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公开(公告)号：CN119930995A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202510127163.4
申请日：2025-01-31
Applicant: 中国科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用。本发明采用一步简单的开环易位聚合法制备了偶氮苯聚合物，赋予其优异的热稳定性和光稳定性，能够在高温和太阳光照射条件下保持其卓越的性能。与传统纳米压印光刻胶相比，本发明纳米压印光刻胶在纳米压印过程中具有更高的稳定性和精度，能有效减少压印的图案失真、模糊等问题，保证了纳米结构转印的准确性。在提高成品质量和生产效率的同时，降低了制造过程中的不确定性和成本。
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公开(公告)号：CN119916644A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510405301.0
申请日：2025-04-02
Applicant: 湖南初源新材料股份有限公司
Abstract: 本发明提供了包含炔基蒽光敏剂的感光树脂组合物及其应用，该光敏剂的结构主体蒽环在9和/或10位上引入共轭的炔基官能团。相比于现有的DBA光敏剂，炔基的引入扩大了共轭体系的尺寸，拉长了分子的最大吸收波长，提升了引发效率，尤其适用于405nm光照条件下的光引发体系，降低了曝光能量，同时也保证了良好的溶解性和配方的相容性；此外，相比于现有的DBA类光敏剂，不会产生小分子碎片，不会迁移至聚乙烯膜，并且在曝光显影后进行电镀工序时，不会造成片段析出污染电镀液，从而避免抗蚀图案的短路、断路等不良现象，显著提高产品的良品率；可广泛应用于干膜、油漆、涂料、油墨和成型材料等光固化领域中。
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公开(公告)号：CN119916643A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510119702.X
申请日：2025-01-24
Applicant: 杭州福斯特电子材料有限公司
Abstract: 本发明提供了一种感光树脂组合物，该感光树脂组合物包括：碱溶性树脂、光引发剂、热固化剂以及耐化学沉镍金助剂；其中，耐化学沉镍金助剂选自硅酸盐、过渡金属化合物、黄原酸类化合物、二硫代胺基甲酸盐类衍生物、瓜环化合物、聚醚有机物、冠醚化合物或离子交换树脂中的一种或多种。本发明通过向感光树脂组合物中添加上述类型的耐化学沉镍金助剂，能够有效地提高感光树脂组合物在化学沉镍金处理过程中的耐化金性、解析性和柔韧性以及深层固化性，有利于提高固化膜的综合性能。
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公开(公告)号：CN119916642A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510094067.4
申请日：2025-01-21
Applicant: 东莞市彼艾斯电子科技有限公司
Inventor： 徐相烈
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , C08F220/18 , C08F220/06 , C08F212/08 , C08F220/24 , H01L21/48 , H05K3/00
Abstract: 本发明提供了一种感光性干膜及其制备方法和应用，属于感光材料技术领域，所述制备方法包括以下步骤：将碱溶性树脂、改性树脂、感光单体、光引发剂、甲醇、丙酮和消泡剂加入搅拌釜中搅拌，得到感光性树脂浆料；将感光性树脂浆料涂布在基材层上，烘烤，形成感光层；将保护层贴合到感光层上，即得。其中，所述的碱溶性树脂以甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸、丙烯酸苄基酯、苯乙烯和甲基丙烯酸十二氟庚酯为单体反应得到。本发明制备的感光性干膜具有优异的附着力和解析度，良好的耐酸性能、抗电镀能力、盖孔性能和抗蚀刻能力，有助于提高良品率和增加产能。
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公开(公告)号：CN119912372A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202411933513.8
申请日：2024-12-25
Applicant: 珠海莫界科技有限公司
IPC: C07C323/12 , C07C323/19 , C07C319/20 , C09K11/06 , G03H1/02 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 一种(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用，其结构通式如式G1、G2和G3所示：#imgabs0#其中，R1为甲基或氢；R2、R3选自氢、苯基、甲基或#imgabs1#其中#imgabs2#中的A1为苯基或甲基。本发明提出的(甲基)丙烯酸酯类单体，整个单体的分子尺寸相对较小，整个单体具有多个支链结构，柔韧性好，具有高折射率，与其他组分相溶性好。
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公开(公告)号：CN114280886B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202111509316.X
申请日：2021-12-10
Applicant: 杭州福斯特应用材料股份有限公司
Inventor： 黄黎明
Abstract: 本发明提供了一种感光组合物、感光覆盖膜、线路板及其制备方法。以重量份计，该感光组合物包括：40～60份的羧酸化树脂聚合物、12.5～15.5份的碱溶性树脂、1.5～4.0份的光引发剂、以金属离子源中的金属离子计时，20～40份的金属离子源、0.1～1.9份的还原剂；其中，还原剂在光照或加热的条件下将金属离子源中的金属离子还原为金属，碱溶性树脂的酸值为70～100KOH/(mg/g)。上述的感光组合物能够形成兼具有优良导电性和强度的导电金属薄层。后续可再经由电镀铜达到线路板整体所需厚度，避免因蚀刻浪费的铜箔以及蚀刻液的污染，既简化了工艺又降低了成本。
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公开(公告)号：CN119882348A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411482622.2
申请日：2024-10-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。该抗蚀剂底层组合物包括：包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合的聚合物；由化学式4至化学式6中选择的一者或多者表示的化合物；以及溶剂。化学式1到化学式6的定义如说明书中所述。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119882347A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411473525.7
申请日：2024-10-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有被碘原子取代的芳基磺酸阴离子键结于主链的锍盐或錪盐结构。
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公开(公告)号：CN119874973A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411980640.3
申请日：2024-12-31
Applicant: 苏州威迈芯材半导体有限公司
IPC: C08F112/14 , C08F8/12 , C08F8/00 , C08F8/42 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供了一种光刻胶用多组分苯乙烯类树脂的制备方法，所述制备方法通过后接入酸敏基团的方式，成功制备出组分可控、批次稳定的光刻胶用多组分苯乙烯类树脂，解决了现有自由基聚合各组分比例不稳定以及阴离子聚合反应时含有酯基的苯乙烯单体无法聚合等问题。本发明中所制备的多组分苯乙烯类树脂的平均重均分子量为5000‑20000，PDI为1.1‑1.4。因此，本发明中所提供的制备方法具有良好的量产推广潜力。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119874763A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510370330.8
申请日：2025-03-27
Applicant: 珠海基石科技有限公司
IPC: C07F7/22 , G03F7/00 , H01L21/027 , G03F7/004
Abstract: 本申请涉及金属‑有机杂化图案化材料技术领域，具体涉及一种单锡配合物及其制备方法、图案化组合物、形成图案的方法和图案化薄膜。该单锡配合物结构如下述式（1）所示：#imgabs0#式（1）；其中，X是硫或硒，R1是取代或未取代的C1到C20烷基，R2到R5各自独立地选自氢、取代或未取代的C1到C20烷基。该单锡配合物为五配位金属化合物，空间位阻大，能够避免金属锡被环境中的水分子进攻发生水解，产生沉淀，稳定性好且在多种有机溶剂中溶解度好。
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