公开(公告)号：CN1304130A

公开(公告)日：2001-07-18

申请号：CN00137632.2

申请日：2000-12-23

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  伊凡.英达特尼Z. ,  彼得洛.谢培利亚维伊E. ,  卡特琳娜.米塞洛夫斯卡亚V.

Inventor： 伊凡.英达特尼Z. ,  彼得洛.谢培利亚维伊E. ,  卡特琳娜 ,  米塞洛夫斯卡亚V. ,  朴昌元 ,  李准培 ,  韩勇

IPC: G09G5/02 ,  B32B5/14

CPC classification number: H01J29/327 ,  G02F1/133512 ,  H01J9/2278 ,  H01J2211/444

Abstract: 本发明提供了一种为包围显示装置象素的黑色涂层的黑色矩阵及其制造方法,和使用该矩阵显示装置。该黑色矩阵包含电介质材料SiO和至少一种选自铁、钴、钒和钛的金属,具优异的热稳定性和化学稳定性,由于使用无毒材料而为环境友好型。该黑色矩阵无需退火处理即对基材有优异的粘附性,并且由于不存在内应力而具优异的机械性能,并能够制成粒径不大于1μm的微型图案。当应用到显示装置的基材上时,黑色矩阵显示出优异的外部光的吸收效果。因此,可以得到具有改善的照明度和对比度特性的显示装置。

公开(公告)号：CN1279776A

公开(公告)日：2001-01-10

申请号：CN98811248.5

申请日：1998-05-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩勇 ,  都永洛 ,  李准培

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/2018 ,  G03F7/16

Abstract: 一种照相平版制版法,包括下述步骤:(a)将含有粘结树脂和成膜材料的成膜组合物涂布于基体上形成膜,并将其干燥;(b)按照所需图形,只将含感光剂的感光组合物选择性地涂布于所述膜的预定部分;(c)将步骤(b)所得产品曝光;以及(d)将曝光产品显影,形成所需膜图形。因此具有极好性能的膜状图形可以容易而有效地制造。该方法可应用于任何需要形成膜状图形的产品,例如VFD、CRT、FED或PDP。

公开(公告)号：CN1157631C

公开(公告)日：2004-07-14

申请号：CN00137632.2

申请日：2000-12-23

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  伊凡·英达特尼Z. ,  彼得洛·谢培利亚维伊E. ,  卡特琳娜·米塞洛夫斯卡亚V.

Inventor： 伊凡·英达特尼Z. ,  彼得洛·谢培利亚维伊E. ,  卡特琳娜·米塞洛夫斯卡亚V. ,  朴昌元 ,  李准培 ,  韩勇

IPC: G02F1/1335 ,  H01J29/32

CPC classification number: H01J29/327 ,  G02F1/133512 ,  H01J9/2278 ,  H01J2211/444

Abstract: 本发明提供了一种为包围显示装置象素的黑色涂层的黑色矩阵及其制造方法，和使用该矩阵显示装置。该黑色矩阵包含电介质材料SiO和至少一种选自铁、钴、钒和钛的金属，具优异的热稳定性和化学稳定性，由于使用无毒材料而为环境友好型。该黑色矩阵无需退火处理即对基材有优异的粘附性，并且由于不存在内应力而具优异的机械性能，并能够制成粒径不大于1μm的微型图案。当应用到显示装置的基材上时，黑色矩阵显示出优异的外部光的吸收效果。因此，可以得到具有改善的照明度和对比度特性的显示装置。

公开(公告)号：CN1134705C

公开(公告)日：2004-01-14

申请号：CN98811248.5

申请日：1998-05-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩勇 ,  都永洛 ,  李准培

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2018 ,  G03F7/16

Abstract: 一种照相平版制版法，包括下述步骤：(a)将含有粘结树脂和成膜材料的成膜组合物涂布于基体上形成膜，并将其干燥；(b)按照所需图形，只将含感光剂的感光组合物选择性地涂布于所述膜的预定部分；(c)将步骤(b)所得产品曝光；以及(d)将曝光产品显影，形成所需膜图形。因此具有极好性能的膜状图形可以容易而有效地制造。该方法可应用于任何需要形成膜状图形的产品，例如VFD、CRT、FED或PDP。