-
公开(公告)号：CN113272346B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202080008015.6
申请日：2020-02-18
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/028 , G02B5/20 , C09B67/50 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种能够形成高亮度的像素的着色树脂组合物。本发明的着色树脂组合物含有：(A)着色剂、(B)溶剂、(C)碱可溶性树脂、及(D)光聚合引发剂，其中，所述(A)着色剂含有锌酞菁系染料(a1)，在该锌酞菁系染料(a1)于230℃下加热后的使用了CuKα射线的薄膜X射线衍射光谱中，在衍射角(2θ)为2～5°的范围内具有最大峰。
-
公开(公告)号：CN113272346A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202080008015.6
申请日：2020-02-18
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/028 , G02B5/20 , C09B67/50 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种能够形成高亮度的像素的着色树脂组合物。本发明的着色树脂组合物含有：(A)着色剂、(B)溶剂、(C)碱可溶性树脂、及(D)光聚合引发剂，其中，所述(A)着色剂含有锌酞菁系染料(a1)，在该锌酞菁系染料(a1)于230℃下加热后的使用了CuKα射线的薄膜X射线衍射光谱中，在衍射角(2θ)为2～5°的范围内具有最大峰。
-
公开(公告)号：CN104350082A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380028470.2
申请日：2013-05-30
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: C08G61/126 , C08G61/123 , C08G61/124 , C08G2261/12 , C08G2261/124 , C08G2261/3223 , C08G2261/3246 , C08G2261/344 , C08G2261/414 , C08G2261/91 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0094 , H01L51/42 , H01L51/4253 , Y02E10/549
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够作为半导体材料使用、且制成溶液时稳定性高的共聚物。通过下述共聚物可解决该课题，所述共聚物含有具有二氧吡咯稠环骨架的重复单元和具有二噻吩并稠环骨架且具有特定的取代基的重复单元。
-
公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
-
公开(公告)号：CN101356241A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200780001115.0
申请日：2007-08-01
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体股份有限公司
Abstract: 本发明涉及酰肼螯形配位化合物和使用了该化合物的光学记录介质及其记录方法。所述酰肼螯形配位化合物在涂布溶剂中的溶解性、耐光性均优异，能对应蓝色激光记录，是作为光学记录介质的记录层形成用色素有用的新型酰肼螯形配位化合物。该酰肼螯形配位化合物如通式(1)所示。光学记录介质的记录层形成用色素含有该化合物。其中，环A是芳香环。R1和R6是芳环基或者碳原子数为20以下的1价的非芳环取代基。R2～R5是氢原子、芳环基或者碳原子数为20以下的1价的非芳环取代基。n是0或1。a是1～3。M是过渡金属原子。X是周期表第14～16族原子。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111788505B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201980016045.9
申请日：2019-03-18
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C09B35/037 , G02F1/13 , G02F1/1335
Abstract: 本发明的第一方式的各向异性色素膜形成用组合物含有色素和具有式(1)所示的部分结构的液晶化合物。‑Cy‑X2‑C≡C‑X‑…(1)(式中，Cy表示烃环基或杂环基；‑X‑表示‑C(＝O)O‑、‑OC(＝O)‑、‑C(＝S)O‑、‑OC(＝S)‑、‑C(＝O)S‑、‑SC(＝O)‑、‑CH2CH2‑、‑CH＝CH‑、‑C(＝O)NH‑、‑NHC(＝O)‑、‑CH2O‑、‑OCH2‑、‑CH2S‑或‑SCH2‑；‑X2‑表示单键、‑C(＝O)O‑、‑OC(＝O)‑、‑C(＝S)O‑、‑OC(＝S)‑、‑C(＝O)S‑、‑SC(＝O)‑、‑CH2CH2‑、‑CH＝CH‑、‑C(＝O)NH‑、‑NHC(＝O)‑、‑CH2O‑、‑OCH2‑、‑CH2S‑或‑SCH2‑)。
-
公开(公告)号：CN103906754A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201280053314.7
申请日：2012-11-02
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C07F7/22 , C07F7/30 , C07F7/08 , C07F5/04 , C07F9/6568 , C07D495/14 , C08G61/12 , H01L51/46
CPC classification number: H01L31/02167 , C07F7/0816 , C07F7/30 , C08G61/122 , C08G61/124 , C08G61/126 , C08G2261/124 , C08G2261/1412 , C08G2261/1424 , C08G2261/3223 , C08G2261/3241 , C08G2261/3243 , C08G2261/344 , C08G2261/91 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0094
Abstract: 本发明的课题在于利用更为简便且温和的方法对作为前体的单体进行精制，以得到分子量更大的聚合物。本发明涉及一种稠合多环芳香族化合物的制造方法，其为具有n个(其中，n为1～4的整数)活性基团的稠合多环芳香族化合物的制造方法，该方法包括使含有该稠合多环芳香族化合物与溶剂的组合物与沸石接触的工序。
-
公开(公告)号：CN103380506A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201280006693.4
申请日：2012-01-27
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: H01L51/42 , C08G61/12 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/30
CPC classification number: H01L31/0256 , C07F7/2208 , C07F9/5325 , C07F9/5329 , C08G61/123 , C08G61/126 , C08G2261/1412 , C08G2261/3247 , C08G2261/344 , C08G2261/91 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0054 , H01L51/0058 , H01L51/0094 , H01L51/4273 , Y02E10/549
Abstract: 本发明的课题在于，提供光电转换效率提高了的光电转换元件、太阳能电池和太阳能电池模块。通过以下的光电转换元件解决该课题，所述光电转换元件具备一对电极、配置于该电极间的活性层、以及配置于至少一方的所述电极和所述活性层之间的电子取出层，其特征在于，所述活性层中含有具有下述通式（1）所示的重复单元的共聚物，且上述电子取出层中含有下述通式（E1）所示的化合物。
-
公开(公告)号：CN1675588A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
-
公开(公告)号：CN111788505A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980016045.9
申请日：2019-03-18
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C09B35/037 , G02F1/13 , G02F1/1335
Abstract: 本发明的第一方式的各向异性色素膜形成用组合物含有色素和具有式(1)所示的部分结构的液晶化合物。‑Cy‑X2‑C≡C‑X‑…(1)(式中，Cy表示烃环基或杂环基；‑X‑表示‑C(＝O)O‑、‑OC(＝O)‑、‑C(＝S)O‑、‑OC(＝S)‑、‑C(＝O)S‑、‑SC(＝O)‑、‑CH2CH2‑、‑CH＝CH‑、‑C(＝O)NH‑、‑NHC(＝O)‑、‑CH2O‑、‑OCH2‑、‑CH2S‑或‑SCH2‑；‑X2‑表示单键、‑C(＝O)O‑、‑OC(＝O)‑、‑C(＝S)O‑、‑OC(＝S)‑、‑C(＝O)S‑、‑SC(＝O)‑、‑CH2CH2‑、‑CH＝CH‑、‑C(＝O)NH‑、‑NHC(＝O)‑、‑CH2O‑、‑OCH2‑、‑CH2S‑或‑SCH2‑。)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.035 seconds)
