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公开(公告)号：CN108165939A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201711415267.7
申请日：2017-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
CPC classification number: C23C14/086 , C03B11/00 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜；本方法无需酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染；AZO薄膜的绒面由表面具有绒面结构的模板决定，能够有效地控制绒面；绒面AZO薄膜的质量容易控制，性能稳定，重复性好。
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公开(公告)号：CN108149196A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201711415408.5
申请日：2017-12-25
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开一种氮掺杂p型ZnO薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、清洗衬底；S2、使用磁控溅射镀膜设备，将ZnO陶瓷靶作为靶材，清洗后的衬底置入磁控溅射真空腔内，通入溅射气体氩气、氧气与氮气，通过磁控溅射制备得到氮掺杂p型ZnO薄膜；氩气、氧气与氮气的体积比为20：6：0.5；氮气的通入采用环形供气装置，环形供气装置包含水平设于磁控溅射真空腔内的环形饼柱，环形饼柱为空心，环形饼柱的内环壁设有一组出气孔，环形饼柱还连接有延伸出磁控溅射真空腔的供气管；磁控溅射时，环形饼柱环绕包围衬底；直接以氮气为掺杂源，同时改变氮气的供气方式，只需要少量的氮气就可达到氮的离子化，并且容易掺入到ZnO薄膜中实现p型转变，得到p型ZnO薄膜。
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公开(公告)号：CN108117270A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201711429978.X
申请日：2017-12-26
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
CPC classification number: C03C15/00 , C03C17/30 , C03C2217/70 , C03C2218/111 , C03C2218/31
Abstract: 本发明公开一种疏水防眩玻璃刻蚀液及防眩玻璃的加工方法，该刻蚀液组分含有重量比1-5%氟辛基三乙氧基硅烷，20-30%的氢氧化钾，10-35%的乙二醇以及余量的溶剂。本发明提出的疏水型防眩玻璃刻蚀液及其加工方法，能够形成使用要求的防眩涂层，疏水效果好，与玻璃基底附着力高，使用过程不易脱落，生产成本低，良率高，环保性能优。
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公开(公告)号：CN107586046A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201710805841.3
申请日：2017-09-08
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
IPC: C03C17/34
Abstract: 本发明公开一种低反射高分辨率玻璃，该玻璃包括基板玻璃（4）,所述基板玻璃（4）上部依次层叠为上防眩层（3）、上减反增透层（2）、上保护层（1）；该基板玻璃的下部依次层叠为下防眩层（5）、下减反增透层（6）、下保护层（7）。所述上、下保护层厚度为1-10nm，上、下减反增透层厚度为10-100nm，上、下防眩层厚度为100-200nm。所得玻璃镜面反射率≤0.1%，目视分辨率≥8 lp/mm。本发明生产良率高，产品质量稳定，生产过程环保无污染。
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公开(公告)号：CN107507878A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201710796020.8
申请日：2017-09-06
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
IPC: H01L31/0392 , H01L31/049
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/049 , H01L31/03923
Abstract: 本发明公开一种薄膜太阳能电池用多层膜结构的光伏背板玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底的应变点≥570℃、软化点≥800℃；所述玻璃基底顶面由下至上依次设有SiN膜层、CuZn膜层、ZnAl膜层、降阻膜层、防腐蚀膜层与Mo膜层；降阻膜层为Ti膜层或Cu膜层；防腐蚀膜层为MoN、MoO、TiN或TiON膜层；SiN膜层的厚度为80～120nm，CuZn膜层的厚度为50～90nm，ZnAl膜层的厚度为30～60nm，降阻膜层的厚度为15～35nm，防腐蚀膜层的厚度为20～50nm，Mo膜层的厚度为35～65nm；该背板玻璃具有高应变点、后期高温硒化不变形、抗腐蚀、低电阻率、薄膜应力小等优点，且多层膜结构与玻璃基底附着强度高，能够阻挡玻璃基底中Na+向吸收层的扩散且与CIGS有良好的欧姆接触。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107475668A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710800979.4
申请日：2017-09-07
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
