公开(公告)号：CN100595626C

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200580031983.4

申请日：2005-08-25

Applicant: IDC公司

Inventor： 威廉·卡明斯 ,  布莱恩·加利

IPC: G02B26/00 ,  G01J3/50 ,  G02F1/21 ,  G01N21/27

Abstract: 本文揭示用于测量例如干涉式调制器等镜面反射装置中的颜色和对比度的系统和方法。为了做出颜色和对比度确定，可利用对镜面反射装置的照明来在线测量从所述装置反射的光。所述测量可包含测量从所述被测试的装置以及从镜面明亮和黑暗标准件反射的光的光谱。可使用所述光谱来确定所述镜面反射装置的反射光谱和颜色参数。

公开(公告)号：CN101546526A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200910129351.1

申请日：2005-08-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 克拉伦斯·徐 ,  米特兰·C·马修 ,  马克·米格纳德

IPC: G09G3/34

Abstract: 一种用于从一驱动控制器寻址MEMS显示元件(如干涉式调制器)阵列的系统和方法。一种显示器包括成组的显示元件，所述显示元件用共同施加的驱动信号来寻址。在一实施例中，所述成组的显示元件被配置以具有不同的响应时间，且由具有表示响应时间的不同长度的脉冲来驱动。在另一实施例中，所述成组显示元件被配置以具有不同的激励电压且由表示激励电压的不同电压的脉冲来驱动。

公开(公告)号：CN100533242C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200510105060.0

申请日：2005-09-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 董明孝 ,  菲利浦·D·弗洛伊德 ,  布莱恩·W·阿巴克尔

IPC: G02F1/21 ,  G02B26/00 ,  B81C1/00 ,  G09G3/34

CPC classification number: B81C1/00174 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0181 ,  B81C1/00182 ,  B81C2201/0109 ,  G02B26/001

Abstract: 本发明提供用于制造诸如干涉式调制器的MEMS装置的方法，其包括选择性地移除一材料的牺牲部分以形成一内部空腔，留下所述材料的剩余部分以形成一支柱结构。所述材料可为覆盖层，其经沉积且经选择性地改变以界定相对于所述剩余部分可被选择性地移除的牺牲部分。或者，一材料层可被侧向陷偏离一覆盖层中的开口。这些方法可用于制造未释放和释放干涉式调制器。

公开(公告)号：CN101511722A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033563.9

申请日：2007-07-23

Applicant: IDC公司

Inventor： 马尼什·科塔里 ,  杰弗里·B·桑普塞尔

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00579 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2201/0132

Abstract: 本文提供用于在MEMS装置的制造期间防止表面关联电荷的形成和累积以及与其相关联的有害效应的方法。在一些实施例中，本文提供的方法包含在存在离子化气体的情况下蚀刻牺牲材料，其中所述离子化气体中和在所述蚀刻过程期间产生的带电物质，且允许将带电物质与其它蚀刻副产物一起移除。还揭示通过本发明的方法形成的微机电装置和并入有此类装置的视觉显示装置。

公开(公告)号：CN100523979C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200510105050.7

申请日：2005-09-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 克拉伦斯·徐 ,  威廉·J·卡明斯 ,  布莱恩·J·加利

IPC: G02F1/21 ,  G02B26/00 ,  G09G3/34

Abstract: 本发明涉及一种包含一第一反射体的多状态光调制器。距所述第一反射体一段距离定位一第一电极。一第二反射体定位于所述第一反射体与所述第一电极之间。所述第二反射体可在各自距所述第一反射体具有一对应距离的一非驱动位置、一第一驱动位置及一第二驱动位置之间移动。在一实施例中，所述三个位置对应于反射白光、非反射及反射一选定颜色的光。另一实施例为一种制造所述光调制器的方法。又一实施例为一种包括所述光调制器的显示器。

公开(公告)号：CN100523905C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200580031985.3

