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公开(公告)号：CN108179391A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201711415407.0
申请日：2017-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/14 , H01B5/14
Abstract: 本发明公开信息显示用柔性多层透明导电薄膜的制备方法，包括以下步骤：清洗柔性衬底并吹干；采用磁控溅射工艺，在柔性衬底顶面依次沉积下SiO2层、下Si3N4层与下TiO2层；在下TiO2层顶面蒸发沉积AgPt合金层，并对AgPt合金层进行Ar等离子辐照；采用磁控溅射工艺，在AgPt合金层顶面依次沉积上TiO2层、上Si3N4层与上SiO2层，最终得到所述柔性多层透明导电薄膜；由SiO2、Si3N4与TiO2构成的复合介质层结构，具有梯度化匹配的折射率，使整个膜系具有更加优良的光学透过率；AgPt合金层作为导电层，能有效的提高整个膜系的力学柔韧性和抗弯折能力，AgPt合金层经过等离子体辐照处理，使整个复合膜系具有更好的透过率和导电性。
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公开(公告)号：CN107507878A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201710796020.8
申请日：2017-09-06
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
IPC: H01L31/0392 , H01L31/049
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/049 , H01L31/03923
Abstract: 本发明公开一种薄膜太阳能电池用多层膜结构的光伏背板玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底的应变点≥570℃、软化点≥800℃；所述玻璃基底顶面由下至上依次设有SiN膜层、CuZn膜层、ZnAl膜层、降阻膜层、防腐蚀膜层与Mo膜层；降阻膜层为Ti膜层或Cu膜层；防腐蚀膜层为MoN、MoO、TiN或TiON膜层；SiN膜层的厚度为80～120nm，CuZn膜层的厚度为50～90nm，ZnAl膜层的厚度为30～60nm，降阻膜层的厚度为15～35nm，防腐蚀膜层的厚度为20～50nm，Mo膜层的厚度为35～65nm；该背板玻璃具有高应变点、后期高温硒化不变形、抗腐蚀、低电阻率、薄膜应力小等优点，且多层膜结构与玻璃基底附着强度高，能够阻挡玻璃基底中Na+向吸收层的扩散且与CIGS有良好的欧姆接触。
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公开(公告)号：CN107475668A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710800979.4
申请日：2017-09-07
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
Abstract: 本发明涉及一种高电阻率CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：选用0.1-1.5mm的衬底材料；对衬底材料进行超声波清洗；在样品基架上放置C靶材；把清洗干净的衬底材料放置于样品基架上；使用氩离子轰击靶材，达到清洗和活化靶材的作用；把清洗后的衬底材料放入真空度抽至4.0×10-4—6.0×10-4Pa的溅射腔室内，通入氩气进行预溅射起辉，同时再通入氮气。本发明的优点：本方法通过氩气溅射起辉，同时通入氮气反应，采用直流溅射镀膜，在镀膜的过程中，引入变参数较少，薄膜质量容易控制，通过改变氩气和氮气的比例，能够制备适用不同器件使用的CN薄膜，本发明的制备工艺简单，重复性强。
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公开(公告)号：CN106853706A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201611188231.5
申请日：2016-12-21
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: B32B9/04 , B32B33/00 , B32B2264/102 , B32B2307/304 , B32B2307/412 , B32B2307/416 , B32B2307/418 , B32B2419/00 , B32B2605/08 , B60J1/20
Abstract: 本发明公开一种高透过高反射隔热膜，所述隔热膜包括由下至上依次层叠第一高折射率膜层、第一低折射率膜层、第二高折射率膜层、第二低折射率膜层、第三高折射率膜层、第三低折射率膜层、第四高折射率膜层、第四低折射率膜层、第五高折射率膜层与减反增透膜层；所有高折射率膜层的厚度为100～150nm，折射率为2.1～2.4；所有低折射率膜层的厚度为180～250nm，折射率为1.3～1.5nm；减反增透膜层厚度为150～500nm；采用九层高低折射率不同的膜层依次交错层叠形成红外反射层，提高了近红外反射率，再复合减反增透层构成隔热膜，提高整体膜层的透过率，所有膜层没有采用任何金属镀层，有效的解决了手机信号屏蔽现象。
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公开(公告)号：CN106637080A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611188592.X
申请日：2016-12-21
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: C23C14/083 , C23C14/022 , C23C14/35
