溅射装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106319461A

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201511026395.3

    申请日:2015-12-31

    Abstract: 本发明公开一种溅射装置,根据示例性的实施例的溅射装置包括:具有阴极极性的靶单元;布置在基板和靶单元之间,并具有阳极极性的阳极部;使阳极部旋转的电机部;以及与阳极部的内部空间连通而向阳极部供应第一冷却流体的流体供应部。根据示例性实施例,可以减少阳极棒的弯曲现象,因此可以减少阳极棒和靶单元之间可能发生的电弧(arcing)现象,并可以减少为清洗或更换阳极棒而中断工序所导致的生产性下降。

    溅射装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106854753A

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201611128345.0

    申请日:2016-12-09

    CPC classification number: C23C14/352 C23C14/3407

    Abstract: 本发明提供一种溅射装置。本发明一实施例的溅射装置包括:工艺腔室;溅射靶,设置于所述工艺腔室的内部;基板架,与所述溅射靶相对配置,用于支撑待沉积溅射靶物质的基板;以及溅射靶驱动部,以使所述溅射靶倾斜的方式旋转驱动所述溅射靶。

    显示设备和制造该显示设备的方法

    公开(公告)号:CN111613640A

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN202010098510.2

    申请日:2020-02-18

    Abstract: 提供了一种显示设备和制造该显示设备的方法。在制造该显示设备的方法中,所述方法包括:提供第一母基底;在第一母基底上形成包括发光器件的像素层;提供第二母基底;在第二母基底上形成被构造为使从发光器件发射的光衍射的衍射图案层;通过结合第一母基底和第二母基底来形成结合的基底结构,像素层形成在第一母基底上,衍射图案层形成在第二母基底上;通过切割结合的基底结构来形成均包括第一基底和第二基底的多个单元基底结构,像素层形成在第一基底上,衍射图案层形成在第二基底上;在衍射图案层上形成保护构件;以及用保护构件去除衍射图案层上的异物。

    溅射装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106319461B

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201511026395.3

    申请日:2015-12-31

    Abstract: 本发明公开一种溅射装置,根据示例性的实施例的溅射装置包括:具有阴极极性的靶单元;布置在基板和靶单元之间,并具有阳极极性的阳极部;使阳极部旋转的电机部;以及与阳极部的内部空间连通而向阳极部供应第一冷却流体的流体供应部。根据示例性实施例,可以减少阳极棒的弯曲现象,因此可以减少阳极棒和靶单元之间可能发生的电弧(arcing)现象,并可以减少为清洗或更换阳极棒而中断工序所导致的生产性下降。

    溅射装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106854753B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201611128345.0

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本发明提供一种溅射装置。本发明一实施例的溅射装置包括:工艺腔室;溅射靶,设置于所述工艺腔室的内部;基板架,与所述溅射靶相对配置,用于支撑待沉积溅射靶物质的基板;以及溅射靶驱动部,以使所述溅射靶倾斜的方式旋转驱动所述溅射靶。

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