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公开(公告)号：CN113720850B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202110822801.6
申请日：2021-07-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/88 , G01N21/64 , G01N21/01 , G06T3/4038
Abstract: 本发明公开了一种少量离散缺陷图像的精确拼接方法，包括构建缺陷检测装置；选取一光学元件的样品，找出一能激发荧光的点作为标记点；将样品安装在样品台上，表面分为数个成像区域，采用缺陷检测装置对样品扫描成像得到每个成像区域的子孔径散射图像与子孔径荧光图像；再图像拼接。本发明采用了散射成像与荧光成像双通道技术实现散射信号与荧光信号的同步、原位成像，充分利用散射图像特征点较多的特点，进行大视场全孔径图像拼接，解决了定位不准的问题，还提高了检测效率，尤其是对大尺寸光学元件的亚表面缺陷检测，可以使图像采集与图像处理同步进行，进一步节约时间成本，实现熔石英元件表面、亚表面缺陷的快速、高精度筛选表征。
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公开(公告)号：CN115826258A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211642284.5
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种无焦激光镜组、精密装调装置及精密装调方法，无焦激光镜组包括元件，所述元件设置有至少两个；镜框，所述镜框用于对元件进行固定；以及连接杆，所述连接杆至少设置三根，每一根所述连接杆将多个镜框连接在一起；精密装调装置包括激光光源、半反半透镜、第一扩束/缩束镜组、反射镜、第二扩束/缩束镜组以及波前传感器；装调方法包括：S01、获取参考波像差；S02，无焦激光镜组光学元件调整与测试；S03、锁定光学元件位姿关系；S04、无焦激光镜组组装；S05、无焦激光镜组复测；既不会带来色差，也不存在波前差难以准确扣除的问题，并且能够实现良好的装调效果。
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公开(公告)号：CN110132993B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN201910529654.6
申请日：2019-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/896 , G01N21/89
Abstract: 本发明公开了一种快速检测光学膜层节瘤缺陷的装置，属于光学膜技术领域，包括样品台、三维电动移动平台、成像采集单元和控制分析单元，所述成像采集单元包括一个光源模块和两个成像模块，所述光源模块包括激光器、扩束系统和半透半反反射镜，所述两个成像模块分别是普通显微成像模块和相位成像模块，所述普通显微成像模块包括依次排列的成像物镜、适配器和普通成像相机，所述相位成像模块包括依次排列的成像物镜、适配器和相位成像相机，本发明可以获得节瘤缺陷的三维信息包括纵向信息，可以判断较小尺寸的节瘤缺陷；特别适合特大型高功率激光系统中常用的大口径光学元件膜层缺陷的检测与成像。
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公开(公告)号：CN111208064A
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN202010150613.9
申请日：2020-03-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种光学元件亚表面缺陷快速检测装置和检测方法，其中，检测装置包括用于放置待测光学元件的样品台，用于对光学元件进行扫描的成像模块，用于控制样品台、监测成像模块并采集成像模块图像的控制系统，以及对采集图像进行拼接的图像处理系统；所述的成像模块包括散射成像模块、荧光成像模块以及共聚焦荧光成像模块。利用本发明，不仅可以得到光学元件全口径的散射图像、荧光图像以及光致发光亚表面缺陷图像；也可以获得缺陷的分布、位置、强度、大小、密度等信息；同时可对关键缺陷区域通过共聚焦模式进行定位及高分辨精检，获得关键缺陷的深度信息，从而为光学元件亚表面缺陷分布提供全面的三维分布特征信息。
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公开(公告)号：CN109814182A
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201910197296.3
申请日：2019-03-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/14
Abstract: 本发明公开了一种提高高功率激光系统传输管道内壁抗杂散光损伤阈值的方法，属于激光光学技术领域，其方法是在所述高功率激光系统传输管道内壁设置涂层，所述涂层为抗激光损伤阈值高于金属表面4倍-10倍的透明硅氟橡胶；通过本发明的方法，可以使得入射至金属表面的激光能量密度降低4倍-10倍，从而实现高功率激光系统传输管道内壁抗杂散光损伤阈值的提高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107063641A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710027947.5
