一种线路板化学沉铜整孔剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN118147621A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410271297.9

    申请日:2024-03-11

    Abstract: 本发明涉及一种线路板化学沉铜整孔剂,所述线路板化学沉铜整孔剂包括如下质量分数的组分:无机盐络合剂、电荷调整剂、有机胺、非离子界面活性剂、玻璃纤维调整剂、水;本发明的电荷调整剂通过引入大量的极性基团,使其含有大量的阳离子的电荷,提升材料整体的正电荷密度的同时能够调整孔壁电荷,增强孔内金属钯的吸附能力,同时增加对孔内的浸润,使铜离子更容易沉积在小孔的孔壁上,使其具有更大的覆盖面积,而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层,使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行,从而使得金属铜镀层与孔壁表面之间具有良好的结合力,保证线路板具有更好的电气互联性能。

    一种常温快速反应的铜网格线消光试剂及其制备方法及其使用方法

    公开(公告)号:CN116536656B

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202310462671.9

    申请日:2023-04-26

    Abstract: 一种常温快速反应的铜网格线消光试剂及其制备方法及其使用方法,属于触摸屏制造技术领域。本发明为50份~80份的配位剂,25份~50份的添加剂,35份~65份的缓冲剂,12份~50份的酸碱调节剂,6份~26份的银源、740份~860份的去离子水;配位剂为柠檬酸、烟酸、2‑羟基吡啶、2‑乙氧基‑5,10,15,20‑四氟苯基‑3,7‑二氮唑‑21,22‑二卟啉中的一种或几种;添加剂为十二烷基硫酸钠、1‑二十烷基‑吡啶烷、2,2'‑联吡啶酒石酸锑钾复合添加剂、聚乙烯亚胺中的一种或几种;缓冲剂为碳酸钾、乙酸铵、三羟甲基氨基甲烷中的一种;酸碱调节剂为氢氧化钾、乙酸钠中的一种;银源为硝酸银、氯酸银中的一种。

    一种不锈钢管内壁化学镀Ni-P-X涂层的制备装置及方法

    公开(公告)号:CN118127492A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410260428.3

    申请日:2024-03-07

    Applicant: 四川大学

    Abstract: 一种不锈钢管内壁化学镀Ni‑P‑X涂层的制备装置,包括液体驱动装置、镀液瓶、浸入水浴槽的工件和水浴槽,液体驱动装置与镀液瓶、工件依次连接;液体驱动装置驱动流体依次通过镀液瓶、工件实现循环。一种不锈钢管内壁化学镀Ni‑P‑X涂层的制备方法,具体步骤包括:S1;根据工件内壁表面质量进行酸洗去毛刺和磨粒流抛光流程;S2:使用有机溶剂对工件内壁去除油污;S3:配置碱洗液,加热水浴槽,使用碱洗液对工件内壁去除油污;S4:配制酸洗液,对工件进行酸洗活化过程;S5:配置Ni‑P‑X涂层镀液,调节PH,使用化学镀液对内壁进行化学镀得到涂层;S6:将工件进行冲洗烘干。每一步结束之后进行冲洗,通过制备装置和制备方法可以解决细长不锈钢管内壁的化学镀问题。

    一种晶圆化学镀钨合金溶液、配制方法和化学镀方法

    公开(公告)号:CN117779011B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202410199826.9

    申请日:2024-02-23

    Abstract: 本发明涉及化学镀技术领域,尤其涉及一种用于晶圆化学镀钨合金溶液、配制方法及化学镀方法。这种化学镀钨合金溶液包括以下浓度的组分:钨酸盐类70~560mmol/L、第一稳定剂7~56mmol/L、次磷酸类25~480mmol/L、镍盐类30~240mmol/L、添加剂0.2~1.6mmol/L。本发明采用添加添加剂的方法提高化学镀溶液的稳定性,可以使晶圆镀区沉积的钨合金镀层具有致密无晶态形貌,无针孔,无夹缝,表面平整光滑,可以有效防止因为针孔或者夹缝的缺陷导致信号传输不稳定、电阻大、功率损耗过多等存在的缺陷,进一步提高半导体晶圆芯片产品的稳定可靠性。

    一种激光辅助化学镀制备精细陶瓷电路板的方法

    公开(公告)号:CN117966136A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410133774.5

    申请日:2024-01-31

    Abstract: 本发明涉及陶瓷基板化学镀铜技术领域,具体属于一种激光辅助化学镀制备精细陶瓷电路板的方法,其工艺过程如下:使用除油液去除陶瓷基板表面油污,使用激光器对陶瓷表面进行高分辨率物理粗化,经过除油后使用本发明所提供的活化液进行活化,在粗化表面吸附铜活性颗粒,随后使用本发明所提供的化学镀液进行化学镀铜,进而得到高分辨率的金属化线条。本发明所提供的陶瓷基板化学镀方法不需要使用氢氟酸、硝酸、氢氧化钠等对环境和人体有危害的腐蚀性试剂,也不需要使用诸如银、钯、金等贵金属作为活性位点,能够在更加环保、简便的条件下实现低成本、高精度的陶瓷表面精细金属化,实现所需要的电互连功能。

    一种用于5G基站的玻璃布基板表面金属化方法

    公开(公告)号:CN114016011B

    公开(公告)日:2024-04-23

    申请号:CN202111206281.2

    申请日:2021-10-16

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 闫博宇 吕银祥

    Abstract: 本发明属于电子材料技术领域,具体为一种用于5G基站的玻璃布基板表面金属化方法。本发明选用玻璃布基板作为印制电路(PCB)基底;将3‑氨基丙基三乙氧基硅烷偶联剂和3‑(2,3‑环氧丙氧)丙基甲基二甲氧基硅烷偶联剂引入氯金酸溶液中,制备了金纳米颗粒聚合物催化溶液,在玻璃布基板表面建立高结合强度的催化层,再通过简单高效的化学镀技术在其表面沉积金属,得到具有高可靠性金属镀层的玻璃布基板导电复合材料。该技术在制备金属/聚合物复合材料的绿色工艺中具有潜在的应用前景。

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