一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113444199A

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN202110692322.7

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 本发明提出了一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用,属于光固化技术领域。其中,含氟光敏聚合物采用含共引发剂胺的烯烃基单体、含氟碳链的烯烃基单体、含光敏二聚分子的烯烃基单体以及普通的烯烃基单体进行自由基共聚反应制备得到。本发明制备的图案化光固化涂层由丙烯酸酯类树脂及单体组成,在小分子光引发剂及含氟光敏剂的配合使用下,通过紫外光照射发生的梯度二聚反应及聚合反应使表面发生自褶皱。且在紫外光透过光掩模照射后可在特定区域内产生多层次褶皱。根据本发明制备的图案化光固化涂层可应用于防伪及芯片封装。

    在基底上形成图案的方法及其应用

    公开(公告)号:CN111538212B

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN202010150705.7

    申请日:2020-03-06

    Inventor: 姜学松 李甜甜

    Abstract: 本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地,本申请的方法包括如下步骤:(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥,从而形成涂膜,其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应;以及(b)穿过非接触式掩模,对所述涂膜进行紫外光照射,在照射过程中,所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区,使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长,从而在所述涂膜上形成所述图案。而且,根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。

    基于超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN106279470B

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201610640655.4

    申请日:2016-08-08

    Abstract: 本发明公开了一种基于超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂及其制备方法。采用简单的方法将小分子夺氢型光引发剂引入到含共引发剂胺的超支化聚醚胺链上,制备出一种新型的两亲性高分子光引发剂。本发明的光引发剂主链上含有光引发剂和共引发剂胺,有利于两者之间的能量转移,能够更快更好的产生自由基活性种,提高光引发效率,具有较好的引发性能。同时由于超支化聚醚胺的引入,其与各种溶剂都具有很好的相容性,尤其在水溶液中有优异的引发性能,使得超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂更加符合环保实用的水溶液引发的发展趋势。在涂料、油墨、光刻胶、微电子、光致抗蚀剂、粘合剂等方面具有广阔的应用前景。

    在基底上形成图案的方法及其应用

    公开(公告)号:CN111538212A

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN202010150705.7

    申请日:2020-03-06

    Inventor: 姜学松 李甜甜

    Abstract: 本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地,本申请的方法包括如下步骤:(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥,从而形成涂膜,其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应;以及(b)穿过非接触式掩模,对所述涂膜进行紫外光照射,在照射过程中,所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区,使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长,从而在所述涂膜上形成所述图案。而且,根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。

    基于超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN106279470A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610640655.4

    申请日:2016-08-08

    CPC classification number: C08F2/48 C08G83/006

    Abstract: 本发明公开了一种基于超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂及其制备方法。采用简单的方法将小分子夺氢型光引发剂引入到含共引发剂胺的超支化聚醚胺链上,制备出一种新型的两亲性高分子光引发剂。本发明的光引发剂主链上含有光引发剂和共引发剂胺,有利于两者之间的能量转移,能够更快更好的产生自由基活性种,提高光引发效率,具有较好的引发性能。同时由于超支化聚醚胺的引入,其与各种溶剂都具有很好的相容性,尤其在水溶液中有优异的引发性能,使得超支化聚醚胺的两亲性高分子夺氢型光引发剂更加符合环保实用的水溶液引发的发展趋势。在涂料、油墨、光刻胶、微电子、光致抗蚀剂、粘合剂等方面具有广阔的应用前景。

    一种促进风电低电压消纳的方法

    公开(公告)号:CN106549410A

    公开(公告)日:2017-03-29

    申请号:CN201510599264.8

    申请日:2015-09-18

    CPC classification number: Y02E10/763

    Abstract: 本发明涉及电力技术领域,尤其涉及一种促进风电低电压消纳的方法。该方法包括建立双馈风电机组的低压消纳功能模型;根据所述低压消纳功能模型仿真分析风电场外部系统发生短路对双馈风电机组端电压的影响;根据仿真结果确定所述双馈风电机组低压消纳能力的低电压限值要求;根据所述低电压限值要求,在所述双馈风电机组风电场出口升压变压器的低压侧加入串联制动电阻进行仿真,以提高双馈风电机组的端电压;提高了风电场的低电压消纳能力,从而可以节省一定的工程投资,在一定程度上降低风电上网电价,促进风力发电的发展。

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