公开(公告)号：CN1397841A

公开(公告)日：2003-02-19

申请号：CN02141379.7

申请日：2002-07-09

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 田原修二 ,  柴原立子 ,  森田守次 ,  山本喜博 ,  小野一良

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，能够使用廉价的光酸发生剂，用近紫外曝光和弱碱显像的方法显示出高分辨度，也能够用于有通孔的基板，通过用近紫外光曝光并用弱碱显像液显像可以分辨率良好地进行微细图形加工，该正片型感光性抗蚀剂组合物的特征是以含有有至少一种二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。

公开(公告)号：CN1207633C

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：CN02141379.7

申请日：2002-07-09

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 田原修二 ,  柴原立子 ,  森田守次 ,  山本喜博 ,  小野一良

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，能够使用廉价的光酸发生剂，用近紫外曝光和弱碱显像的方法显示出高分辨度，也能够用于有通孔的基板，通过用近紫外光曝光并用弱碱显像液显像可以分辨率良好地进行微细图形加工，该正片型感光性抗蚀剂组合物的特征是以含有有至少一种二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。