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公开(公告)号：CN1125087C
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN00118810.0
申请日：2000-04-13
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08F297/00 , C08F2/38 , C08F4/00 , C08F220/14 , C08F220/28 , C08F220/44 , C08F297/02
Abstract: 本发明提供一种制备聚合物的方法，其包括在由式(1)表示的膦腈鎓化合物存在下，或在膦腈鎓化合物和活性氢化合物存在下，将含有至少一种极性不饱和化合物的单体进行阴离子聚合，式(1)中各基团的定义如说明书所述。生成的聚合物的特征在于分子量分布窄。
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公开(公告)号：CN1262276A
公开(公告)日：2000-08-09
申请号：CN99119183.8
申请日：1999-07-15
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C07F9/53
CPC classification number: C07F9/224 , C07F9/065 , C08G65/2675
Abstract: 本发明提供式(1)代表的硫化膦及其制备方法,所述硫化膦为碱性且溶于有机溶剂,在制备或操作中没有问题,并显示出作为碱性化合物的催化活性。所述方法包括通过使一分子硫代磷酰氯与三分子式(2)代表的正膦反应制备(1)硫化膦。本发明还提供了在所述硫化膦存在下有效合成聚环氧烷的方法;和在所述硫化膦存在下从环氧化合物制备1,2－二氧基乙烷衍生物的方法。
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公开(公告)号：CN1234410A
公开(公告)日：1999-11-10
申请号：CN99107218.9
申请日：1999-04-16
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G65/14
CPC classification number: C08G65/2675 , C08G65/10 , C08G65/2663
Abstract: 这里提供一种简单和有效地通过使用聚合引发剂制备不含任何金属组分和不留下气味的聚亚烷基氧化物的方法,该引发剂不会在通过聚合烯化氧化合物制备聚亚烷基氧化物的过程中引起制备和处理上的任何问题并且在聚合引发之前不需要特殊的处理。即一种在由通式(1)表示的膦氧化物化合物存在下:其中R是相同的或不同的并且各自表示具有1—10个碳原子的烃基,和x表示就摩尔比而言的水分子的量并在0—5.0范围内。或在该膦氧化物化合物和选自水或具有部分结构式－OH或－NH－的有机化合物的活性氢化合物存在下,让烯化氧化合物聚合的方法。
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公开(公告)号：CN101675113A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200880014928.8
申请日：2008-04-30
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08L79/08 , C08K5/5313 , C08K5/5399 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/037
CPC classification number: G03F7/037 , C08K5/53 , G03F7/027 , Y10T428/31721 , C08L79/04
Abstract: 本发明提供不包含对环境产生负荷的可能性高的含卤化合物类及锑化合物、并且在固化后显示良好的阻燃性、并且可以形成符合尤其近年来苛刻的耐弯曲性和绝缘可靠性要求的覆膜的树脂组合物。具体地提供一种树脂组合物，含有(A)聚酰亚胺前体以及(B)由下述式(1)表示的有机磷化合物与具有4个以上(甲基)丙烯酸酯基的化合物的加成物。优选树脂组合物中含有(C)磷腈化合物。
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公开(公告)号：CN1573553A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410046202.6
申请日：2004-05-31
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: B32B27/08 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2457/00 , C08L79/08 , G03F7/037 , H05K3/287 , H05K2201/0154 , Y10T428/31721 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明涉及在印刷电路板上，特别是在硬盘用悬置基板上形成的铜等布线起保护作用的膜形成用组合物。而且，本发明还涉及使用该组合物的布线保护膜形成用干膜、采用该干膜保护布线的基板。本发明的布线保护膜形成用组合物中的固形成分中的硫原子的含量等于或小于150ppm。
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公开(公告)号：CN1138782C
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN00119209.4
申请日：2000-04-13
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C07F9/53
Abstract: 本发明提供一种制备氧化膦的方法，包括使亚氨基正膦与三氯氧磷反应从而工业化地高产率地得到高纯度的氧化膦。具体地，氧化膦通过下列方法制备：使亚氨基正膦与三氯氧磷在特定的反应条件下以在20℃时介电常数为2.2或更高的非质子有机溶剂作为反应溶剂反应得到含有氧化膦和作为副产物与氧化膦同时得到的氨基氯化鏻的液体反应产物，通过固-液分离方法将上述氯化物从液体反应产物中除去，并将进行了固-液分离的溶液用水洗涤。
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公开(公告)号：CN1224020A
公开(公告)日：1999-07-28
申请号：CN98126540.5
申请日：1998-12-04
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C07F9/535
CPC classification number: C07F9/065
Abstract: 本发明提供了由氯化氨基三(二甲氨基)鏻以高纯度和高收率制备亚氨基三(二甲氨基)正膦的方法。在碱金属或碱土金属的氯化物和氢氧化物微溶于其中的溶剂存在下,首先将氯化氨基三(二甲氨基)鏻与碱金属或碱土金属氢氧化物水溶液反应,由此形成亚氨基三(二甲氨基)正膦。在70℃或更低温度时,从反应混合物中蒸馏出水后,通过固－液分离从所得浓缩的反应混合物中除去固体。然后蒸馏所得母液,得到亚氨基三(二甲氨基)正膦。
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公开(公告)号：CN101675113B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200880014928.8
申请日：2008-04-30
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08L79/08 , C08K5/5313 , C08K5/5399 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/037
CPC classification number: G03F7/037 , C08K5/53 , G03F7/027 , Y10T428/31721 , C08L79/04
Abstract: 本发明提供不包含对环境产生负荷的可能性高的含卤化合物类及锑化合物、并且在固化后显示良好的阻燃性、并且可以形成符合尤其近年来苛刻的耐弯曲性和绝缘可靠性要求的覆膜的树脂组合物。具体地提供一种树脂组合物，含有(A)聚酰亚胺前体以及(B)由下述式(1)表示的有机磷化合物与具有4个以上(甲基)丙烯酸酯基的化合物的加成物。优选树脂组合物中含有(C)磷腈化合物。
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公开(公告)号：CN101663617A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200880012815.4
申请日：2008-04-23
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: G03F7/037 , G03F7/085 , H05K3/287 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供在制作印刷电路板时实施的各种金属镀敷工序中，可以避免镀层浸入、膜剥离等不良现象，并且能够形成密合性、挠性、绝缘可靠性、耐热性优异的配线保护膜的感光性树脂组合物。具体来说，提供含有(A)具有羧基的高分子化合物、(B)具有至少2个以上可进行光聚合的不饱和双键的化合物、(C)光聚合引发剂及用特定结构表示的(D)含氮化合物的感光性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN1285970C
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200410046202.6
申请日：2004-05-31
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: B32B27/08 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2457/00 , C08L79/08 , G03F7/037 , H05K3/287 , H05K2201/0154 , Y10T428/31721 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明涉及在印刷电路板上，特别是在硬盘用悬置基板上形成的铜等布线起保护作用的膜形成用组合物。而且，本发明还涉及使用该组合物的布线保护膜形成用干膜、采用该干膜保护布线的基板。本发明的布线保护膜形成用组合物中的固形成分中的硫原子的含量等于或小于150ppm。
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