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    一种限定多个辐射矢量的技术
    2.
    发明公开
    一种限定多个辐射矢量的技术 审中-实审

    公开(公告)号：CN118103162A

    公开(公告)日：2024-05-28

    申请号：CN202280068546.3

    申请日：2022-10-24

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： 洛伦兹·克洛夫勒 ,  陈家春 ,  迪特尔·施瓦策

    IPC: B22F10/38 ,  B22F10/366 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/153 ,  B29C64/393

    Abstract: 提供了一种限定用于通过增材制造来生产三维工件的装置的多个辐射矢量的方法。该方法包括：对于待生成的三维工件的层，在该层中限定下表皮区域，以及限定覆盖下表皮区域的一组第一辐射矢量。第一辐射矢量的至少之一扩展到该层的体积区域中，该体积区域与下表皮区域相邻。第一辐射矢量的至少之一的长度为1毫米或更长。该方法还包括：限定覆盖该层的体积区域的剩余部分的一组第二辐射矢量，将第一组辐射参数分配给所述一组第一辐射矢量，以及将第二组辐射参数分配给所述一组第二辐射矢量。第二组辐射参数不同于第一组辐射参数。

    使用增材制造技术制造三维工件的设备和系统
    3.
    发明授权
    使用增材制造技术制造三维工件的设备和系统 有权 转让

    公开(公告)号：CN114302782B

    公开(公告)日：2024-04-26

    申请号：CN202080060505.0

    申请日：2020-08-27

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： 卡斯顿·纽曼 ,  阿恩·尼夫 ,  巴斯蒂安·兰伯特 ,  丹尼尔·布吕克

    IPC: B22F12/00 ,  B22F10/28 ,  B22F12/41 ,  B22F12/90 ,  B22F12/44 ,  B22F12/49 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

    Abstract: 本发明描述了对用于制造三维工件的设备的照射系统进行校准的装置，该照射系统包括用于将照射射束选择性地照射到照射平面上的照射单元，其中，该装置包括：控制单元，该控制单元被配置成对照射系统进行控制，以将照射射束照射到照射平面上；以及联接到控制单元的光学检测单元，其中，光学检测单元包括光学检测器和物镜，以对照射平面的一部分进行光学检测，其中，光学检测单元被配置成对照射射束在照射平面上的光斑的位置进行检测，其中，物镜适于相对于照射射束的照射射束路径被布置在光学检测器和照射系统的照射射束扫描器之间，其中，光学检测单元被配置成根据光学检测单元的可调节的焦距在多个焦平面中对照射射束的光斑的位置进行检测，其中，所述光学检测单元被配置成：响应于所述光学检测单元检测到所述照射射束在所述照射平面上的光斑的位置，向所述控制单元输出信号，并且其中，控制单元被配置成根据从光学检测单元输出到控制单元的信号对照射系统进行控制。

    放大偏移校正方法
    4.
    发明公开
    放大偏移校正方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN117794669A

    公开(公告)日：2024-03-29

    申请号：CN202280055740.8

    申请日：2022-06-14

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： 简·卢卡斯·马缇斯克 ,  简·帕维丽塔 ,  卡斯顿·纽曼

    IPC: B22F10/28 ,  B22F10/31 ,  B22F12/44 ,  B22F12/90 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  G01J1/02 ,  G01J1/42

    Abstract: 提供一种用于对装置中的激光束的位置进行校准的方法，该装置包括用于引导激光束的至少一个光学单元。至少一个光学单元包括多个光学元件。该方法包括：对至少一个光学单元的多个光学元件设置第一光学配置，从而以第一焦斑尺寸将激光束引导到测量平面上；测量使用第一光学配置生成的激光束在测量平面内的第一位置；对至少一个光学单元的多个光学元件设置第二光学配置，从而以第二焦斑尺寸将激光束引导到测量平面上，第二焦斑尺寸不同于第一焦斑尺寸；测量使用第二光学配置生成的激光束在测量平面内的第二位置；以及基于所测量的第一位置和所测量的第二位置，确定至少一个校正值。

    控制辐照系统的方法、辐照系统、计算机程序产品和用于生产三维工件的设备
    5.
    发明公开
    控制辐照系统的方法、辐照系统、计算机程序产品和用于生产三维工件的设备 审中-实审

    公开(公告)号：CN117377545A

    公开(公告)日：2024-01-09

    申请号：CN202280037656.3

    申请日：2022-04-13

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： 陈家春 ,  安德里亚斯·霍佩 ,  迪特尔·施瓦策

