半导体激光元件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1259760C

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN02142273.7

    申请日:2002-08-29

    CPC classification number: H01S5/2231 H01S5/2077 H01S5/222

    Abstract: 本发明的目的是,提供一种选择成长形成的折射率控制层的膜厚控制性高、有效折射率差的再现性好、制造成品率高的半导体激光元件。在活性层(25)的至少一侧设具有活性层(25)的禁带宽度以上的禁带宽度的光波导层(27),在光波导层(27)外侧设具有光波导层(27)的禁带宽度以上的禁带宽度的包层(28),在光波导层(27)上,设经选择成长埋入的、具有带状窗(R21)的折射率控制层(31)的实际折射率波导型半导体激光元件中,该折射率控制层的膜厚在300nm以下,折射率控制层(31)埋入光波导层(27);在埋入的折射率控制层(31)上设先行选择成长的半导体层(30),在包含半导体层(30)和折射率控制层(31)的叠层部分中,半导体层(30)的膜厚变化造成的有效折射率的变化量,比折射率控制层(31)的膜厚变化造成的有效折射率的变化量更小。

    半导体激光器装置、半导体激光器模块及光纤放大器

    公开(公告)号:CN1663087A

    公开(公告)日:2005-08-31

    申请号:CN03815009.3

    申请日:2003-06-27

    CPC classification number: H01S5/20 H01S5/2004

    Abstract: 在n型衬底(1)上,依次层叠了n型包层(2)、n型波导层(3)、n型载流子阻挡层(4)、激活层(5)、p型载流子阻挡层(6)、p型波导层(7)。在p型波导层(7)内部,在除去了长度方向与光出射方向平行的带状的一部分区域以外的部分上,配置了n型阻流层(8)。在p型波导层(7)上,依次层叠了p型包层(9)、p型接触层(10)、p侧电极(11)。在n型衬底(1)的底面上,配置了n侧电极(12)。此外,对从外部入射的光的波长,n型包层(2)的折射率具有与有效折射率相等的值;而对出射波长的光,n型包层(2)及p型包层(9)具有比有效折射率低的折射率。

    半导体激光元件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1407677A

    公开(公告)日:2003-04-02

    申请号:CN02142273.7

    申请日:2002-08-29

    CPC classification number: H01S5/2231 H01S5/2077 H01S5/222

    Abstract: 本发明的目的是,提供一种选择成长形成的折射率控制层的膜厚控制性高、有效折射率差的再现性好、制造成品率高的半导体激光元件。在活性层25的至少一侧设具有活性层25的禁带宽度以上的禁带宽度的光波导层27,在光波导层27外侧设具有光波导层27的禁带宽度以上的禁带宽度的包层28,在光波导层27上,设经选择成长埋入的、具有带状窗R21的折射率控制层31的实际折射率波导型半导体激光元件中,折射率控制层31埋入光波导层27,在埋入的折射率控制层31上设先行选择成长的半导体层30,在包含半导体层30和折射率控制层31的叠层部分中,半导体层30的膜厚变化造成的有效折射率的变化量,比折射率控制层31的膜厚变化造成的有效折射率的变化量更小。

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