申请日：2017-01-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: G01M11/00 , G01N21/6402
Abstract: 本发明公开了一种无损评价光学元件损伤性能的方法，连续激光器能发出连续激光，经第一能量调节器、第一透镜、反射镜、样品正面后，照射到样品背面，连续激光经样品反射的反射方向上设有残余激光收集器；脉冲激光器能发出脉冲激光，经第二能量调节器、缩束系统、劈板、第二透镜后，照射到样品背面。本发明通过对于待测光学元件相同的元件，进行多样品、多位置的测试，获得此类光学元件中，荧光缺陷数据与激光损伤阈值和损伤密度的关联关系，从而对待测样品进行测量时，通过测量其荧光缺陷数据，从而推算出损伤阈值和损伤密度。该方法可以通过无损检测光学元件的荧光缺陷获得光学元件的损伤性能水平，实现光学元件损伤性能的无损评价。
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公开(公告)号：CN104324923A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410500521.3
申请日：2014-09-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B08B11/02
CPC classification number: B08B11/02
Abstract: 本发明公开了一种清洗夹持装置，属于光学元件洁净工程领域，所述的装置适用于多种形状，各种口径的光学元件夹持。本发明装置包括吊装梁、承重梁、夹持梁，其中下夹持梁中心设置有调节V形槽，配合调节螺杆和螺母可以实现调节V形槽内外向控制，以适用于不同尺寸规格的光学元件，吊装梁、承重梁和夹持梁全部采用整体设计。本发明所有材料均采用聚四氟乙烯材料。本发明装置在清洗过程中不会残留任何清洗残渣，光学元件在提出液面液体可以顺着夹持装置和元件侧面引流，避免了对光学元件的污染，尤其适用于腐蚀性清洗环境，具有操作简单，使用灵活方便的优势。
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公开(公告)号：CN119736719A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411938352.1
申请日：2024-12-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种提升蓝宝石光学元件高压冲击损伤阈值的后处理方法，包括：首先通过高温化学腐蚀反应暴露并钝化亚表面缺陷，再通过高温下磷酸反应去除不溶解的反应沉积物，随后通过多频超声波交替复用辅助NaOH溶液去除多余的酸性物质，最后通过多频超声波交替复用辅助高纯水和表面活性剂进行漂洗。本发明可以对蓝宝石光学元件进行全局处理，通过高温下特定比例的硫酸和磷酸混合溶液腐蚀处理，再通过磷酸溶解去除沉积层，暴露亚表面层中的划痕和凹坑、且有效钝化划痕中的尖锐形貌，从而有效提高蓝宝石高压冲击损伤阈值。
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公开(公告)号：CN117961262A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311103942.8
申请日：2023-08-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Inventor： 洪伟 , 魏列宁 , 郑万国 , 雷向阳 , 朱启华 , 柴向旭 , 粟敬钦 , 蒋晓东 , 周松 , 周信达 , 刘红婕 , 郑垠波 , 周维民 , 张智猛 , 黄进 , 崔波 , 孟令彪
Abstract: 本发明属于激光预处理技术领域，具体涉及一种非线性光学晶体的激光预处理方法。本发明采用光子能量为Eg/2～Eg的激光对非线性光学晶体进行辐照，Eg为晶体的禁带宽度。本发明基于双光子吸收的激光预处理方法比基于三光子吸收的激光预处理的效率有极大提高。由实施例、对比例及现有技术对比，结果表明，本发明采用比355nm弱很多的266nm的激光，在激光功率密度只有0.13GW/cm2的条件下，比预处理前的零概率体损伤阈值提升120％。而且本发明基于双光子吸收的KDP晶体激光预处理除了具有比三光子吸收激光预处理更高的预处理效率外，还有比三光子吸收激光预处理在提升晶体体损伤阈值上更大的潜力。
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公开(公告)号：CN115951537A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211505305.9
申请日：2022-11-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02F1/29 , G02F1/1343 , G02F1/1337 , G03F7/20 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供一种耐受激光功率的液晶光学相控阵器件及其制备方法。本发明液晶光学相控阵器件，自下至上依次包括：基底、阵列电极层、取向层、液晶层、取向层、导电层、基底；所述阵列电极层的每个电极上以及导电层上设置有亚波长阵列孔结构。本发明巧妙绕开了常规的技术思路，通过在导电层薄膜表面制备亚激光波长的增透阵列结构，实现需求激光波段的高透过性能，从而弥补当前液晶相控阵光束偏转器件在耐受激光功率方面的技术短板。该技术途径不仅可以有效降低激光能量在器件内部形成的热累积，又极大程度地提高了光能利用率，进而提升整个器件的功能性水平。
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