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公开(公告)号：CN1397841A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN02141379.7
申请日：2002-07-09
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明涉及一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，能够使用廉价的光酸发生剂，用近紫外曝光和弱碱显像的方法显示出高分辨度，也能够用于有通孔的基板，通过用近紫外光曝光并用弱碱显像液显像可以分辨率良好地进行微细图形加工，该正片型感光性抗蚀剂组合物的特征是以含有有至少一种二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。
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公开(公告)号：CN1249119C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN01801488.7
申请日：2001-04-12
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G61/06
CPC classification number: C08G61/06 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及含有至少下面通式[3]表示的结构单元[B]和/或下面通式[4]表示的结构单元[C]的加氢开环易位聚合物。(R8～R11、R13～R16分别独立地表示氢原子或者碳原子数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基，X2、X3是-O-或者-CR212-(R12表示氢原子或者碳原子数1～10的直链状或者支链状的烷基)，它们相同或者不同，Y1或者Y2，一方为-(C＝O)-，另一方为-CR218-(R18为氢原子或者碳原子数1～10的直链状或者支链状的烷基)，m、n是0或者1～3的整数)。
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公开(公告)号：CN1207633C
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN02141379.7
申请日：2002-07-09
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明涉及一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，能够使用廉价的光酸发生剂，用近紫外曝光和弱碱显像的方法显示出高分辨度，也能够用于有通孔的基板，通过用近紫外光曝光并用弱碱显像液显像可以分辨率良好地进行微细图形加工，该正片型感光性抗蚀剂组合物的特征是以含有有至少一种二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。
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公开(公告)号：CN1380888A
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：CN01801488.7
申请日：2001-04-12
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G61/06
CPC classification number: C08G61/06 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及含有至少下面通式[3]表示的结构单元[B]和/或下面通式[4]表示的结构单元[C]的加氢开环易位聚合物(R8～R11、R13～R16分别独立地表示氢原子或者碳原子数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基,X2、X3是－O－或者－CR122－(R12表示氢原子或者碳原子数1～10的直链状或者支链状的烷基),它们相同或者不同,Y1或者Y2,一方为－(C=O)－,另一方为－CR182－(R18为氢原子或者碳原子数1～10的直链状或者支链状的烷基),m、n是0或者1～3的整数。)
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