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公开(公告)号：CN103189919B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180043515.4
申请日：2011-09-09
IPC: G11B7/24038 , G11B7/2578 , G11B7/243
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/24038 , G11B7/2578 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/2432 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25711 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715
Abstract: [问题]提供了一种可以控制每个记录层的反射率和透射率且在每个记录层中可以获得满意的记录特性的光学记录介质。[技术方案]一种光学记录介质（10），包括：基板（11）；和两个或更多个记录层（121、122、123），所述记录层包含Pd、O、和M（其中M是选自Zn、Al、In、和Sn中的一种或多种元素），并且O的含量大于M被完全氧化（被完全氧化成ZnO、Al2O3、In2O3、和SnO2）时的化学计量组成。当从与记录光入射的侧相对的侧计数时，第n个记录层的Pd含量小于第n-1个记录层中的Pd含量，其中所述第n个记录层是所述两个或更多个记录层（121、122、123）中的任意一个。
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公开(公告)号：CN103189919A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180043515.4
申请日：2011-09-09
IPC: G11B7/243 , G11B7/24038 , G11B7/2578
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/24038 , G11B7/2578 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/2432 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25711 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715
Abstract: 提供了一种可以控制每个记录层的反射率和透射率且在每个记录层中可以获得满意的记录特性的光学记录介质。[技术方案]一种光学记录介质（10），包括：基板（11）；和两个或更多个记录层（121、122、123），所述记录层包含Pd、O、和M（其中M是选自Zn、Al、In、和Sn中的一种或多种元素），并且O的含量大于M被完全氧化（被完全氧化成ZnO、Al2O3、In2O3、和SnO2）时的化学计量组成。当从与记录光入射的侧相对的侧计数时，第n个记录层的Pd含量小于第n-1个记录层中的Pd含量，其中所述第n个记录层是所述两个或更多个记录层（121、122、123）中的任意一个。
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公开(公告)号：CN102612713A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201080052289.1
申请日：2010-11-17
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: G11B5/7325 , C23C14/16 , C23C14/3414 , G11B5/851 , Y10T428/12993
Abstract: 提供一种Ag合金热扩散控制膜，其是用于热辅助记录用磁介质的热扩散控制膜，既维持着高的热传导率，并且兼备高热扩散率、平滑的表面粗糙度和高耐热性全部。本发明涉及Ag合金热扩散控制膜，其是用于热辅助记录用磁记录介质的热扩散控制膜，由Ag为主要成分的Ag合金构成，满足表面粗糙度Ra在1.0nm以下、热传导率100W/(m·K)以上、热扩散率4.0×10-5m2/sec以上。
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公开(公告)号：CN102483939A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080040664.0
申请日：2010-09-17
CPC classification number: G11B7/2437 , C23C14/3414 , G11B7/2433 , G11B2007/24306 , G11B2007/24308 , G11B2007/2432
Abstract: 本发明提供记录特性优异的光信息记录介质用记录层、具备该记录层的光信息记录介质、及对上述记录层的形成有用的溅射靶。该光信息记录介质用记录层是通过激光的照射进行记录的记录层，含有相对于1mol氧的氧化物的标准生成自由能的绝对值比Pd及Ag大的X金属的氧化物、氧化Pd及氧化Ag，相对于记录层中所含的X金属原子、Pd原子及Ag原子的合计量，Pd原子的比率为10～60原子％，Ag原子的比率为5～45原子％，且Pd原子和Ag原子的合计量的比率为75原子％以下。
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公开(公告)号：CN101467210A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200780022013.7
申请日：2007-06-15
CPC classification number: G11B7/259 , G11B7/00736 , Y10T428/21
Abstract: 本发明可以确定通过物理转写在光学记录介质的基板上形成的凹坑和平面的形状而制备的盗版光盘记录介质。所述光学记录介质具有卓越的耐候性和长期存储可靠性。在通过凹坑和平面的组合记录了主数据的基板上形成由Ag100－x－yXxCuy的Ag合金膜所形成的反射膜，其中，X为Ti、W、Ta、V、Mo、Nb及Zr中的至少一种元素。可以形成标记，使得在所述反射膜上一次写入的记录辅助数据的记录标记的再生信号电平升高，并且在通过物理转写所述基板的凹坑和平面的表面形状而制备的光学记录介质的再生信号电平降低。以这种方式可以确定盗版光学记录介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101260484A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200810083440.2
申请日：2006-02-07
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供了一种用于光学信息记录介质的记录膜以及一种光学信息记录介质，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性(记录保持性)，本发明包括如下：(1)在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为0.8W/Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃，(2)光学信息记录介质，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及(3)用于形成所述记录膜的溅射靶。
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公开(公告)号：CN1901055A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200610107508.7
申请日：2006-07-20
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/165 , C22C5/06 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/258 , G11B7/259 , Y10T428/21
Abstract: Ag合金反射膜含有作为组分的X1，并且具有位于距反射膜表面深2nm之内的区域中的富集层，其中组分X1以比X1在整个反射膜中的平均浓度更高的浓度富集在富集层内，其中X1是选自由下列元素组成的组中的至少一种合金元素：Bi、Si、Ge、Pb、Zn、Cd、Hg、Al、Ga、In、Tl、Sn、As和Sb。所述反射膜具有作为反射膜的稳定且优异的基本性质，比如初始反射率和耐久性，并且进一步满足诸如激光标记适应性之类的要求。光学信息记录介质包括所述反射膜，而且性能优异。
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公开(公告)号：CN1901053A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200610101951.3
申请日：2006-07-11
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/165 , C22C5/06 , C23C14/3414 , G11B7/258 , G11B7/259 , Y10T428/21
Abstract: 一种银合金反射膜被用于光学信息记录介质，并包含作为主成分的银、总共1－10原子％的至少一种稀土元素，和总共1－15原子％的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种，其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子％或更高。该银合金反射膜优选还包含0.01－3原子％的Bi和Sb中的至少一种。银合金溅射靶具有与该银合金反射膜相同的组成。
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公开(公告)号：CN1819041A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200610006826.4
申请日：2006-02-07
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供了一种用于光学信息记录介质的记录膜以及一种光学信息记录介质，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性(记录保持性)。本发明包括如下：(1)在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为0.8W/Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃，(2)光学信息记录介质，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及(3)用于形成所述记录膜的溅射靶。
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公开(公告)号：CN1577550A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410059873.6
申请日：2004-06-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G02B5/0858 , B60R1/08 , G02B5/08 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供反射器用Ag合金反射膜及反射器。(1)是以具有在含有Bi的Ag合金薄膜的表面和/或该Ag合金薄膜上的与其他层的界面上形成了Bi层和/或Bi氧化物层的构造为特征的反射器用Ag合金反射膜，(2)在所述Ag合金反射膜中Bi层和/或Bi氧化物层的厚度在2.0nm以下的Ag合金反射膜，(3)在所述Ag合金反射膜中Ag合金薄膜含有0.01～3.0原子％的Bi的Ag合金反射膜，(4)在基体上形成有所述Ag合金反射膜的反射器等。该Ag合金反射膜反射率高，而且耐候性及耐热性优良。
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