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公开(公告)号:CN114163557B
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202111601683.2
申请日:2021-12-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C08F212/08 , C08F212/36 , C08F2/44 , C08K5/353 , C08K5/01
Abstract: 本发明公开了一种有机塑料闪烁体的制备方法,包括:将2,5‑二苯基噁唑、苯乙烯、二乙烯基苯、偶氮二异丁腈和移波剂按一定比例混合,对混合液进行负压低温超声分散处理,再进行超临界二氧化碳混合处理;将处理后的混合液进行梯度升温加热,降温后得到有机塑料闪烁体毛坯;将有机塑料闪烁体进行低温处理后,再对其进行机械切割和抛光处理。本发明中采用的负压低温超声分散处理和超临界二氧化碳混合处理,可以让PPO分散更均匀;原料中除PPO为光谱级外,其余各类试剂均为分析纯,不需要进行纯化处理即可直接使用,避免了复杂操作及纯化过程引入杂质的可能性;制备的有机塑料闪烁体PPO含量高达50%,且无气泡、不脆裂、稳定性好。
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公开(公告)号:CN114163557A
公开(公告)日:2022-03-11
申请号:CN202111601683.2
申请日:2021-12-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C08F212/08 , C08F212/36 , C08F2/44 , C08K5/353 , C08K5/01
Abstract: 本发明公开了一种有机塑料闪烁体的制备方法,包括:将2,5‑二苯基噁唑、苯乙烯、二乙烯基苯、偶氮二异丁腈和移波剂按一定比例混合,对混合液进行负压低温超声分散处理,再进行超临界二氧化碳混合处理;将处理后的混合液进行梯度升温加热,降温后得到有机塑料闪烁体毛坯;将有机塑料闪烁体进行低温处理后,再对其进行机械切割和抛光处理。本发明中采用的负压低温超声分散处理和超临界二氧化碳混合处理,可以让PPO分散更均匀;原料中除PPO为光谱级外,其余各类试剂均为分析纯,不需要进行纯化处理即可直接使用,避免了复杂操作及纯化过程引入杂质的可能性;制备的有机塑料闪烁体PPO含量高达50%,且无气泡、不脆裂、稳定性好。
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公开(公告)号:CN113447123A
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN202010222056.7
申请日:2020-03-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明公开了一种连续分布集成超表面微型光谱传感系统,涉及光谱测量领域,主要技术问题是解决当前光谱仪尺寸大、重量重、不易于集成的问题。该系统包括超表面分光子系统、消色差成像子系统和面阵探测器;面阵探测器上设置有消色差成像子系统,消色差成像子系统上设置有超表面分光子系统;超表面分光子系统包括基底和设置于基底上且连续排列的超原子;超表面分光子系统分为N×M个区域,每个区域包含多个且相同的超原子;每一个区域对应一个谐波波长。本发明具有高集成化、高可靠性、与半导体工艺兼容等优点。
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公开(公告)号:CN108613956A
公开(公告)日:2018-10-02
申请号:CN201810440691.5
申请日:2018-05-09
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
CPC classification number: G01N21/6428
Abstract: 一种气体检测装置、传感器、光子晶体及其制备方法,属于传感器领域。用于作为传感器的敏感元件的光子晶体包括第一单元和第二单元。第一单元为连续相,第一单元内均匀分布有多个孔隙,第二单元为分散相,第二单元分散在第一单元的多个孔隙内,第二单元与第一单元的介电常数不同,第二单元能够与传感器的气体检测装置作用而改变光子晶体的光学特性。利用光子晶体传感器能够实现对气体材料的响应,从而完成对气体的检测。
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公开(公告)号:CN108445615A
公开(公告)日:2018-08-24
申请号:CN201810272728.8
申请日:2018-03-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件面散射缺陷探测装置,包括载物台、照明系统及成像系统,其中,载物台用于承载和移动待测光学元件,以使待测光学元件的被测位置位于成像系统的视场中心,照明系统包括固定架和多个发光单元,固定架在载物台所在平面的投影的中心落在载物台,多个发光单元固定于固定架,以使多个发光单元发出的光会聚于被测位置,成像系统用于拍摄被测位置。本申请提供的光学材料面散射缺陷探测装置可实现对光学元件表面散射缺陷进行多角度照明,可在提高表面散射缺陷成像质量的同时大大降低缺陷的漏检概率。
