具有改进的磁晶粒尺寸分布和晶间偏析的磁介质

    公开(公告)号:CN105654968B

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201510854452.0

    申请日:2015-11-30

    Abstract: 本发明涉及具有改进的磁晶粒尺寸分布和晶间偏析的磁介质。方法和系统提供在磁存储设备中可使用的磁记录介质。磁记录介质包括基底、至少一个中间层和用于存储磁数据的磁记录堆栈。中间层(一个或多个)包括具有第一扩散常数的主要相和具有大于第一扩散常数的第二扩散常数的第二相。磁记录堆栈停留在中间层上,使得至少一个中间层在基底和磁记录堆栈之间。

    主训练夹具
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102103868B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201010602046.2

    申请日:2010-12-20

    CPC classification number: G11B5/851 G11B7/266 G11B17/22

    Abstract: 本发明公开一种衬底更换系统中用于训练盘定位的盘载体。盘载体由面板和多个光束传感器组成,所述面板具有配置为容纳盘的盘开口,所述光束传感器布置在盘开口周围以当固定在盘开口内时平行于盘的表面投射光束。多个光束传感器可以由位于面板的正面和背面的每面上的至少一个光束传感器组成。

    多速可编程成批式擦洗器系统

    公开(公告)号:CN105478393A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201510639601.1

    申请日:2015-09-30

    CPC classification number: G11B23/505 B08B1/002 B08B1/04 B08B3/04 B08B13/00

    Abstract: 示出了用于多速可编程成批式擦洗器系统和方法。所披露的系统包括:刷子,该刷子被配置成用于在清洗盘的过程中以多个速度擦洗该盘;梳刷系统,该梳刷系统被配置成用于在清洗过程中支撑该盘;清洗液布散器;以及第一去离子水布散器,该第一去离子水布散器被配置成用于在清洗过程中将水布散在该刷子上。该盘在多个预先确定的清洗步骤中被清洗,每个步骤包括预先确定的参数值,例如刷子RPM、步骤时长、清洗液布散器的布散状态、以及去离子水布散器的布散状态。

    用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统

    公开(公告)号:CN103170913A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201210559989.0

    申请日:2012-12-21

    CPC classification number: B24B57/02

    Abstract: 本发明提供了用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统。一种系统包括抛光器和再循环组件,其中抛光器具有入口和排水出口以及泥浆存储罐,泥浆存储罐将包括预选材料的泥浆供给到抛光器的入口,再循环组件包括错流过滤器、密度计、阀门和控制器,其中错流过滤器包括从抛光器的排水出口接收含有预选材料的废料泥浆的入口,其中错流过滤器经配置从而浓缩出口泥浆中的预选材料,密度计经配置从而测量过滤器出口泥浆中的预选材料的浓度,阀门被联接到过滤器出口,并且经配置从而供给泥浆存储罐,并且控制器被联接到密度计和阀门,其中控制器经配置从而当预选材料的浓度达到第一浓度阈值时打开阀门。

    抛光后的磁盘清洁处理
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102310065A

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201110187642.3

    申请日:2011-06-29

    CPC classification number: B08B1/04 B08B3/08 G11B5/82 G11B5/8404

    Abstract: 本发明提供一种清洁用于硬盘驱动器介质中的电镀抛光磁盘的方法。该方法包括将多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第一刷子的第一批处理刷洗器中,其中多个电镀抛光磁盘的每个定位在第一刷子的两个之间;以及用第一刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。该方法还包括将在第一批处理刷洗器中刷洗的多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第二刷子的第二批处理刷洗器中,其中所述多个电镀抛光磁盘的每个定位在第二刷子的两个之间;以及用第二刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。

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