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公开(公告)号：CN1904124B
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN200610108616.6
申请日：2006-07-28
Applicant: 量子全球技术有限公司
IPC: C23C4/00
CPC classification number: H01J37/32871 , C23C4/131 , H01J37/32477 , Y10T428/12472
Abstract: 揭示了用于施涂双线电弧喷涂复合涂层以在基材上实现具有预定特征的表面效应的方法和设备。
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公开(公告)号：CN102626698B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201210059116.3
申请日：2007-10-15
Applicant: 量子全球技术有限公司
CPC classification number: B08B7/0021 , B08B1/00 , B08B3/02 , B08B3/08 , C23C16/4407 , H01J37/32862
Abstract: 本发明涉及从衬底处理部件去除残余物。本发明从具有聚合物涂层于残余物下方的衬底处理部件的表面上去除残余物。一种形式中，以有机溶剂接触该部件表面，以去除该残余物而不伤害或去除该聚合物涂层。该残余物可为处理残余物或黏着剂残余物。可执行清洁处理作为再磨光处理的一部分。另一种形式中，藉由用激光扫描整个部件表面而烧蚀该残余物。又另一种形式中，藉由用等离子体切割器扫描整个部件表面来蒸发该残余物。
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公开(公告)号：CN101342534B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200810126036.9
申请日：2008-06-30
Applicant: 量子全球技术有限公司
CPC classification number: C23G3/00 , B08B3/08 , C23C14/564 , C23C16/4407 , C23F1/00 , C23F1/26 , C23F1/44 , C23G1/00 , C23G1/22
Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102696094A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201080051753.5
申请日：2010-09-14
Applicant: 量子全球技术有限公司
Inventor： 约瑟夫·F·萨默斯 , 健胜·王 , 大卫·道 , 萨蒂亚纳拉亚纳·亚当阿拉 , 罗纳德·特拉罕
IPC: H01L21/02
CPC classification number: B08B3/04 , C23C16/4407 , H01L21/6704 , H01L21/6719 , H01L21/67724
Abstract: 本发明的实施例一般地涉及用于室组件部分的非原位清洁的方法和设备。在一个实施例中，提供了用于在清洁化学物质中对组件部分进行清洁的系统。该系统包括湿法工作台装置和可拆卸清洁车，湿法工作台装置包括清洁容器组件，清洁容器组件用于在清洁处理期间保持要被清洁的一个或多个组件部分，可拆卸清洁车可拆卸地连接到清洁容器组件，以用于在清洁处理期间向清洁容器组件提供一个或多个清洁化学物质。
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公开(公告)号：CN102696094B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201080051753.5
申请日：2010-09-14
Applicant: 量子全球技术有限公司
Inventor： 约瑟夫·F·萨默斯 , 健胜·王 , 大卫·道 , 萨蒂亚纳拉亚纳·亚当阿拉 , 罗纳德·特拉罕
IPC: H01L21/02
CPC classification number: B08B3/04 , C23C16/4407 , H01L21/6704 , H01L21/6719 , H01L21/67724
Abstract: 本发明的实施例一般地涉及用于室部件部分的非原位清洁的方法和设备。在一个实施例中，提供了用于在清洁化学物质中对部件部分进行清洁的系统。该系统包括湿法工作台装置和可拆卸清洁车，湿法工作台装置包括清洁容器组件，清洁容器组件用于在清洁处理期间保持要被清洁的一个或多个部件部分，可拆卸清洁车可拆卸地连接到清洁容器组件，以用于在清洁处理期间向清洁容器组件供应一种或多种清洁化学物质。
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公开(公告)号：CN103406300A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201310315038.3
申请日：2008-06-30
Applicant: 量子全球技术有限公司
IPC: B08B3/08
CPC classification number: C23G3/00 , B08B3/08 , C23C14/564 , C23C16/4407 , C23F1/00 , C23F1/26 , C23F1/44 , C23G1/00 , C23G1/22
Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。
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公开(公告)号：CN102626698A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210059116.3
申请日：2007-10-15
Applicant: 量子全球技术有限公司
CPC classification number: B08B7/0021 , B08B1/00 , B08B3/02 , B08B3/08 , C23C16/4407 , H01J37/32862
Abstract: 本发明涉及从衬底处理部件去除残余物。本发明从具有聚合物涂层于残余物下方的衬底处理部件的表面上去除残余物。一种形式中，以有机溶剂接触该部件表面，以去除该残余物而不伤害或去除该聚合物涂层。该残余物可为处理残余物或黏着剂残余物。可执行清洁处理作为再磨光处理的一部分。另一种形式中，藉由用激光扫描整个部件表面而烧蚀该残余物。又另一种形式中，藉由用等离子体切割器扫描整个部件表面来蒸发该残余物。
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公开(公告)号：CN103406300B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201310315038.3
申请日：2008-06-30
Applicant: 量子全球技术有限公司
IPC: B08B3/08
CPC classification number: C23G3/00 , B08B3/08 , C23C14/564 , C23C16/4407 , C23F1/00 , C23F1/26 , C23F1/44 , C23G1/00 , C23G1/22
Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。
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