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公开(公告)号：CN1561318A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN01801119.5
申请日：2001-04-26
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/389 , C07C17/10 , C07C17/007 , C07C19/08
CPC classification number: C07C19/08 , C07C17/007 , C07C17/10 , C07C17/38 , C07C17/389
Abstract: 将含有乙烯化合物、烃化合物、一氧化碳和/或二氧化碳的四氟甲烷与平均孔径为3.4－11埃且Si/Al比率为1.5或更小的沸石和/或平均孔径为3.4－11埃的含碳吸附剂接触。由此可以得到有利于工业化生产且具有良好效益的高纯度四氟甲烷。
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公开(公告)号：CN1438979A
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：CN01802661.3
申请日：2001-08-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C19/08 , C07C17/087 , C07C17/10 , C07C17/383 , H01L21/30 , C11D7/50
CPC classification number: C07C19/08 , C07C17/087 , C07C17/10 , C07C17/206 , C07C17/21 , C07C17/38 , C07C17/383
Abstract: 一种八氟丙烷的制备方法，该方法包括在氟化催化剂存在下，于150－450℃温度下，使六氟丙烯与氟化氢在气相中反应得到2H－七氟丙烷的步骤(1)和在没有催化剂存在下，于250－500℃温度下使步骤(1)中所得的2H－七氟丙烷与氟气在气相中反应以得到八氟丙烷的步骤(2)，由该方法可得到能用于制备半导体器件工艺的高纯度八氟丙烷。
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公开(公告)号：CN1090163C
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN97102132.5
申请日：1997-01-15
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C17/10 , B01J8/0285 , B01J19/088 , B01J2208/00504 , B01J2219/0894 , C07C17/007 , C07C19/08 , C07C21/185
Abstract: 生产四氟甲烷的方法，包括使分子中含有一个碳原子的氢氟化碳与氟气在汽相中、在较高的温度下、在稀释气体的存在下反应。
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公开(公告)号：CN105209413A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201480025690.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/389 , C07C17/20 , C07C19/03 , C07C19/08 , C07B61/00
CPC classification number: C07C17/389 , C07C17/206 , C07C17/383 , C07C19/03 , C07C19/08
Abstract: 本发明的课题是提供一种二氯甲烷的精制方法，其可减少二氯甲烷中所含的稳定剂，操作容易且在工业上可实施。本发明的解决手段是一种二氯甲烷的精制方法，使包含选自由2-甲基-2-丁烯、氢醌以及间苯二酚组成的组中的至少1种稳定剂的二氯甲烷在液相状态下与平均细孔径为3-11的沸石类接触而使前述稳定剂减少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102026945B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200980117747.2
申请日：2009-05-11
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07C17/38 , C07C17/10 , C07C17/383 , C07C19/10
Abstract: 本发明的目的在于，提供有效利用昂贵的氟气，在工业上以较便宜的价格有效制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法。并且提供一种1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，该方法通过在低温下进行氟化反应，使通过C-C断裂产生低沸点物和产生过氟化物等的副反应难以进行，可以稳定地制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷。本发明的1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，其特征在于，当使用多个反应器，在有溶剂但没有催化剂的情况下向1，2，3，4-四氯丁烷供给氟气、使1，2，3，4-四氯丁烷与氟气反应时，将从一反应器排出的未反应的氟气的一部分或全部导入到其它反应器中。
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公开(公告)号：CN102203104A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143306.X
申请日：2009-10-30
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C07F7/045 , C01B33/00 , C01B33/04 , C01B33/043
Abstract: 本发明涉及使通式(1)所示的烷氧基硅烷在包含碱金属氟化物的催化剂和催化剂活化剂的存在下、在气相中进行歧化反应的甲硅烷和四烷氧基硅烷的制造方法，HnSi(OR)4-n (1)(式中，R表示碳原子数1～6的烷基，n是1～3的整数。)。根据本发明的制造方法，通过液相中的烷氧基硅烷的歧化反应来制造甲硅烷和四烷氧基硅烷的方法，可以解决与溶剂难以分离的问题和由于反应非常慢而不适合工业制造的问题。
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公开(公告)号：CN1946658B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200580013078.6
申请日：2005-04-13
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 大野博基
IPC: C07C17/389 , C07C17/20 , C07C19/045 , C07C19/08
CPC classification number: C07C17/206 , C07C17/38 , C07C17/389 , C07C19/08 , C07C19/045
Abstract: 本发明涉及使含有具有硝基和/或羟基的化合物作为稳定剂的1，1-二氯乙烷在液相中接触平均孔径为的沸石和/或平均孔径为的含碳吸附剂。通过简便的方法有效地除去1，1-二氯乙烷中所含的稳定剂，并可以经济地制备1，1-二氟乙烷。
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公开(公告)号：CN101432252A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200780014919.4
申请日：2007-04-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/158 , C07C17/383 , C07C19/10
CPC classification number: C07C17/38 , C07C17/02 , C07C17/10 , C07C17/383 , C07C19/10 , C07C19/01 , C07C21/073
Abstract: 本发明提供1，2，3，4－四氯六氟丁烷的安全、收率好、廉价、且经济的工业制造方法。本发明所涉及的1，2，3，4－四氯六氟丁烷的制造方法的特征在于，包括(1)将1，3－丁二烯进行氯化，从而得到含有1，2，3，4－四氯丁烷的混合物的工序，和(2)在稀释气体存在下，在气相中使工序(1)中得到的1，2，3，4－四氯丁烷与氟气反应，从而得到含有1，2，3，4－四氯六氟丁烷的混合物的工序。
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