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公开(公告)号：CN119180772A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202411238745.1
申请日：2024-09-05
Applicant: 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) , 湖南大学
Abstract: 本发明公开了一种基于暗通道先验的红外超透镜图像增强方法，涉及图像增强技术领域；本发明首先计算红外超透镜图像对应的暗通道图；利用上述暗通道图估算超透镜的散射光强；建立超透镜的图像退化模型；然后根据上述的模型、散射光强和暗通道图计算超透镜的透射率；再将散射光强和透射率代入上述的模型得到增强图像；最后结合输入图像信息对增强后的图像目标亮度进行恢复，得到最终的输出图像。利用本发明提出的方法，可以实现单帧实时提升红外超透镜图像的清晰度和对比度，且易于集成到硬件设备中部署。
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公开(公告)号：CN118818894A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410839896.6
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , C09J175/14 , C09J171/02
Abstract: 本发明公开了一种高粘附比的转印印章及干式转印方法，属于微纳制造领域；在衬底上制备无粘附层金属微纳结构；衬底疏水修饰，在衬底上旋涂薄膜前体溶液退火得到纳米薄膜；将可变粘附的转印印章共形贴附在薄膜的上表面，冷却至室温后剥离薄膜，实现薄膜与硅基晶圆衬底的分离；将可变粘附的转印印章和薄膜共形贴附于受体衬底上；再次加热使得印章变软并匀速剥离印章，将薄膜释放在受体衬底上，完成薄膜的转印，去除薄膜，得到受体衬底上的金属微纳结构。光固化热响应印章采用可光固化的复合相变材料进行制备，在低温热刺激下展现出高可切换粘附比和高刚度力学性能切换。本发明方法可用于在曲面及柔性衬底上制造从纳米级到晶圆级的功能元件。
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公开(公告)号：CN118625577A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410566135.8
申请日：2024-05-09
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种自动对焦的相机及对焦方法，自动对焦的相机的镜头前后位置固定的设置在相机壳体前端，成像模组活动设置在所述相机壳体内，所述成像模组设置有成像芯片，所述成像芯片设置有与镜头适配的成像传感器，往复运动装置与所述成像模组驱动连接，被配置为驱动成像模组沿着镜头镜像面的法线运动，对焦控制器与所述往复运动装置控制连接，被配置为控制往复运动装置动作，以进行成像传感器与镜头的对焦，实现成像清晰。所提供的相机及对焦方法，改变了对焦结构和对焦方式，降低了相机镜头连接结构的复杂程度、制造成本，避免外界因素影响镜头对焦的问题发生，提高对焦速度和准确度。
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公开(公告)号：CN118465895A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410747849.9
申请日：2024-06-11
Applicant: 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) , 湖南大学
Abstract: 本发明公开了一种强电子干扰下成像的红外光学镜片及其制备方法，所述红外光学镜片，在红外光波段成像，并且具备较强的抗电子干扰能力，包括红外透过非导电衬底、金属网格结构和成像结构；所述红外透过非导电衬底的一侧为金属网格结构，另一侧为成像结构；强电子干扰下成像的基本过程如下：红外光学镜片在红外透过非导电衬底上，对红外透过非导电衬底两侧布设亚波长尺寸的微纳尺度孔隙结构实现光场与电场调控，在金属网格结构面通过亚波长结构的光学性能与电子性能相互作用，实现光波的透过与隔绝，在成像结构面的亚波长结构与入射的电磁场相互作用，引入光学参量突变实现成像。本发明可以应用在成像、探测设备中的红外窗口。
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公开(公告)号：CN117572543A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311722457.9
申请日：2023-12-14
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种针对远红外大面积超构透镜、增透膜设计及加工方法，包括基底Si层，包括相对布置的上表面和下表面；所述基底Si层的上表面由内到外依次设置有第一ZnSe层、第一MgF2层和纳米微柱阵列层；所述基底Si层的下表面由内到外依次设置有第二ZnSe层和第二MgF2层。所提供的针对远红外大面积超构透镜，有效提高了超构透镜在远红外宽波段的透过率，特别是大幅度提高超构透镜在远红外波段(8‑14μm)的透过率，同时具有制备简单和膜层致密等特点，并且有效减少了增透膜的层数及厚度，使的最小膜层厚度维持在加工的稳定性范围内，从而提高了实际生产的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115216177B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210587458.6
