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公开(公告)号：CN115803658A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202180041943.7
申请日：2021-06-17
Applicant: 依视路国际公司 , 蒙特利尔综合理工学院公司
Abstract: 本发明涉及一种光学制品，包括具有前主面和后主面的透明基材，这些主面中的至少一个涂有多层抗反射涂层，多层抗反射涂层包括：至少一个在550nm处具有低于1.55的折射率的低折射率层(LI)，在下文中称为第一LI层；在550nm处具有高于或等于1.55的折射率的一个第一高折射率层(HI)，在下文中称为第一HI层；以及一个封装金属膜(EMF)，封装金属膜包括封装在第一层(L1)与第二层(L2)之间的金属岛层(MIL)，所述第一层(L1)和所述第二层(L2)均由至少一种介电材料组成，其特征在于，‑所述第一层(L1)是在550nm处具有低于1.55的折射率的第二LI层并且具有等于或高于10nm的物理厚度，‑金属岛层(MIL)具有等离子体效应并且有效厚度范围为0.2nm到4nm，优选地范围为0.5nm到4nm，‑第二层(L2)具有等于或大于10nm的物理厚度，其中，所述多层抗反射涂层在所述光学制品的前面和/或后面上在可见光区域中具有平均光反射系数Rv，平均光反射系数针对至少小于35°的入射角、优选地针对0°的入射角等于或小于2.5％。所述AR堆叠体的吸光主要是由于所述MIL层引起。
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公开(公告)号：CN109791220B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201780059183.6
申请日：2017-10-06
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
Inventor： T·普瓦里耶 , T·施密特 , L·马丁努 , J·克莱伯格-赛皮哈 , K·谢勒 , W·特罗蒂尔-拉普安特 , A·德乌
Abstract: 本发明涉及一种包括纳米层压涂层的制品，其中所述纳米层压涂层具有范围从20nm至500nm的总厚度并且包括至少一对由相邻的第一和第二层构成的层以及至少三个层，所述第一层是通过氧化硅的蒸发、尤其是SiO2的蒸发获得的无机二氧化硅层，并且所述第二层是在等离子体或离子辅助下通过有机硅化合物或有机硅化合物的混合物的沉积获得的基于硅的有机‑无机层，并且其中作为整体的所述纳米层压涂层的折射率在550nm处低于1.58。
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公开(公告)号：CN112334593A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201980039830.6
申请日：2019-06-13
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
Inventor： W·特罗蒂尔-拉普安特 , B·富尔 , B·巴卢卡斯 , R·凡尔尼 , O·扎贝达 , L·马丁努 , S·伍德沃德 , N·德斯贾丁斯-勒卡瓦利埃 , J·加格农
IPC: C23C14/22 , G02B1/00 , G02F1/15 , G02B1/118 , G02B5/00 , C23C14/02 , C23C14/08 , C23C14/30 , C23C16/34 , C23C16/455 , G02F1/157
Abstract: 本发明涉及一种光学制品，所述光学制品包括具有前主面和具有后主面的基材，所述主面中的至少一个涂覆有柱状微结构/或纳米结构涂层，其中，所述基材和所述光学制品是透明的或者能够被置于以下状态下：所述基材和所述光学制品沿至少一个入射角在380nm到780nm范围的可见光区域的至少一部分中是透明的；所述柱状微结构或纳米结构涂层包括至少一个柱阵列，所述柱各自包括和覆盖所述芯的上层，所述芯和所述上层在结构和/或化学上是不同的，并且具有光吸收特性或者能够被置于以下状态下：所述芯和所述上层具有光吸收特性，其消光系数“k”在250nm到2500nm范围的光谱的一部分中等于或大于10‑2并且能够引起入射光通过光学制品的透射或反射根据光入射角而变化。本发明还涉及一种用于制造光学制品的方法，所述光学制品包括柱状微结构或纳米结构涂层。
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公开(公告)号：CN109791220A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059183.6
申请日：2017-10-06
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
Inventor： T·普瓦里耶 , T·施密特 , L·马丁努 , J·克莱伯格-赛皮哈 , K·谢勒 , W·特罗蒂尔-拉普安特 , A·德乌
Abstract: 本发明涉及一种包括纳米层压涂层的制品，其中所述纳米层压涂层具有范围从20nm至500nm的总厚度并且包括至少一对由相邻的第一和第二层构成的层以及至少三个层，所述第一层是通过氧化硅的蒸发、尤其是SiO2的蒸发获得的无机二氧化硅层，并且所述第二层是在等离子体或离子辅助下通过有机硅化合物或有机硅化合物的混合物的沉积获得的基于硅的有机-无机层，并且其中作为整体的所述纳米层压涂层的折射率在550nm处低于1.58。
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公开(公告)号：CN113439222B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202080012912.4
申请日：2020-02-04
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
Inventor： O·扎贝达 , W·特罗蒂尔-拉普安特 , L·马丁努
