效透过率。
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公开(公告)号:CN110911525A
公开(公告)日:2020-03-24
申请号:CN201911123062.0
申请日:2019-11-16
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/0392 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/0232 , H01L31/0236 , H01L31/073
Abstract: 本发明公开一种柔性CdTe薄膜太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:取柔性基底,采用离子束溅射工艺清洁柔性基底;在柔性基底上依次制备下阻隔层、微结构层、透明导电层、上阻隔层、缓冲层、吸收层、背接触层与保护层;下阻隔层为TiO2、ZnO、Al2O3、SnO或In2O3薄膜;微结构层为为单分散SiO2小球薄膜;透明导电层为BZO、AZO、GZO、IGZO或ITO薄膜;上阻隔层为TiO2、ZnO、Al2O3、SnO或In2O3薄膜;最终得到柔性CdTe薄膜太阳能电池;本方法制备得到的薄膜太阳能电池能够提高对太阳能的吸收率,增强薄膜太阳能电池的整体性能。
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公开(公告)号:CN110808299A
公开(公告)日:2020-02-18
申请号:CN201911123061.6
申请日:2019-11-16
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: H01L31/0392 , H01L31/0236 , H01L31/0224 , H01L31/0216
Abstract: 本发明公开一种柔性高吸收率的薄膜太阳能电池,包括柔性基底,柔性基底顶面由下至上依次层叠有前电极、缓冲层、吸收层、背接触层与保护层,吸收层为CdTe薄膜,前电极包含由下至上依次层叠的下阻隔层、微结构层、透明导电层与上阻隔层;微结构层为单分散SiO2小球薄膜,SiO2小球直径为100~500 nm;缓冲层的厚度为40~120nm;吸收层的厚度为1500~2500nm;背接触层的厚度为5~30nm;保护层的厚度为10~40nm;该薄膜太阳能电池能够提高对太阳能的吸收率,增强薄膜太阳能电池的整体性能。
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公开(公告)号:CN109448922A
公开(公告)日:2019-03-08
申请号:CN201811441772.3
申请日:2018-11-29
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明公开一种柔性可弯曲电子信息玻璃的制备方法,包括以下步骤:S1、采用经过羟基化处理的柔性基底,在柔性基底表面制备预制导电层;S2、采用磁控溅射或原子层沉积工艺在预制导电层表面制备第一透明导电膜层;S3、在第一透明导电膜层表面制备高透减反层;S4、在高透减反层表面制备超导层;S5、采用磁控溅射或原子层沉积工艺在超导层表面制备第二透明导电膜层,得到所述柔性可弯曲电子信息玻璃;本发明方法能够制备出的柔性可弯曲电子信息玻璃具有附着力强、成本低、透过率高、电阻低且性能稳定的优点。
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公开(公告)号:CN108609862A
公开(公告)日:2018-10-02
申请号:CN201810560588.4
申请日:2018-06-04
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
IPC: C03C17/245
CPC classification number: C03C17/245
Abstract: 本发明公开一种增加超薄玻璃硬度与耐磨性的方法,包括以下步骤:S1、清洗玻璃基底,去除玻璃基底表面污渍并吹干;S2、将清洗后的衬底置入磁控溅射镀膜设备,烘烤磁控溅射真空腔体,排出磁控溅射真空腔体内的杂质分子;S3、烘烤结束后,以锆为靶材,采用射频电源,氩气与氧气为溅射气体,通过磁控溅射在玻璃基底的一侧表面沉积氧化锆薄膜;S4、翻转玻璃基底,采用与步骤S3相同的工艺在玻璃基底的另一侧表面沉积氧化锆薄膜;双面镀膜保证镀膜玻璃的机械强度,在一面受到刚力冲击时另一面不会轻易破损;工艺过程可以精确控制,保证氧化锆薄膜的厚度可控,满足透过率要求。
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公开(公告)号:CN106784089B
公开(公告)日:2018-05-01
申请号:CN201611188428.9
申请日:2016-12-21
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
IPC: H01L31/048 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50
Abstract: 本发明公开一种自陷光ZnO基透明导电玻璃的制备方法,包括以下步骤:S1、采用磁控溅射工艺,在玻璃衬底表面溅射生长下ZnO基薄膜;S2、采用液相法,在下ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的SiO2小球模板层;S3、采用磁控溅射工艺,在SiO2小球模板层上溅射生长上ZnO基薄膜,上ZnO基薄膜的厚度小于SiO2小球的直径,得到表面形貌呈凹凸织构化结构的自陷光ZnO基透明导电玻璃;结合磁控溅射与液相法镀膜的固有优点,在制备时,SiO2小球表面微结构可根据需要进行调整,使得上ZnO基薄膜的表面微结构容易控制,形成均匀性优良的表面微结构,实现高透过率、低电阻,制备工艺简单,降低成本,利于推广应用。
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公开(公告)号:CN107502868A
公开(公告)日:2017-12-22
申请号:CN201710795449.5
申请日:2017-09-06
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
Abstract: 本发明公开了一种高透、高阻W掺杂CN薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)选用超白高透玻璃作为衬底材料,并进行超声波清洗,达到去除衬底表面油污和灰尘的目的;2)清洗后的衬底材料置于样品架上,送入溅射腔室,通入Ar气,使C靶起辉,进行预溅射以去除表面的氧化物和杂质,预溅射完毕,通入N2气,通过与C靶的反应在衬底材料上制备出第一层CN薄膜,断开N2气,样品架转向W靶,W靶起辉溅射、镀膜,在第一层CN薄膜上制备出一层金属W膜,而后重复上述第一层CN薄膜的工艺进行第二次CN薄膜的制备,镀膜完成后得到高透、高阻W掺杂CN薄膜。本发明工艺参数简单,可变参数较少,重复性好,W的掺入进一步提高了CN薄膜的润滑性,使CN薄膜的应用领域进一步扩大。
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