半导体装置
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109585455B

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN201811115059.X

    申请日:2018-09-25

    Abstract: 提供具备具有稳定的特性的可靠性高的氧化物半导体TFT的半导体装置。半导体装置中的至少1个薄膜晶体管(101)包括半导体层(7)、栅极电极(3)、栅极绝缘层(5)、源极电极(8)和漏极电极(9),半导体层具有层叠结构,上述层叠结构包括:多个沟道形成层,其包括第1沟道形成层(70A)和第2沟道形成层(70B);以及至少1个中间层,其包括配置于第1沟道形成层和第2沟道形成层之间的第1中间层(71a),第1沟道形成层(70A)配置于比第2沟道形成层(70B)靠栅极绝缘层侧的位置且与栅极绝缘层(5)接触,多个沟道形成层和至少1个中间层均是氧化物半导体层,多个沟道形成层分别具有比至少1个中间层高的迁移率。

    有源矩阵基板的制造方法
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111722446B

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202010186575.2

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 有源矩阵基板的制造方法包含如下工序:(A),在基板上形成遮光层及下部导电层;(B),以覆盖遮光层及下部导电层的方式形成下部绝缘层;(C),在下部绝缘层上形成氧化物半导体层、栅极绝缘层及栅极电极;(D),以覆盖栅极电极及氧化物半导体层的方式形成层间绝缘层;(E),将源极接触孔及漏极接触孔形成于层间绝缘层,并且以使下部导电层的一部分露出的方式将连接部接触孔形成于层间绝缘层及下部绝缘层;以及(F),在层间绝缘层上形成源极电极、漏极电极及上部电极层。工序(E)包含:工序(e‑1),在层间绝缘膜上形成光致抗蚀剂膜;及工序(e‑2),使用多灰度级掩模将光致抗蚀剂膜曝光,之后进行显影,从而形成光致抗蚀剂层。

    有源矩阵基板
    34.
    发明公开
    有源矩阵基板 审中-实审

    公开(公告)号:CN114639687A

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202111519776.0

    申请日:2021-12-13

    Abstract: 一种有源矩阵基板,具备包含多个第1TFT的多个氧化物半导体TFT,各氧化物半导体TFT的氧化物半导体层包含沟道区域、源极接触区域以及漏极接触区域,沟道区域具有相互相对的第1端部和第2端部、位于这两个端部的源极接触区域侧的源极侧端部、以及位于这两个端部的漏极接触区域侧的漏极侧端部,各第1TFT还具有位于氧化物半导体层与基板之间的遮光层,遮光层包含开口区域和遮光区域,当从基板的法线方向观察时,遮光区域包含位于第1端部的第1遮光部和位于第2端部的第2遮光部,第1遮光部和第2遮光部分别具有相互相对的第1缘部和第2缘部,第1缘部的至少一部分与沟道区域重叠,第2缘部位于沟道区域的外侧,不与沟道区域重叠。

    显示面板用基板的制造方法

    公开(公告)号:CN109491157B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201811057904.2

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 一种显示面板用基板的制造方法,抑制对半导体膜和透明电极膜中的一个膜进行的蚀刻处理、退火处理给另一个膜带来不良影响的事态。其特征在于,具备:像素电极形成工序,在覆盖栅极电极(34)的栅极绝缘膜(38)上形成包括透明电极膜的像素电极(33);半导体膜形成工序,在像素电极形成工序之后进行,在栅极绝缘膜(38)上以一部分覆盖像素电极(33)的形式形成半导体膜(42);退火处理工序,在半导体膜形成工序之后进行,对半导体膜(42)进行退火处理;以及蚀刻工序,在退火处理工序之后进行,通过对半导体膜(42)进行蚀刻,将与栅极电极(34)重叠的沟道部(37)形成在与像素电极(33)同一层。

    有源矩阵基板及其制造方法
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113903752A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202110743785.1

    申请日:2021-07-01

    Abstract: 提供具备具有顶栅结构并且特性相互不同的多个氧化物半导体TFT的有源矩阵基板。一种有源矩阵基板,具备具有氧化物半导体层和隔着栅极绝缘层配置在氧化物半导体层上的栅极电极的第1TFT和第2TFT,在第1TFT中,氧化物半导体层中的隔着栅极绝缘层由栅极电极覆盖的第1区域的至少一部分具有包含具有相对高的迁移率的高迁移率氧化物半导体膜和配置在高迁移率氧化物半导体膜之上且迁移率比高迁移率氧化物半导体膜的迁移率低的低迁移率氧化物半导体膜的层叠结构,在第2TFT中,氧化物半导体层的第1区域在整个范围内包含高迁移率氧化物半导体膜和低迁移率氧化物半导体膜中的一方氧化物半导体膜,并且不包含另一方氧化物半导体膜。

    有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN113078167A

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202011484960.1

    申请日:2020-12-16

    Abstract: 提供具备顶栅型的氧化物半导体TFT并且能抑制由ESD导致的源极‑栅极间的漏电的有源矩阵基板。有源矩阵基板具备多个源极总线、覆盖源极总线的下部绝缘层、形成在下部绝缘层的上方的多个栅极总线、以及与各像素区域对应配置的氧化物半导体TFT,氧化物半导体TFT具有:氧化物半导体层,其配置在下部绝缘层上;以及栅极电极,其配置在氧化物半导体层的上方,形成在与栅极总线不同的层,并且与配置在相邻的像素区域的栅极电极分离配置,栅极电极由层间绝缘层覆盖,栅极总线配置在层间绝缘层上、以及形成于层间绝缘层的栅极接触孔内,在栅极接触孔内连接到栅极电极。

    有源矩阵基板的制造方法
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111722446A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010186575.2

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 有源矩阵基板的制造方法包含如下工序:(A),在基板上形成遮光层及下部导电层;(B),以覆盖遮光层及下部导电层的方式形成下部绝缘层;(C),在下部绝缘层上形成氧化物半导体层、栅极绝缘层及栅极电极;(D),以覆盖栅极电极及氧化物半导体层的方式形成层间绝缘层;(E),将源极接触孔及漏极接触孔形成于层间绝缘层,并且以使下部导电层的一部分露出的方式将连接部接触孔形成于层间绝缘层及下部绝缘层;以及(F),在层间绝缘层上形成源极电极、漏极电极及上部电极层。工序(E)包含:工序(e-1),在层间绝缘膜上形成光致抗蚀剂膜;及工序(e-2),使用多灰度级掩模将光致抗蚀剂膜曝光,之后进行显影,从而形成光致抗蚀剂层。

    显示面板
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109597249A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811142619.0

    申请日:2018-09-28

    Abstract: 本发明提供一种抑制连接于电极的布线干扰其他布线的情况的显示面板。一种显示面板,其特征在于,具有:玻璃基板;多个像素电极;多个TFT,其与多个像素电极的各个电极电连接;位置检测电极;位置检测布线,其与位置检测电极电连接;端子部,其配置在比位置检测布线更靠上层并配置于非显示区域A2;SOG膜,其在显示区域A1内介于位置检测布线与TFT之间并在非显示区域A2内介于端子部与玻璃基板之间;导电膜,其在玻璃基板中配置于位置检测布线与端子部之间的层且从位置检测布线横跨端子部地延伸并对端子部和位置检测布线进行连接,所述导电膜配置于SOG膜的上层。

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