公开(公告)号：CN119193245B

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202411710006.8

申请日：2024-11-27

Applicant: 大连奥首科技有限公司

Inventor： 吕晶 ,  侯军 ,  任浩楠 ,  王欣欣

IPC: C11D1/78 ,  C11D3/22 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/33 ,  C11D3/37 ,  C11D3/60 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23G1/00

Abstract: 本发明提供一种半导体钴制程CMP后清洗液、其制备方法与应用，半导体钴制程CMP后清洗液，包括重量配比如下的各组分：环糊精PEG氨基酸类化合物1‑15份；缓蚀剂0.1‑1份；磷酸酯类化合物5‑15份；有机弱碱10‑20份；超纯水60‑80份。本发明还公开了半导体钴制程CMP后清洗液的制备方法，及其在半导体芯片清洗领域的应用。本发明半导体钴制程CMP后清洗液不含强碱、强酸，仍能有效清除有机残留物、颗粒等污染物，且对芯片无腐蚀。本发明半导体钴制程CMP后清洗液对清洗工艺无特殊要求，仅在浸泡的工艺下，即可使芯片上所粘附的有机污染物、各种颗粒洗脱完全，后续仅经过纯水冲洗即可，水洗后无脏污残留。

公开(公告)号：CN118272167A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202410469997.9

申请日：2024-04-18

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  吕晶 ,  任浩楠 ,  付宇

IPC: C11D1/78 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  G03F7/42 ,  C11D3/22 ,  C11D3/30 ,  C11D3/382 ,  C11D3/20 ,  C11D3/60

Abstract: 本发明涉及一种高分散芯片光刻胶清洗剂，按照重量份数计算，包括如下组分：季铵碱化合物1‑15份；纤维素衍生物0.5‑2份；醇胺1‑8份；表面活性剂0.5‑2份；有机溶剂30‑50份；超纯水40‑60份。本发明的纤维素衍生物分子间氢键可与季铵碱化合物分子以氢键结合，且增加纤维素衍生物中氢键的活性，水分子进入后氢键即刻断裂，崩解迅速，纤维素链重新接合，使季铵碱化合物分子与光刻胶充分接触，提高清洗速度。纤维素衍生物崩解后与醇胺结合生成分子保护膜附着在金属表面，降低金属腐蚀速率；表面活性剂良好的分散性可以促进清洗剂分解剥离光刻胶；醇胺可以提高清洗剂寿命。本发明清洗剂环保、无污染、仅用纯水冲洗即可，对环境和人体无伤害。

公开(公告)号：CN117757575A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202311767666.5

申请日：2023-12-21

Applicant: 宁波工程学院 ,  宁波艾科制冷工程有限公司

Inventor： 唐豪 ,  沈一蕊 ,  陈辉 ,  王楠 ,  褚哲威 ,  孔祥乾 ,  王智业 ,  齐淑琪 ,  张曼 ,  朱宇晔

IPC: C11D1/78 ,  C11D1/14 ,  C11D1/28 ,  C11D1/37 ,  C11D1/825 ,  C11D1/835 ,  C11D1/66 ,  C11D3/28 ,  C11D3/20 ,  C11D3/10 ,  C11D3/08 ,  C11D3/06 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/36 ,  C11D3/37 ,  C11D3/60 ,  C23G1/18 ,  C23G1/16 ,  C23G1/14

Abstract: 本申请涉及工业清洗剂的技术领域，更具体地说，它涉及一种碱性水基型清洗剂。一种碱性水基型清洗剂包括以下重量百分比的原料：助溶剂5‑15%、表面活性剂0.1‑3%、碱性盐1%‑10%、缓蚀剂3%‑6%、消泡剂0.005%‑0.015%以及余量为水；所述助溶剂为N‑甲基吡咯烷酮、二乙二醇单甲醚、乙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇丁醚中的一种或几种与乙醇的混合物。本申请的工业清洗剂兼具优良的环保效果及清洗效果。

公开(公告)号：CN115161124B

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202210865028.6

申请日：2022-07-21

Applicant: 福建省佑达环保材料有限公司

Inventor： 刘小勇 ,  邱小真 ,  房龙翔 ,  李丛香 ,  叶鑫煌 ,  肖小江 ,  刘文生

IPC: C11D1/78 ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D3/08 ,  C11D3/33 ,  C11D3/20 ,  C11D3/60 ,  C11D11/00 ,  C07F9/572 ,  C08G65/335

Abstract: 本发明公开了一种无腐蚀性的LiF清洗剂，该清洗剂是由无机碱、螯合剂、有机助剂、表面活性剂及高纯水组成。本发明通过特定的乙二醇基曼尼希碱表面活性剂与无机强碱混配，能提高对锂盐的溶解度，有效解决现有OLED掩膜版及坩埚清洗效率低、对锂盐溶解性差及易造成腐蚀等问题，且其易清洗无残留，具有良好应用前景。

公开(公告)号：CN113881510A

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN202010634290.0

申请日：2020-07-02

Applicant: 万华化学集团电子材料有限公司

Inventor： 卞鹏程 ,  崔晓坤

IPC: C11D1/14 ,  C11D1/22 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D1/78 ,  C11D3/60 ,  C11D3/06 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D3/36 ,  C11D3/37

Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及其使用方法，该清洗液包含络合剂、表面活性剂、润湿剂、pH调节剂、余量为水。本发明的化学机械抛光清洗液是一种高度浓缩的清洗液，能够通过调节稀释倍数同时满足对化学机械抛光后的晶圆片和抛光垫的清洗。

