铁电体存储器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1763957A

    公开(公告)日:2006-04-26

    申请号:CN200510112895.9

    申请日:2005-10-19

    Abstract: 本发明提供一种在制造工序以及制造之后,难以导致特性劣化,并且可靠性高的铁电体存储器及其制造方法。根据本发明的铁电体存储器(1000)的制造方法,包括以下工序:(a)通过在基板(10)的上方依次层积下部电极层(20)、铁电体层(30)、以及上部电极层(40),形成铁电体层积体;(b)对铁电体层积体进行图案形成,形成铁电体电容器(100);(c)通过物理气相沉积法,形成覆盖铁电体电容器(100)的第一屏障膜(50);(d)通过化学气相沉积法,形成覆盖第一屏障膜(50)的第二屏障膜(60)。

    强电介体薄膜的制造方法
    69.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1511340A

    公开(公告)日:2004-07-07

    申请号:CN03800301.5

    申请日:2003-03-27

    Abstract: 本发明提供一种强电介体薄膜的制造方法。由两种以上的原料溶液构成的强电介体薄膜在基板的某一平面内在膜厚方向中使之均匀地混合。或者在一平面内在膜厚方向中使之具有原料溶液分布地混合。由具有两个以上的喷墨头的喷墨装置将两种原料溶液(105、106)由各自的喷墨头以一定的喷出量喷出,因此可以制作在一平面内均匀混合的强电介体薄膜,通过反复进行这个作业,在薄膜的膜厚方向也可以制作均匀混合的强电介体薄膜。而且,通过改变膜厚方向或面内方向的喷出量,可以制作具有原料溶液分布混合的强电介体薄膜。

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