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公开(公告)号:CN1368650A
公开(公告)日:2002-09-11
申请号:CN01137912.X
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/027 , C23C14/06 , G02B1/116 , G02B5/289 , G02F1/133512 , G02F1/13439 , Y10T428/1064 , Y10T428/1068 , Y10T428/24942
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含有随该薄膜厚度渐变的含量梯度的第一成分和第二成分,第一成分是从SiOx(x>1)、MgF2、CaF2、Al2O3、SnO2、In2O3和ITO组成的一组中选择的至少一种介电材料,而第二成分是从铁(Fe)、钴(Co)、钛(Ti)、钒(V)、铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)和钽(Ta)组成的一组中选择的至少一种材料。
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公开(公告)号:CN1311286C
公开(公告)日:2007-04-18
申请号:CN01137909.X
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G02F1/19
CPC classification number: C23C14/027 , C23C14/10 , C23C14/352 , G02B1/10 , H05K9/0096 , Y10T428/1059 , Y10T428/1068 , Y10T428/12458 , Y10T428/12583 , Y10T428/1259 , Y10T428/12597 , Y10T428/12604 , Y10T428/12611 , Y10T428/26
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含有SiO作为介电材料的第一成分和至少一种选自铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)和钽(Ta)的第二成分,第一和第二成分有随薄膜厚度渐变的含量梯度。
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公开(公告)号:CN100446160C
公开(公告)日:2008-12-24
申请号:CN01123094.0
申请日:2001-07-24
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J2211/225 , H01J2211/245 , H01J2211/444
Abstract: 本发明提供一种用于等离子体显示屏(PDP)的板、一种制备这种板的方法、和一种采用这种板的PDP。这种板包括:由透明材料制成的板件;在板件上以预定图案制成的多个电极对;和在板件上制成的覆盖电极的介电层,其中电极是由第一种介电成分和至少一种选自铁(Fe)、钴(Co)、钒(V)、钛(Ti)、铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)、钽(Ta)、铜(Cu)、和铂(Pt)的第二种成分制成的,且其中第一种介电成分和第二种成分的量在电极厚度的方向上逐渐变化。
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公开(公告)号:CN1250984C
公开(公告)日:2006-04-12
申请号:CN01137910.3
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C03C17/225 , C03C17/23 , C03C17/36 , C03C17/3607 , C03C17/3626 , C03C17/3642 , C03C17/3676 , C03C17/3694 , C03C2217/91 , C23C14/027 , C23C14/0617 , C23C14/0652 , C23C14/081 , C23C14/10 , G02B1/10 , Y10T428/24942
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含一种从铝和硅中选择的第一成分和至少一种从氧和氮中选择的第二成分,该第一成分和第二成分有随该薄膜的厚度渐变的含量梯度,渐变的含量梯度是如此分布的,以致在外部光线的入射方向上,第一成分的含量随薄膜的厚度逐渐增大,而第二成分的含量随薄膜的厚度逐渐减小。
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公开(公告)号:CN1246731C
公开(公告)日:2006-03-22
申请号:CN01137912.X
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/027 , C23C14/06 , G02B1/116 , G02B5/289 , G02F1/133512 , G02F1/13439 , Y10T428/1064 , Y10T428/1068 , Y10T428/24942
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含有随该薄膜厚度渐变的含量梯度的第一成分和第二成分,第一成分是从SiOX(x>1)、MgF2、CaF2、Al2O3、SnO2、In2O3和ITO组成的一组中选择的至少一种介电材料,而第二成分是从铁(Fe)、钴(Co)、钛(Ti)、钒(V)、铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)和钽(Ta)组成的一组中选择的至少一种材料。
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公开(公告)号:CN1384523A
公开(公告)日:2002-12-11
申请号:CN01123094.0
申请日:2001-07-24
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J2211/225 , H01J2211/245 , H01J2211/444
Abstract: 本发明提供一种用于等离子体显示屏(PDP)的板、一种制备这种板的方法、和一种采用这种板的PDP。这种板包括:由透明材料制成的板件;在板件上以预定图案制成的一系列电极;和在板件上制成的覆盖电极的介电层,其中电极是由第一种介电成分和至少一种选自铁(Fe)、钴(Co)、钒(V)、钛(Ti)、铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)、钽(Ta)、铜(Cu)、和铂(Pt)的第二种金属成分制成的。
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公开(公告)号:CN1368657A
公开(公告)日:2002-09-11
申请号:CN01137909.X
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G02F1/19
CPC classification number: C23C14/027 , C23C14/10 , C23C14/352 , G02B1/10 , H05K9/0096 , Y10T428/1059 , Y10T428/1068 , Y10T428/12458 , Y10T428/12583 , Y10T428/1259 , Y10T428/12597 , Y10T428/12604 , Y10T428/12611 , Y10T428/26
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含有SiO作为介电材料的第一成分和至少一种选自铝(Al)、银(Ag)、硅(Si)、锗(Ge)、钇(Y)、锌(Zn)、锆(Zr)、钨(W)和钽(Ta)的第二成分,第一和第二成分有随薄膜厚度渐变的含量梯度。
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公开(公告)号:CN1368649A
公开(公告)日:2002-09-11
申请号:CN01137910.3
申请日:2001-11-05
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C03C17/225 , C03C17/23 , C03C17/36 , C03C17/3607 , C03C17/3626 , C03C17/3642 , C03C17/3676 , C03C17/3694 , C03C2217/91 , C23C14/027 , C23C14/0617 , C23C14/0652 , C23C14/081 , C23C14/10 , G02B1/10 , Y10T428/24942
Abstract: 提供的是一种包含一个过渡层的功能薄膜,该过渡层包含一种从铝和硅中选择的第一成分和至少一种从氧和氮中选择的第二成分,该第一成分和第二成分有随该薄膜的厚度渐变的含量梯度。
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公开(公告)号:CN1304130A
公开(公告)日:2001-07-18
申请号:CN00137632.2
申请日:2000-12-23
Applicant: 三星SDI株式会社 , 伊凡.英达特尼Z. , 彼得洛.谢培利亚维伊E. , 卡特琳娜.米塞洛夫斯卡亚V.
CPC classification number: H01J29/327 , G02F1/133512 , H01J9/2278 , H01J2211/444
Abstract: 本发明提供了一种为包围显示装置象素的黑色涂层的黑色矩阵及其制造方法,和使用该矩阵显示装置。该黑色矩阵包含电介质材料SiO和至少一种选自铁、钴、钒和钛的金属,具优异的热稳定性和化学稳定性,由于使用无毒材料而为环境友好型。该黑色矩阵无需退火处理即对基材有优异的粘附性,并且由于不存在内应力而具优异的机械性能,并能够制成粒径不大于1μm的微型图案。当应用到显示装置的基材上时,黑色矩阵显示出优异的外部光的吸收效果。因此,可以得到具有改善的照明度和对比度特性的显示装置。
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公开(公告)号:CN1279776A
公开(公告)日:2001-01-10
申请号:CN98811248.5
申请日:1998-05-14
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G03F7/2018 , G03F7/16
Abstract: 一种照相平版制版法,包括下述步骤:(a)将含有粘结树脂和成膜材料的成膜组合物涂布于基体上形成膜,并将其干燥;(b)按照所需图形,只将含感光剂的感光组合物选择性地涂布于所述膜的预定部分;(c)将步骤(b)所得产品曝光;以及(d)将曝光产品显影,形成所需膜图形。因此具有极好性能的膜状图形可以容易而有效地制造。该方法可应用于任何需要形成膜状图形的产品,例如VFD、CRT、FED或PDP。
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