公开(公告)号：CN104245609B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201380022734.3

申请日：2013-04-17

Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司

Inventor： W.莱曼 ,  A.霍夫曼 ,  T.凯泽 ,  M.阿尔恩特

IPC: C03B19/10 ,  F27B7/00

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/02 ,  C04B35/185 ,  C04B35/62665 ,  C04B35/64 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/94 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  C23C4/18 ,  C23C4/185 ,  F27B7/00 ,  F27B7/04 ,  F27B7/34

Abstract: 石英玻璃粒料的制备包括将热解制备的硅酸制粒、形成SiO2粒料和使所述SiO2粒料用处理气体玻璃化，所述处理气体含有至少30体积%的氦气和/或氢气。所述方法耗时且成本高。为了提供可以由多孔SiO2粒料起始以成本有效的方式制备致密的合成石英玻璃粒料的方法，其中所述石英玻璃粒料适合用于熔融由石英玻璃制成的无气泡组件，根据本发明所述SiO2粒料在具有含莫来石的陶瓷转筒的转筒炉中玻璃化，为此将含有摩尔份数至少45%的SiO2和Al2O3的起始粉末通过热粉末喷雾法施加到模具芯上以形成含莫来石的层，和随后移除模具芯，和其中所述陶瓷转筒用处理气体注满或用处理气体冲洗，其中所述处理气体含有至少30体积%的氦气和/或氢气。

公开(公告)号：CN105837010A

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201610249633.5

申请日：2016-04-21

Applicant: 太仓市建兴石英玻璃厂

Inventor： 沈建兴

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03C3/06

Abstract: 本发明公开了一种高性能石英管的制备方法，该制备方法包括如下步骤：a）选材备料，b）原料预处理，c）研磨混料，d）烤砂处理，e）热熔拉制，f）真空脱羟处理。本发明揭示了一种高性能石英管的制备方法，该制备方法工序安排合理，制备工艺简便，污染低，成本适中，所制得的石英管综合性能优良，可有效提高电子设备的使用寿命及性能。

公开(公告)号：CN103459336B

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201280017986.2

申请日：2012-02-15

Applicant: 信越半导体股份有限公司

Inventor： 木村明浩 ,  星亮二 ,  三田村伸晃 ,  镰田洋之

IPC: C03B20/00 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B19/095 ,  C03B32/00 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  C30B35/002 ,  Y02P40/57 ,  Y10T117/1032

Abstract: 本发明是一种石英玻璃坩埚的制造方法，其特征在于，其包含：步骤a，该步骤准备由石英玻璃所构成，且具有坩埚形状的坩埚基材；步骤b，该步骤利用直接法或火焰水解法(SOOT)制作合成石英玻璃材料；步骤c，该步骤将前述合成石英玻璃材料不作粉碎而加工成坩埚形状；及，步骤d，该步骤进行热处理，通过硅石粉末来粘结前述坩埚基材的内壁与前述加工成坩埚形状的合成石英玻璃材料的外壁。由此，提供一种石英玻璃坩埚及其制造方法、以及使用这种石英玻璃坩埚的单晶硅的制造方法，所述石英玻璃坩埚可以防止制造单晶硅时单晶硅产生位错，并且，具有高耐热性，可以抑制生产性、成品率的降低。

公开(公告)号：CN105050973A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201380060928.2

申请日：2013-11-21

Applicant: 欧罗克拉公司

Inventor： M·J·M·孔德 ,  E·勒孔特 ,  I·梅尔斯科特-查威尔

IPC: C03C3/085 ,  C03C4/02 ,  C03C10/14 ,  C03C4/10

CPC classification number: C03C14/006 ,  C03B20/00 ,  C03C3/085 ,  C03C4/02 ,  C03C4/10 ,  C03C10/0027

Abstract: β-石英铝硅酸锂(LAS)玻璃不含有氧化砷或氧化锑，使用氧化锡澄清并包含氧化钒、氧化铬和高氧化铁含量(大于950ppm)，且具有受控的透射率曲线。可由这类玻璃陶瓷制备的诸如炉灶面的制品。

公开(公告)号：CN104185613A

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201380017833.2

申请日：2013-03-26

Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司

Inventor： W.莱曼 ,  T.凯泽尔 ,  M.阿尔恩特 ,  A.霍夫曼

IPC: C03B20/00 ,  C03B5/033 ,  C03B19/10

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/033 ,  C03B5/0336 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  Y02P40/57

Abstract: 在用于由合成石英玻璃制造成型体的已知的方法中，在电加热的熔化容器（31）中在形成软化的石英玻璃块（57）的情况下加热石英玻璃晶粒（15）并且将软化的石英玻璃块（57）成形为成型体。为了即使在连续的熔化过程中也实现有利的熔化特性，按本发明提出，使用由晶粒微粒构成的合成产生的石英玻璃晶粒（15），其中夹杂氦气，其中所述石英玻璃晶粒（15）在形成SiO2颗粒（9）的情况下通过热解制造的硅酸的粒化来产生，并且随后在具有至少部分地由陶瓷材料制成的转筒（6）的转筒烘箱（1）中并且在包含至少30%体积百分比的氦气的处理气体中被玻化SiO2颗粒。