Abstract: 本发明涉及一种高电阻率CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：选用0.1-1.5mm的衬底材料；对衬底材料进行超声波清洗；在样品基架上放置C靶材；把清洗干净的衬底材料放置于样品基架上；使用氩离子轰击靶材，达到清洗和活化靶材的作用；把清洗后的衬底材料放入真空度抽至4.0×10-4—6.0×10-4Pa的溅射腔室内，通入氩气进行预溅射起辉，同时再通入氮气。本发明的优点：本方法通过氩气溅射起辉，同时通入氮气反应，采用直流溅射镀膜，在镀膜的过程中，引入变参数较少，薄膜质量容易控制，通过改变氩气和氮气的比例，能够制备适用不同器件使用的CN薄膜，本发明的制备工艺简单，重复性强。
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公开(公告)号：CN106853706A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201611188231.5
申请日：2016-12-21
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: B32B9/04 , B32B33/00 , B32B2264/102 , B32B2307/304 , B32B2307/412 , B32B2307/416 , B32B2307/418 , B32B2419/00 , B32B2605/08 , B60J1/20
Abstract: 本发明公开一种高透过高反射隔热膜，所述隔热膜包括由下至上依次层叠第一高折射率膜层、第一低折射率膜层、第二高折射率膜层、第二低折射率膜层、第三高折射率膜层、第三低折射率膜层、第四高折射率膜层、第四低折射率膜层、第五高折射率膜层与减反增透膜层；所有高折射率膜层的厚度为100～150nm，折射率为2.1～2.4；所有低折射率膜层的厚度为180～250nm，折射率为1.3～1.5nm；减反增透膜层厚度为150～500nm；采用九层高低折射率不同的膜层依次交错层叠形成红外反射层，提高了近红外反射率，再复合减反增透层构成隔热膜，提高整体膜层的透过率，所有膜层没有采用任何金属镀层，有效的解决了手机信号屏蔽现象。
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公开(公告)号：CN106637080A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611188592.X
申请日：2016-12-21
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: C23C14/083 , C23C14/022 , C23C14/35
Abstract: 一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，包括如下步骤：（1）清洗玻璃基片，后用高压N2吹干；（2）采用反应离子束技术对所述玻璃基片表面进行刻蚀，使所述玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构；（3）采用磁控溅射技术在所述玻璃基片表面的微结构上沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有光催化作用的薄膜。本发明采用反应离子束技术对玻璃基片表面进行刻蚀，使玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构，然后在玻璃基片表面上运用磁控溅射技术沉积氮掺杂二氧化钛薄膜，从而得到具有更大的比表面积的薄膜，提高了薄膜光催化的效率。
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公开(公告)号：CN106587655A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611188163.2
申请日：2017-01-23
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院 , 中国建材国际工程集团有限公司
CPC classification number: C03C17/3417 , C03C2217/73 , C03C2217/94 , G06F3/041
Abstract: 本发明公开消影增透导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO2膜层、上SiO2膜层与ITO膜层，ITO膜层蚀刻有电极图案；玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO2膜层、第一下SiO2膜层、第二下TiO2膜层与第二下SiO2膜层；所述上TiO2膜层的厚度为5～10nm、上SiO2膜层的厚度为40～60nm、ITO膜层的厚度为20～40nm；所述第一下TiO2膜层的厚度为12～18nm、第一下SiO2膜层的厚度为25～35nm、第二下TiO2膜层的厚度为95～135nm、第二下SiO2膜层的厚度为70～100nm；利用折射率不同的上TiO2膜层与上SiO2膜层起到消影作用，玻璃基板底部交错的四层介质层起到减反増透的效果，并由各膜层厚度的配合，提高产品的透过率，减少反射率，降低面电阻，使得触摸屏在强光下也可以清晰的显示。
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公开(公告)号：CN114050223A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111408541.4
申请日：2021-11-24
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 , 玻璃新材料创新中心(安徽)有限公司
Abstract: 本发明提供一种透明导电结构的制备方法，包括：步骤S1，提供一柔性基底；步骤S2，于柔性基底的上表面沉积得到一第一金属氧化物层；步骤S3，于第一金属氧化物层的上表面沉积得到一合金层；步骤S4，于合金层的上表面沉积得到一金属层；步骤S5，于金属层的上表面沉积得到一第二金属氧化物层。有益效果是通过本方法制备得到的透明导电结构的总厚度不大于110nm，镀膜时间短，可以有效提高光的取出效率并减少光损失，并且在室温下即可达到比ITO薄膜更佳的光电性能。
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