    IPC: B22F10/28

    Abstract: 描述了一种对辐照系统(10)进行控制的方法，该辐照系统用于利用辐射束(14)对原材料粉末层进行辐照以生产三维工件(110)。该方法包括以下步骤：针对至少一个待被辐照的原材料粉末层定义包括多个辐照部段(20)的扫描图案，其中，在多个辐照部段(20)中的每个辐照部段内，定义多个扫描矢量(V)，根据多个扫描矢量，使辐射束(14)扫描横跨原材料粉末层；针对多个辐照部段(20)中的每个辐照部段，确定辐照部段(20)是否包含下表皮区域(22)；以及针对多个辐照部段(20)中的每个辐照部段，根据辐照部段(20)是否包含下表皮区域(22)的确定来定义辐照部段(20)内的扫描矢量(V)被依次扫描所遵循的扫描顺序方向(S)。

    增材制造设施
    8.
    发明公开
    增材制造设施 审中-实审

    公开(公告)号：CN119255878A

    公开(公告)日：2025-01-03

    申请号：CN202380039664.6

    申请日：2023-04-18

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： K·布尔法因德

    IPC: B22F10/28 ,  B22F10/73 ,  B22F12/00 ,  B22F12/50 ,  B22F12/80 ,  B22F12/82 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

    Abstract: 本公开涉及一种增材制造设施(1)，其包括具有处理室(5)的增材制造机器(3)、多个装载物品(7、9、11)以及用于将装载物品(7、9、11)从第一装载区(15)定位到第二装载区(17a、b)的装载系统(14)，其中，第二装载区(17a、b)位于处理室(5)上方和/或下方。装载系统(14)包括升降柱(21)、至少一个支撑臂(23)和至少一个装载物品承载器(25)，其中，至少一个支撑臂(23)机械地联接到升降柱(21)以沿着升降柱(21)竖直地上升和下降，其中，至少一个装载物品承载器(25)机械地联接到至少一个支撑臂(23)，以相对于升降柱(21)沿着限定的水平路径移动，其中，第一装载区(15)位于装载系统(14)的前侧区域(31)中，并且第二装载区(17a、b)位于装载系统(14)的后侧区域(33)中。

    用于校准辐照系统的方法和装置、用于生产三维工件的设备和计算机程序产品
    9.
    发明公开
    用于校准辐照系统的方法和装置、用于生产三维工件的设备和计算机程序产品 审中-实审

    公开(公告)号：CN118574689A

    公开(公告)日：2024-08-30

    申请号：CN202380015899.1

    申请日：2023-01-20

    Applicant: 尼康SLM方案股份公司

    Inventor： 菲利普·罗泽

    IPC: B22F10/28 ,  B22F10/31 ,  B22F10/366 ,  B22F12/90 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  B22F10/85 ,  B22F12/49 ,  B29C64/153 ,  B29C64/268 ,  B29C64/393 ,  B22F12/45

    Abstract: 描述了一种用于校准辐照系统(10)的方法，该辐照系统使用于生产三维工件的设备(100)中。该方法包括步骤i)：将校准平面(30)与辐照系统(10)的光学单元(16)之间的、在垂直于校准平面(30)的z方向上的距离设置为第一距离(z1)。在步骤ii)中，在将校准平面(30)与光学单元(16)之间的距离保持在第一距离(z1)的同时，在光学单元(16)的扫描镜(22)布置在第一角度基本位置的情况下，在校准平面(30)内的第一x‑y区域(a1)中辐照第一校准图案(p1,1)。在光学单元(16)的扫描镜(22)布置在第二角度基本位置的情况下，在校准平面(30)内的第二x‑y区域(a2)中辐照第二校准图案(p2,1)；处于第二角度基本位置的扫描镜(22)相对于第一角度基本位置至少枢转±1°。在步骤iii)中，将校准平面(30)与光学单元(16)之间的、在z方向上的距离设置为第二距离(z2)，且第二距离与第一距离(z1)不同。在步骤iv)中，在将校准平面(30)与光学单元(16)之间的距离保持在第二距离(z2)的同时，在光学单元(16)的扫描镜(22)布置在第一角度基本位置的情况下，在第一x‑y区域(a1)中辐照第三校准图案(p1,2)；在光学单元(16)的扫描镜(22)布置在第二角度基本位置的情况下，在第二x‑y区域(a2)中辐照第四校准图案(p2,2)。在步骤v)中，对第一校准图案、第二校准图案、第三校准图案以及第四校准图案(p1,1、p2,1、p1,2、p2,2)进行评估，以根据校准平面(30)内的x‑y位置来确定辐射束(14)在z方向上的焦点位置。在步骤vi)中，基于辐射束(14)的所确定的焦点位置对辐照系统(10)进行校准。

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