一种用于洗碗机清洁力评测的污渍组合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN113999735B

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202111298206.3

    申请日:2021-11-04

    Abstract: 本发明涉及一种用于洗碗机清洁力评测的污渍组合物,其包括如下质量分数的成分:淀粉10‑30%;油脂5‑20%;蛋白质5‑15%;添加剂1‑5%和水。其中,所述淀粉至少含有支链结构的淀粉。本发明具有以下有益效果:本发明提供一种洗碗机清洁力评测的污渍组合物,该组合物操作方法简单,并且污渍组合物的糯性增加,粘附性增强,更加容易粘附在餐具上并且使得涂布在餐具上的污渍更均匀;本发明还涉及上述洗碗机清洁力评测的污渍组合物的制备方法,该方法制备的污渍组合物具有相对较高的粘附力、平整度以及均匀度。

    农产品清洗剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116790328A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202310711438.X

    申请日:2023-06-15

    Abstract: 本申请公开了一种农产品清洗剂及其制备方法和应用,该农产品清洗剂包括以下质量份的组分:环糊精17~28份,缓冲剂7~20份,水溶性保鲜剂12~26份,水30~60份;该农产品清洗剂能够有效清除农产品表面的胶乳物质,提高农产品表面的洁净度,从而减小胶乳物质对农产品表皮的损害、延长农产品的保质期限;此外该农产品清洗剂在使用时其体系的酸碱度能够维持在稳定的状态,清洁效果稳定,还能够维持农产品表皮细胞结构的稳定性,从而延长保质期限;该制备方法工艺简单,适用于规模化生产。

    一种组合型DPF清洗剂及其清洗使用方法

    公开(公告)号:CN116751641A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310721103.6

    申请日:2023-06-19

    Inventor: 于刚 张乐

    Abstract: 本发明提出的一种组合型DPF清洗剂及其清洗使用方法,利用清洗结构一,将碱性溶剂部分通入到颗粒过滤器中,将颗粒过滤器的内部进行清洗一遍,主要去除油状物;利用清洗结构二,将酸性溶剂部分反向通入到颗粒过滤器中,对颗粒过滤器的内部进行清洗一遍,主要用于去除颗粒状物;利用清洗结构三,将弱碱溶剂部分再次反向通入到颗粒过滤器中,对颗粒过滤器进行清洗一遍,用于中和反应,消除掉颗粒过滤器内部的酸性溶剂。本发明提供的组合型DPF清洗剂及其清洗使用方法,能够对颗粒过滤器中油状物和颗粒状金属盐杂质,进行彻底的清洗,避免清洗死角的产生。

    一种无氟清洗剂、其制备方法及应用

    公开(公告)号:CN116731798A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310699251.2

    申请日:2022-01-17

    Abstract: 本发明提供了一种无氟清洗剂、其制备方法及应用,所述无氟清洗剂为水性清洗剂;所述无氟清洗剂包括水、有机溶剂与胺类化合物;所述有机溶剂的质量为无氟清洗剂质量的15%~85%;所述胺类化合物的质量为无氟清洗剂质量的5%~50%;还包括腐蚀抑制剂、酸与醇类化合物中的一种或多种。与现有技术相比,本发明提供的无氟清洗剂通过特定的胺类化合物与腐蚀抑制剂、酸及醇中的一种或多种协同作用在不含有氟元素的情况下也具有较好的清洗能力,同时还可降低清洗液对金属的腐蚀,防止对基底介质产生破坏,提高清洗后晶圆的耐候性。与现有同类产品比,本发明提供的无氟清洗剂具有降低清洗温度、清洗时间以及更高性价比等明显优势。

    一种聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件清洗方法

    公开(公告)号:CN116371810A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310366743.X

    申请日:2023-04-07

    Applicant: 深圳大学

    Abstract: 一种聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件清洗方法,包括如下步骤:S1、配置清洗液;S2、将聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件在清洗液中浸泡;S3、将在清洗液中浸泡的聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件进行超声清洗;S4、从清洗液中取出聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件,进行自然风干;S5、对自然风干后的聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件进行二次光固化;S6、将二次光固化的聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件进行热解,获得最终的聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件。本发明能够高效率地去除陶瓷3D打印复杂结构件表面及内部孔隙残留的树脂,且对结构件表面及内部造成的损耗低,最终获得了高表面质量的结构件。

    一种光学材料清洗液的制备方法
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116200230A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310248407.5

    申请日:2023-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种光学材料清洗液的制备方法,所述制备方法如下:步骤一:原料准备:氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂;步骤二:混合搅拌:在反应釜中加入去离子水,然后依次加入氢键破坏剂,络合剂,醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂,并搅拌使其完全溶解,得到混合液;步骤三:调节PH值;本发明的有益效果是:抗寒剂具有良好的抗寒性能,清洗液中抗寒剂的加入,增加了光学材料表面的抗寒性能,避免光学材料在低温下结雾;防尘剂在光学材料形成防尘涂层,在防尘涂层中的氧化硅纳米粒子和聚乙二醇辛基苯基醚相结合,形成光滑、细致的膜层表面,从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。

    人工补片及其制备方法
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116135176A

    公开(公告)日:2023-05-19

    申请号:CN202111358024.0

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供了一种人工补片及其制备方法。该人工补片的补片基材上涂覆有生物相容性的防渗漏涂层,该防渗漏涂层的涂层物质可渗入至补片基材的孔隙中,大大提高了人工补片的抗渗漏性能,并且补片基材在涂层物质的包覆下,使得补片在裁剪时边部不易脱散、而利于缝合,在使用过程中能够减少渗血,并降低炎症发生的概率。此外,补片上涂覆的防渗漏涂层具有生物相容性,相对于未经涂层的补片而言将更利于细胞的内皮化和组织的快速长入。

    一种光刻板清洗方法
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116107157A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202310395810.0

    申请日:2023-04-14

    Inventor: 牟宏山

    Abstract: 本发明公开了一种光刻板清洗方法,采用高锰酸钾与浓硝酸作为氧化剂,与去离子水进行配比,将配好的液体和光刻板同时转移到带有聚四氟乙烯内衬的不锈钢反应釜中,置于烘箱内加热,形成高温高压的环境,对光刻板表面进行清洗,且光刻板表面的有机物以及无机物等残留的污渍能够被高锰酸钾氧化反应形成溶于水的小分子物质,附着在光刻板上的小颗粒等无机物除被硝酸氧化反应外,在高压的蒸汽环境下被剥离,使光刻板的清洗更加彻底。本发明提供了一种的光刻板清洗方法,通过物化结合的清洗环境来提高配置清洗剂的清洗能力,以及通过该清洗环境加速光刻板表面污渍清洁的效果,避免了使用毒性较强的清洗剂,提高了安全性,同时保证清洁的效果更好。

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