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公开(公告)号：CN107272353A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710536857.9
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN106164779A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580018364.5
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/24 , G03F9/00 , G03F9/7088
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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公开(公告)号：CN106133610A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580017855.8
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/24 , G03F9/00 , G03F9/7088
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN104583874A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043800.5
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F9/00 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。
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公开(公告)号：CN103958379A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280053802.8
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H23/192 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G03F7/20 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/70791 , B65H23/1882 , B65H23/24 , B65H2404/1314 , B65H2406/111 , B65H2511/12 , B65H2511/512 , B65H2553/42 , B65H2601/254 , B65H2801/15 , B65H2801/61 , B65H2220/01 , B65H2220/02
Abstract: 本发明的基板处理装置，将基板搬送于第1方向并对基板的被处理面进行处理，具备：将基板引导于第1方向的第1引导构件，与第1引导构件分离配置、用以引导被第1引导构件引导的基板的第2引导构件，在第1引导构件与第2引导构件之间对基板赋予张力以使基板在与第1方向交叉的第2方向的尺寸缩小的张力赋予机构，以及在第1引导构件与第2引导构件之间对基板的被处理面进行处理的处理装置。
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