公开(公告)号：CN111154556B

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201911426039.9

申请日：2019-12-31

Applicant: 广东新球清洗科技股份有限公司

Inventor： 肖连庄 ,  叶志良 ,  麦霍根

IPC: C11D1/78 ,  C11D3/18 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/60 ,  B08B3/08 ,  C11D3/44

Abstract: 本发明公开了一种高效清洗颗粒物的碳氢清洗剂，以重量百分数计，包括：碳氢化合物30～70％，第一醇醚类化合物20～60％，第二醇醚类化合物1～15％，第一助剂0.1～15％，第二助剂0.1～15％，表面张力稳定剂0～5％，其中，第一助剂具有酰胺结构，第二助剂为羧酸酯类化合物。另，还提供该清洗剂的使用方法，将待洗产品前期处理和超声波粗洗后，采用本发明的清洗剂进行超声波精洗。碳氢化合物溶解大部分油污，醇醚类化合物增大第一助剂及第二助剂于碳氢化合物中的溶解度，含酰胺结构的第一助剂，进一步增大油污的溶解度及提高颗粒物在体系中的分散性，第二助剂可渗透于缝隙，彻底清洗油污，分散颗粒物。

公开(公告)号：CN107267297A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710389573.1

申请日：2017-05-27

Applicant: 镇江鑫源达园艺科技有限公司

Inventor： 陈智超 ,  王伟 ,  潘夫珍 ,  贡明庆 ,  潘叶飞

IPC: C11D1/78 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/48 ,  C11D3/60

CPC classification number: C11D1/78 ,  C11D3/046 ,  C11D3/2044 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/48

Abstract: 本发明公开了一种用于阔叶植物的叶面清洗剂，将柠檬酸10-15份、丙二醇5-10份、食盐10-20份溶入蒸馏水80-100份中，得混合基液；将植物生长调节剂1-5份、防腐剂1-3份、表面活性剂1-3份混合，搅拌均匀得混合添加剂；将所得混合添加剂加入所得混合基液中，搅拌充分溶解后，通过添加酸碱调节剂5-10份调节溶液pH值至5-6，得用于阔叶植物的叶面清洗剂成品。本发明原料简单易得，制备工艺易于操作，添加表面活性剂、酸碱调节剂，有效提高清洁效果，添加植物生长调节剂、防腐剂，最大程度地减小对植物的伤害，促进植物的生长。

公开(公告)号：CN103409249A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201310331142.1

申请日：2013-08-01

Applicant: 广东普赛特电子科技股份有限公司

Inventor： 徐安莲 ,  邓小安 ,  黄云波

IPC: C11D3/36 ,  C11D1/72 ,  C11D1/78

Abstract: 本发明涉及工业清洗剂技术领域，是对现有技术的改进，具体涉及一种纳米改性阻燃抹机水，其重量百分比（%）为：0.3~1.1%表面活性剂、0.05~1.5%缓蚀剂、0.3~2.1%阻燃剂、0.2~1.1%纳米氧化铝，其余为有机溶剂，各成分重量之和为100%。本发明具有下述特点：一是清洗能力明显提高；二是不易燃，便于储存和运输，提高了使用安全性。本发明实用，市场潜力大。

公开(公告)号：CN1077596C

公开(公告)日：2002-01-09

申请号：CN95111697.5

申请日：1995-07-18

Applicant: 上海合成洗涤剂厂

Inventor： 程伟红 ,  周鸣方 ,  张幼娟

IPC: C11D1/83 ,  C11D1/04 ,  C11D1/78

Abstract: 本发明涉及一种块状抽水马桶自动冲洗剂，其特征在于采用挤压工艺生产，选用含有强去污能力的表面活性剂、螫合剂、显示剂、填充剂、杀菌剂、芳香剂、粘结剂的混合物中再加入溶解速度调节剂即：20-50%脂肪酸盐类、10-20%磷酸酯表面活性剂和15-30%的一种或多种较低环氧乙烷数的聚氧乙烯类非离子表面活性剂混合物，使几种物质混合产生较好的协同作用，很好地控制本发明产品的溶解速度。本发明产品具有制造简单、去污能力强、溶解速度均匀、使用时间长、浸入水中不塌陷、不变形，能自动粘附于水箱底部，并且具有防垢、除臭、杀菌、清洗一次完成的作用。

公开(公告)号：CN118580917A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202410739463.3

申请日：2024-06-07

Applicant: 索温特斯(天津)科技发展有限公司

Inventor： 张程 ,  高丽芳 ,  骆晓华 ,  刘绪明

IPC: C11D1/94 ,  C11D3/04 ,  C11D3/33 ,  B08B3/08 ,  C11D1/78 ,  C11D1/72 ,  C11D1/00 ,  C11D1/90 ,  C11D1/88

Abstract: 本发明属于碱性清洗剂技术领域，具体涉及一种低温碱性清洗剂及制备方法，以质量百分数计，包括1%～10%的两性离子表面活性剂、0.1%～2%的苯酚聚氧乙烯醚磷酸酯、0.5%～5%的萜烯杂环乙氧基共聚物、20%～40%的碱性物质、2%～8%的螯合剂和余量去离子水；相对现有技术，本发明的有益效果：两性离子表面活性剂、萜烯杂环乙氧基共聚物、碱性物质配合，使得该低温碱性清洗剂在低温(40℃～50℃)下仍能够发挥优异的去污能力；萜烯杂环乙氧基共聚物具有非离子表面活性剂的消泡特性，确保该低温碱性清洗剂符合牧场挤奶设备CIP清洗的低泡要求；低温清洗延长了橡胶类密封件使用寿命，缩短清洗水加热周期，通过太阳能加热和热回收即可达到清洗水温要求。