申请日：2005-09-01

Applicant: IDC公司

Inventor： 菲利普·D·弗洛伊德

IPC: G02B26/00

Abstract: 本发明的各种实施例涉及用于MEMS装置的热补偿的方法和系统。在某些实施例中，干涉式调制器包括位于衬底上的第一电极和柔性第二电极。柔性第二电极是可包含铝或含铝材料的可移动层，而所述衬底可包含玻璃。当干涉式调制器经受温度变化时，热膨胀速率的差异导致所述可移动层上的拉伸应变减小。本发明实施例提供经配置以补偿热膨胀的膜。所述膜具有小于所述衬底的热膨胀系数以便当将MEMS暴露于热能时补偿可移动层相对于衬底的膨胀。所述膜补偿衬底与可移动层的材料之间的热膨胀失配，以便抑制不合需要的光学特性。

公开(公告)号：CN101495900A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780028351.1

申请日：2007-05-22

Applicant: IDC公司

Inventor： 马尼什·科塔里 ,  利奥儿·科格特 ,  杰弗里·B·桑普塞尔

IPC: G02B26/00 ,  B81B3/00

CPC classification number: G02B26/001

Abstract: 一种微机电系统(MEMS)装置包括：第一电极；与所述第一电极电绝缘的第二电极；及与所述第一电极及所述第二电极电绝缘的第三电极。所述MEMS装置还包括将所述第一电极与所述第二电极分离的支撑结构及位于第一位置与第二位置之间且可在所述第一位置与所述第二位置之间移动的反射元件。当所述反射元件在所述第一位置中时其与所述装置的一部分接触且当在所述第二位置中时不与所述装置的所述部分接触。当所述反射元件在所述第一位置中时，在所述反射元件与所述部分之间产生粘合力。施加到所述第一电极、所述第二电极及所述第三电极的电压至少部分地降低或抵消所述粘合力。

公开(公告)号：CN100476496C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200580030995.5

申请日：2005-08-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 菲利普·D·弗洛伊德

IPC: G02B26/00 ,  G02F1/21

Abstract: 本发明的各实施例涉及用于在由干涉式调制器制成的显示器中产生白色的方法及系统，且更具体而言，涉及通过使用两种波长的反射光来产生白色。在一个实施例中，一种显示装置显示白色。通过从两种多个干涉式调制器类型反射光来产生白色。第一调制器类型反射处于特定波长的彩色光。第二调制器类型反射被选定为处于与第一者互补的波长的彩色光。从这两种类型反射的组合光在显示器中看起来为白色的。

公开(公告)号：CN100458497C

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200510093578.7

申请日：2005-08-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 马克·米格纳德 ,  克拉伦斯·徐 ,  米特兰·C·马修 ,  杰弗里·B·桑普塞尔

IPC: G02F1/01 ,  B81C5/00

Abstract: 本发明提供一种用于感测一微机电装置的激励电压及/或释放电压的方法，其包括向所述装置施加一变化电压并感测其状态和不同电压电平。在一实施例中，所述装置是一包含一适用于一显示器的干涉式调制器阵列的系统的一部分。所述方法可用于补偿显示像素特性的与温度相关的变化。

公开(公告)号：CN100439967C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200580010486.6

申请日：2005-09-26

Applicant: IDC公司

Inventor： 克拉伦斯·徐

IPC: G02B26/00 ,  G01J3/26 ,  G02F1/21

CPC classification number: G09G3/3466 ,  G02B26/001 ,  G09G2300/04 ,  G09G2310/02 ,  Y10T29/49826

Abstract: 本发明提供一种多状态光调制器，其包含一第一反射体104。一第一电极142定位在离开所述第一反射体104一距离处。一第二反射体14定位于所述第一反射体104与所述第一电极142之间。所述第二反射体14可在一未驱动位置、一第一驱动位置与一第二驱动位置之间移动，其中每一位置与所述第一反射体104具有一相应距离。在一个实施例中，所述光调制器具有闭锁电极17和143，其将所述光调制器保持在一驱动状态中。在另一实施例中，闭锁电极17和143用于改变所述光调制器的致动和释放阈值。