公开(公告)号：CN119335813A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202410807870.3

申请日：2024-06-21

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李旻映 ,  金智敏 ,  任浣熙 ,  司空峻 ,  千玟基 ,  禹昌秀 ,  辛乘旭

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/80 ,  G03F1/56

Abstract: 公开一种半导体光刻胶组合物以及使用所述半导体光刻胶组合物来形成图案的方法，所述半导体光刻胶组合物包含有机金属性化合物；含乙烯基的酸化合物；以及溶剂。

公开(公告)号：CN116057471A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202180054499.2

申请日：2021-11-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  千玟基

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明有关于一种光阻底层组成物以及使用所述光阻底层组成物形成图案的方法，所述光阻底层组成物包括：具有在环中包含两个或更多个氮原子的环骨架的聚合物、由化学式1表示的化合物及溶剂。化学式1的定义如说明书中所述。[化学式1]