公开(公告)号：CN114807875A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210424640.X

申请日：2022-04-21

Applicant: 上海大学

Inventor： 易军 ,  贾生伟 ,  黄波 ,  卞西磊 ,  贾延东 ,  王刚

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/02 ,  C23C14/16 ,  C22C45/00 ,  C22C45/04 ,  C22C45/10

Abstract: 本发明公开了一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，就是将难混溶的金属拼接成靶材，用聚焦离子源以一定能量轰击靶材，将本来难以混溶的原子溅射出来并沉积到旋转的衬底上，衬底的旋转使得合金成分均匀。由于冷却速度非常高，难混溶原子来不及进行相分离而形成非晶态合金。在溅射沉积的同时，用辅助离子源对正在生长的合金膜表面用较小的能量和束流进行轰击，提高薄膜在沉积过程中的致密性，从而实现对非晶态难混溶合金厚膜的制备。该方法可显著提高合金的非晶形成能力，所制备的难互溶合金膜厚度甚至可以达到100微米以上，尺寸大，致密度高。