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公开(公告)号:CN208156291U
公开(公告)日:2018-11-27
申请号:CN201820440975.X
申请日:2018-03-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件面散射缺陷探测装置,包括载物台、照明系统及成像系统,其中,载物台用于承载和移动待测光学元件,以使待测光学元件的被测位置位于成像系统的视场中心,照明系统包括固定架和多个发光单元,固定架在载物台所在平面的投影的中心落在载物台,多个发光单元固定于固定架,以使多个发光单元发出的光会聚于被测位置,成像系统用于拍摄被测位置。本申请提供的光学材料面散射缺陷探测装置可实现对光学元件表面散射缺陷进行多角度照明,可在提高表面散射缺陷成像质量的同时大大降低缺陷的漏检概率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN205880274U
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201620882010.7
申请日:2016-08-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B6/02
Abstract: 本实用新型公开了一种高双折射复合光子晶体光纤,包括:纤芯和环绕于纤芯的包层,所述包层中设置有多个第一空气孔,多个所述第一空气孔以所述纤芯为中心从内至外依次环绕纤芯,所述第一空气孔的结构相同,所述纤芯包括基底材料和设置于基底材料内的第二空气孔,所述第二空气孔与所述第一空气孔之间设置有第三空气孔。本实用新型中所述第二空气孔与所述第一空气孔之间设置有第三空气孔,光纤结构不具备旋转对称性,不存在简并的正交偏振模,从而表现出很高的双折射。同时由于纤芯中空气孔的引入,太赫兹波有很大部分能量在低损耗空气孔中传输,大大降低了光纤的损耗,具有结构简单和容易实现等优点。
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公开(公告)号:CN205880273U
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201620881365.4
申请日:2016-08-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B6/02
Abstract: 本实用新型公开了一种高双折射低损耗光子晶体光纤,包括:纤芯和环绕于纤芯的包层,所述包层中设置有多个第一空气孔,多个所述第一空气孔以所述纤芯为中心从内至外依次环绕纤芯,所述第一空气孔的结构相同,所述纤芯包括基底材料和设置于基底材料内的第二空气孔,所述第二空气孔呈类椭圆状。本实用新型由于纤芯中引入了非对称的类椭圆的第二空气孔,该结构不具备旋转对称性,不存在简并的正交偏振模,从而表现出很高的双折射。同时由于纤芯中第二空气孔的引入,太赫兹波有很大部分能量在低损耗空气孔中传输,大大降低了光纤的损耗,具有结构简单和容易实现等优点。
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公开(公告)号:CN211889499U
公开(公告)日:2020-11-10
申请号:CN202020455209.8
申请日:2020-04-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/60
Abstract: 本实用新型提供了一种激光预处理系统,该系统包括:激光脉冲产生装置以及用于放置目标光学元件的样品台,其中,激光脉冲产生装置包括激光器、幅度调制器以及波形发生器。激光器产生种子激光的输入到幅度调制器,经过幅度调制器在波形发生器产生的预设整形电脉冲驱动下的调制处理,形成预设整形激光脉冲,并照射到所述样品台上放置的目标光学元件上,对所述目标光学元件表面进行激光预处理,有效地提升了对目标光学元件的激光预处理效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN208156292U
公开(公告)日:2018-11-27
申请号:CN201820441013.6
申请日:2018-03-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件体散射缺陷探测装置,光学元件为长方体结构,包括多个光束照射面;光学元件体散射缺陷探测装置包括光源、三维平移台、分光单元、照明系统及成像系统,光源用于发出光束L0;三维平移台用于承载和平移光学元件;分光单元用于将光束L0分为两束光束;照明系统用于将两束光束分为多束光束后垂直入射多个光束照射面,以形成多光束交叠照明区域;成像系统用于对多光束交叠照明区域进行成像。本申请提供的光学材料体散射缺陷探测装置可实现对体缺陷多角度照明,从而获得材料体内大部分缺陷的清晰成像,对于判断材料质量具有重要参考价值。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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