Abstract: 一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，包括如下步骤：（1）清洗玻璃基片，后用高压N2吹干；（2）采用反应离子束技术对所述玻璃基片表面进行刻蚀，使所述玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构；（3）采用磁控溅射技术在所述玻璃基片表面的微结构上沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有光催化作用的薄膜。本发明采用反应离子束技术对玻璃基片表面进行刻蚀，使玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构，然后在玻璃基片表面上运用磁控溅射技术沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有更大的比表面积的薄膜，提高了薄膜光催化的效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106587655A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611188163.2
申请日：2017-01-23
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: C03C17/3417 , C03C2217/73 , C03C2217/94 , G06F3/041
Abstract: 本发明公开消影增透导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO2膜层、上SiO2膜层与ITO膜层，ITO膜层蚀刻有电极图案；玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO2膜层、第一下SiO2膜层、第二下TiO2膜层与第二下SiO2膜层；所述上TiO2膜层的厚度为5～10nm、上SiO2膜层的厚度为40～60nm、ITO膜层的厚度为20～40nm；所述第一下TiO2膜层的厚度为12～18nm、第一下SiO2膜层的厚度为25～35nm、第二下TiO2膜层的厚度为95～135nm、第二下SiO2膜层的厚度为70～100nm；利用折射率不同的上TiO2膜层与上SiO2膜层起到消影作用，玻璃基板底部交错的四层介质层起到减反増透的效果，并由各膜层厚度的配合，提高产品的透过率，减少反射率，降低面电阻，使得触摸屏在强光下也可以清晰的显示。
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公开(公告)号：CN114050223A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111408541.4
申请日：2021-11-24
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 , 玻璃新材料创新中心(安徽)有限公司
Abstract: 本发明提供一种透明导电结构的制备方法，包括：步骤S1，提供一柔性基底；步骤S2，于柔性基底的上表面沉积得到一第一金属氧化物层；步骤S3，于第一金属氧化物层的上表面沉积得到一合金层；步骤S4，于合金层的上表面沉积得到一金属层；步骤S5，于金属层的上表面沉积得到一第二金属氧化物层。有益效果是通过本方法制备得到的透明导电结构的总厚度不大于110nm，镀膜时间短，可以有效提高光的取出效率并减少光损失，并且在室温下即可达到比ITO薄膜更佳的光电性能。
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公开(公告)号：CN112626470A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011427678.X
申请日：2020-12-09
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明公开一种碳自掺杂且浓度呈梯度分布的CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：a、清洗衬底，去除衬底表面污垢；b、将衬底置于离子溅射腔室内，以纯度为99.99％的石墨作为靶材，以N2作为为离子束的N+离子源，氩气作为轰击气体；利用离子溅射镀膜工艺，在衬底表面沉积CN薄膜；c、在步骤b沉积过程中，按照梯度变化供应N2，得到C含量为梯度浓度的CN薄膜；该方法制备得到CN薄膜的碳自掺杂浓度呈梯度分布，改变CN薄膜的电学性能，并且制备过程可控性强，易于重复。
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公开(公告)号：CN112626459A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011462996.X
申请日：2020-12-14
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明公开一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，包括以下步骤：S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底；S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中；S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10‑6Pa；S4、当真空度达到10‑6Pa时，对衬底进行加热至300℃，并通入氩气，同时开启直流电源，使靶材进行预溅射；S5、预溅射完毕后，通入氧气，溅射氧化钨薄膜；S6、溅射完毕后，待磁控溅射镀膜腔室降温至室温后，取出氧化钨薄膜；该方法制备得到的氧化钨薄膜具有膜层厚度均匀、性能优良稳定的特点，且工艺简单、可控性强。
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公开(公告)号：CN112599671A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011560960.5
申请日：2020-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
Abstract: 本发明公开了一种耐刮擦柔性可弯折显示衬底，包括由透明有机材料制成的柔性基板（5），其特征在于柔性基板（5）上面依次制有缓冲层（1）、过渡层（2）、硬度层（3）和耐磨层（4）。本发明的有益效果是：本发明基于柔性镀膜技术，通过设计合理的膜层结构，对柔性衬底表面进行镀膜，提高柔性衬底的耐摩擦性能，从而有效提高显示寿命和使用体验。
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