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公开(公告)号：CN101098945B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN200580025049.1
申请日：2005-08-01
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C09K3/18 , C09D183/04 , C09D5/00 , B05D5/00 , B05D7/24 , C08L83/04 , C08K5/5419 , C03C17/30 , C03C23/00
CPC classification number: C03C17/3405 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/32 , C03C2218/33 , C08G77/24 , C08K5/5406 , C09D5/00 , C09D183/04 , C09D183/08 , C09D183/14 , C09K3/18
Abstract: 本发明是关于用于得到滑水性被膜的处理剂，该处理剂是混合在至少一个末端具有2个或3个可水解的官能基且二甲基硅氧烷单元(Si(CH3)2O)数是30～400的直链状聚二甲基硅氧烷，具有可水解的官能基且氟碳单元(CF2或者CF3)数是6～12的氟烷基硅烷，以及含有有机溶剂、酸和水的溶液而构成的。该处理剂相对处理剂的总量，按重量浓度，混合0.2～3.0重量％上述直链状聚二甲基硅氧烷、0.2～2.0重量％上述氟烷基硅烷、而且0.5～3.5重量％上述直链状聚二甲基硅氧烷和上述氟烷基硅烷的总量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102934207A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201180028305.8
申请日：2011-06-03
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/306 , G03F7/40
Abstract: 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案（2）且该凹凸图案（2）的至少一部分含有硅元素的晶片（1）时在该凹凸图案（2）的至少凹部表面形成拒水性保护膜（10）的化学溶液。该化学溶液包含通式：R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A，该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN101309759B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200680042759.X
申请日：2006-09-21
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: B05D1/36 , C09D5/33 , C09D7/12 , C09D183/04
CPC classification number: C09D5/32 , C03C17/008 , C03C17/009 , C03C17/30 , C03C2217/445 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , C03C2217/476 , C03C2217/485 , C03C2218/113 , C08K3/22 , C09D1/00 , C09D7/20 , C09D7/47 , C09D7/61 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供了形成有热射线屏蔽膜的基体部件的制备方法，包括如下步骤：混合通过使用初始原料三烷氧基硅烷或三烷氧基硅烷和四烷氧基硅烷形成的溶胶溶液与其中分散有锡掺杂氧化铟超细颗粒的溶液以制备处理剂的步骤；及将所述处理剂施用到基体部件上的步骤。在该制备方法中，处理剂具有沸点100-200℃的有机溶剂作为分散介质，通过将保持处理剂的部件与基体部件接触的方式或通过喷涂处理剂的方式进行施用，从而将要形成的膜的雾度值调整到0.5％或更低。
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公开(公告)号：CN101939114A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200980104401.9
申请日：2009-01-21
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/002 , B05B12/04 , B05B12/122 , B05B13/0221 , B05B13/0278 , B05B15/55 , B05B15/68
Abstract: 在向中央部以凹状弯曲那样的不同形状的玻璃板的上表面涂布涂布液的装置中，包括：能自由调整涂布喷嘴(2)的高度的喷嘴高度调整机构(30)；能自由调整涂布喷嘴(2)的水平方向的位置的喷嘴位置调整机构(10)；使涂布喷嘴(2)打开而供给涂布液的控制器。采用该结构，能够无涂布不均地均匀地涂布。另外，在向矩形的玻璃板的上表面涂布涂布液的装置中，从多个涂布喷嘴(11)排出的带状涂布面彼此之间的间隔为a/4～a/30(其中带状涂布面的宽度为a)。采用该结构，能在规定的时间之后通过整平使膜厚均匀。
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公开(公告)号：CN101309759A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200680042759.X
申请日：2006-09-21
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: B05D1/36 , C09D5/33 , C09D7/12 , C09D183/04
CPC classification number: C09D5/32 , C03C17/008 , C03C17/009 , C03C17/30 , C03C2217/445 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , C03C2217/476 , C03C2217/485 , C03C2218/113 , C08K3/22 , C09D1/00 , C09D7/20 , C09D7/47 , C09D7/61 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供了形成有热射线屏蔽膜的基体部件的制备方法，包括如下步骤：混合通过使用初始原料三烷氧基硅烷或三烷氧基硅烷和四烷氧基硅烷形成的溶胶溶液与其中分散有锡掺杂氧化铟超细颗粒的溶液以制备处理剂的步骤；及将所述处理剂施用到基体部件上的步骤。在该制备方法中，处理剂具有沸点100－200℃的有机溶剂作为分散介质，通过将保持处理剂的部件与基体部件接触的方式或通过喷涂处理剂的方式进行施用，从而将要形成的膜的雾度值调整到0.5％或更低。
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公开(公告)号：CN1301226C
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN03815490.0
申请日：2003-07-29
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C03C19/00 , C03C17/002 , C03C17/009 , C03C17/25 , C03C17/30 , C03C2217/211 , C03C2217/213 , C03C2217/76 , C03C2218/113 , C09D183/04 , C09D183/08 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明涉及一种使水滴滑落制品表面方面优异的制品。该制品可通过包括下述步骤的第一方法来制备：(a)混合氧化硅前体溶胶与(i)用通式[1]表示的且基于将由氧化硅前体溶胶生产的氧化硅的总重量，含量为0.1wt%-10wt%的烷氧基封端的二甲基硅氧烷和(ii)用通式[2]表示的氟代烷基硅烷，进而制备涂料溶液；和(b)将该涂料溶液涂到基质上。
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