公开(公告)号：CN103791443A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201310521782.9

申请日：2013-10-29

Applicant: 三星康宁精密素材株式会社

Inventor： 李起渊 ,  金知满 ,  李在镐

IPC: F21V5/08 ,  F21Y101/02

CPC classification number: G02B6/0051 ,  C03B20/00 ,  C03B32/02 ,  G02B5/0236 ,  G02B5/0268

Abstract: 本发明提供了一种光漫射板、一种制造该光漫射板的方法以及一种包括该光漫射板的发光二极管（LED）照明装置。光漫射板使入射光被其漫射和散射而允许入射光穿过。光漫射板由其中形成有使入射光漫射和散射的晶体的结晶化玻璃制成。

公开(公告)号：CN102934199A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201180027801.1

申请日：2011-06-08

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 耶-库恩·维克特·王 ,  尚-I·周 ,  贾森·奥古斯蒂诺

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/268 ,  C03B20/00 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67115

Abstract: 一种具有内部充气室的石英窗，其通过向该充气室供应含臭氧的气体能运行作为光栅或者UV滤镜。能够调整该充气室内的压强以阻挡UV光透射进入所述脱气腔室中，或调整UV光通过所述窗的透射率。当排空所述充气室时，所述充气室使得进入所述脱气腔室的UV光的透射最大化。

公开(公告)号：CN101600663B

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN200780036216.1

申请日：2007-09-12

Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司

Inventor： W·维德克 ,  N·特瑞格 ,  J·韦伯

IPC: C03B19/06 ,  G02B5/02 ,  C03C17/02 ,  H05B3/00

CPC classification number: C03C17/02 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03C2218/11

Abstract: 一种已知用于制造石英玻璃的二氧化硅浆体，含有分散液体及粒度最大为500微米的非晶态二氧化硅颗粒，其中粒度范围为1微米至60微米的二氧化硅颗粒占最大体积含量，且此外粒度小于100纳米的二氧化硅纳米颗粒的含量为0.2重量％至15重量％的范围(基于总固体含量计)。为了据此制备一浆体，其流动特性尤其针对刮涂或浇注浆体物料的加工方面及针对不产生裂纹的干燥及烧结方面最优化，本发明建议，该二氧化硅颗粒具有多峰的粒度分布，粒度分布的第一最大值的范围为1微米至3微米且粒度分布的第二最大值的范围为5微米至50微米，且固体含量(二氧化硅颗粒及二氧化硅纳米颗粒的总重量含量)的范围为83％至90％。

公开(公告)号：CN101511744B

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN200780033716.X

申请日：2007-09-11

Applicant: 东曹株式会社 ,  东曹SGM株式会社

Inventor： 新井一喜 ,  高畑努 ,  桥本真吉 ,  内田雅人 ,  山田修辅 ,  原田美德 ,  堀越秀春

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: 一种熔融石英玻璃，其对于波长245nm的紫外光，在10mm厚度内的内透过率为95％以上，OH含量为5ppm以下，Li、Na、K、Mg、Ca、Cu的含量各自为不足0.1ppm。优选该熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为1011.5Pa·s以上，另外，1050℃下在大气中放置24小时的、在距表面的深度超过20μm起至100μm的区域中的Cu离子的扩散系数为1×10-10cm2/秒以下。该熔融石英玻璃通过将原料硅石粉末方英石化后在非还原性气氛中熔融而制造。该熔融石英玻璃具有紫外线、可见光、红外线的透射率高、高纯度且耐热性高以及金属杂质的扩散速度小的特性，适合作为各种光学材料、半导体制造用部件、液晶制造用部件等。

公开(公告)号：CN101687680A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880022925.9

申请日：2008-06-18

Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司

Inventor： W·沃德克 ,  J·莱斯纳

IPC: C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  C03C1/00 ,  C03C3/06 ,  C03C17/02 ,  C03C17/25

CPC classification number: C03C1/006 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03C1/008 ,  C03C3/06 ,  C03C17/02 ,  C03C2203/22 ,  C03C2218/11

Abstract: 本发明涉及为了优化从不透明石英玻璃和致密封闭层的基体生产复合体的已知方法，其方式是该基体能够提供有致密封闭层但无需担心不透明材料的任何显著的变化和变形。根据本发明，建议一种方法，该方法包括下面步骤：(a)通过使用含有较大无定形SiO 2 颗粒的第一种滑移剂生产基体；(b)制备第二种滑移剂，它含有较小无定形SiO 2 颗粒并且它的组成与第一种滑移剂的组成的区别至少在于它含有在0.2wt％到15wt％之间的SiO 2 纳米颗粒并且它通过较低玻璃化温度来表征；(d)在基体的表面上从第二种滑移剂生产滑移剂层，干燥该滑移剂层，和(e)随后使滑移剂层发生玻璃化，从而形成致密封闭层。