申请日：2022-05-25
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: C09D11/101 , C09D11/03 , C09D11/033 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 本发明公开了一种改性感光油墨辅助的大面积金属图案化材料及其制备方法，所述改性感光油墨按质量百分比组份包括感光油墨，80‑95％；溶剂，5‑20％；活性助剂，0.5‑2％；通过精准调控感光油墨材料表面能及控制转移时的参数(剥离温度、剥离速度、等)改变界面结合能，实现感光油墨结构全干法转印。并利用离子束溅射等金属沉积工艺，在柔性基底上加工出高密度可延展金属导电结构。该发明不仅解决了牺牲层辅助转印和湿法蚀刻带来的性能不匹配、界面失稳等问题，还通过实现感光油墨结构全干法转印原位制备金属图案，从而提高了大变形情况下金属结构的稳定性。
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公开(公告)号：CN115216177A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210587458.6
申请日：2022-05-25
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: C09D11/101 , C09D11/03 , C09D11/033 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 本发明公开了一种改性感光油墨辅助的大面积金属图案化材料及其制备方法，所述改性感光油墨按质量百分比组份包括感光油墨，80‑95％；溶剂，5‑20％；活性助剂，0.5‑2％；通过精准调控感光油墨材料表面能及控制转移时的参数(剥离温度、剥离速度、等)改变界面结合能，实现感光油墨结构全干法转印。并利用离子束溅射等金属沉积工艺，在柔性基底上加工出高密度可延展金属导电结构。该发明不仅解决了牺牲层辅助转印和湿法蚀刻带来的性能不匹配、界面失稳等问题，还通过实现感光油墨结构全干法转印原位制备金属图案，从而提高了大变形情况下金属结构的稳定性。
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公开(公告)号：CN119717349A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202510044100.2
申请日：2025-01-10
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G02F1/155
Abstract: 本发明公开了一种金属微网栅电致变色储能一体化智能窗及其加工方法，包括：(1)在基底一侧涂胶，加工图形化光刻胶沟槽；(2)在光刻胶沟槽内填充导电金属；(3)去除光刻胶形成金属微网栅；(4)在另一基底上沉积透明导电材料和电致变色功能材料；(5)在金属微网栅面上覆盖电解质，将带有电致变色功能材料的另一基底倒置，使其贴合电解质，完成电致变色储能一体化智能窗组装。该智能窗中的金属微网栅电极具有导电和离子存储的功能，能够使整体结构简化，且有效解决了由于正负极尺寸不对称所带来响应时间不理想、变色不均匀等问题。本发明不仅能通过自身透光率动态变化调控光和热，还可以在透光率变化时为外部电子元件供能，进一步降低能耗需求。
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公开(公告)号：CN119270396A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411486861.5
申请日：2024-10-23
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种基于转印工艺的大面积跨尺度超透镜快速制备方法，涉及微纳制造领域；包括衬底清洗、一次涂胶、一次前烘、一次曝光、二次涂胶、二次前烘、转移、二次曝光、释放、显影、深硅刻蚀以及干法去胶；本发明通过可转移可释放的光刻胶近场接触式光刻技术、深硅刻蚀工艺、干法去胶工艺等，实现大面积跨尺度超透镜快速低成本制备。本方法能够借助可转移的光刻胶实现完美的接触式曝光，可轻易达到近红外超透镜的结构精度。该发明不仅利用力学性能优异的可转移光刻胶保护力学性能低的光刻胶，实现大面积双层光刻胶完美无损剥离及释放的关键问题，还为大面积跨尺度超透镜制备提供了一个效率高、成本低、简单、可快速复制的方案。
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公开(公告)号：CN118629687A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410277929.2
申请日：2024-03-12
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种X射线波带片过电镀金属层后道离子束回刻方法，包括如下步骤：S1)氮化硅隔膜窗口制备：S2)光刻：S3)电镀：S4)离子束抛光：本发明的离子束抛光方法具有高精度和均匀性、无接触和热影响、多种材料的选择性、清洁无残留。本发明中应用于X射线波带片过电镀后道回刻的离子束抛光方法，探索出了一种针对菲涅尔波带片这种带有free‑standing隔膜窗口的特制衬底，解决过电镀后道回刻过程中可能出现的由现有技术——CMP方案解决过电镀从而造成的表面缺陷、选择性和尺寸一致性、衬底损害、金属残留物、抛光速率的控制等方面问题。
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