Abstract: 本发明涉及一种包括具有至少一个主表面的基材的制品，该主表面涂覆有具有低于或等于1.50的折射率的层A，所述层A通过沉积由处于气态形式的至少一种化合物C产生的活化物种来获得，该化合物C在其结构中含有至少一个Si‑氟烷基、至少一个碳原子、至少一个氢原子和任选地至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，所述层A的沉积通过在层A形成时对层A施加离子束轰击来进行，并且所述层A是在无机前体化合物不存在的情况下形成的。制备干涉涂层的应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109196389B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201780029027.5
申请日：2017-05-11
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
Inventor： W·特罗蒂尔-拉普安特 , O·扎贝达 , L·马丁努 , J·克莱伯格-赛皮哈 , K·谢勒
IPC: G02B1/111
Abstract: 本发明涉及一种包括具有两个主表面的基材的光学制品，其中至少一个主表面被具有外表面的聚合物涂层覆盖，所述涂层包含在所述外表面下方的具有第一折射率n1的第一表面层以及在所述第一表面层下方的具有第二折射率n2的第二层，其中，n2
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公开(公告)号：CN108779551A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201680069889.6
申请日：2016-12-16
Applicant: 依视路国际公司 , 蒙特利尔综合理工学院公司
Inventor： S·基亚罗托 , J·克莱伯格-赛皮哈 , M·卡朗
CPC classification number: C23C14/06 , C03C17/007 , C03C17/009 , C03C17/34 , C03C2217/73 , C03C2218/15 , C23C14/24 , G02B1/111 , G02B1/115
Abstract: 本发明涉及一种包括基材的制品，所述基材具有至少一个主表面，所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属的氟化物的金属化合物A和至少一种有机硅化合物B获得的材料M的层L，材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率。根据本发明：-有机化合物B包含有机硅酸盐化合物或有机硅酸盐化合物的混合物；并且-化合物B以气态形式在离子轰击的存在下沉积。
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公开(公告)号：CN104054009B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280065037.1
申请日：2012-12-27
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/38 , C03C2217/734 , C03C2217/948 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02C7/022
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括一个具有用多层干涉涂层涂布的至少一个主表面的衬底，所述涂层包括一个具有低于或等于1.55的折射率的层A。该物品的特征在于：层A或者形成了外干涉涂层或者形成了与外干涉涂层直接接触的中间层，所述外干涉涂层具有小于或等于1.55的折射率的层B；层A是通过离子束沉积处于气态形式的来自至少一种化合物C的活化的物种获得的并且在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，在化合物A不含有氮和/或氧时层A在氮和/或氧的存在下进行沉积，并且层A不是由无机前体化合物形成的。
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公开(公告)号：CN109661597A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201780050995.4
申请日：2017-08-21
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 依视路国际公司
IPC: G02B1/14
Abstract: 本发明涉及一种具有增加的对热应力和吸湿应力的耐受性的眼科镜片，所述眼科镜片包括基材，所述基材的至少一个主面涂覆有基于硅氧烷的耐磨硬涂层，其特征在于，所述眼科镜片进一步包括至少一个与所述硬涂层直接接触的有机-无机材料的保护层，所述有机-无机材料的保护层具有高于20GPa、优选至少25GPa的杨氏模量。
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公开(公告)号：CN106574982A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201480078533.X
申请日：2014-04-28
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/111
CPC classification number: G02B1/111 , C23C14/083 , C23C14/12 , C23C14/30 , G02B1/041
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括具有至少一个主表面的基底，该至少一个主表面涂覆有通过至少一种氧化钛和至少一种有机硅酸盐化合物B的离子束辅助的真空沉积获得的材料的层A，所述材料具有在550nm下高于或等于1.8的折射率、在550nm下低于或等于0.02的消光系数k以及高于或等于0.046的H:E比，其中H和E分别指代该材料的硬度和该材料的弹性系数。
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