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公开(公告)号：CN118441245A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410667932.5
申请日：2024-05-28
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明提出了一种掺杂氧的中熵合金/金属玻璃纳米层状薄膜及其制备方法，属于金属合金薄膜技术领域，采用直流磁控溅射法，在基底表面交替沉积软相中熵合金层与硬相金属玻璃层，两相呈交替的层状分布，调控两相的溅射功率与溅射时间，获得纳米层状薄膜。本发明操作简单，条件易于控制，重复性好，制得的薄膜界面清晰、厚度均匀、表面光滑平整，具有优异的力学性能，在高强度电子器件、耐磨以及抗腐蚀涂层等领域拥有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN116497300B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310513302.8
申请日：2023-05-09
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种采用低温热循环处理调控非晶合金残余应力和回春行为的方法，该方法包含以下步骤：通过三轴应力状态压缩回春Zr基非晶合金样品；对上述回春试样进行低温热循环处理，首先将回春态非晶合金放置在液氮中保持1min，然后迅速将非晶合金样品拿出液氮并用冷风吹风机吹干1min形成一个循环周期，重复上述的操作步骤完成剩余的循环次数。结果发现，随着低温热循环处理次数的增加，三轴应力状态压缩引入的残余应力逐渐被软区膨胀的内应力抵消，即表现为致密的非晶合金结构逐渐松散，能量状态降低，平均硬度下降，压缩强度降低。本发明为调控非晶合金的能量状态、进而为实现其机械性能的调控提供了新的思路与方案。
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公开(公告)号：CN114807875A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210424640.X
申请日：2022-04-21
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种难混溶金属的非晶态合金厚膜的制备方法，就是将难混溶的金属拼接成靶材，用聚焦离子源以一定能量轰击靶材，将本来难以混溶的原子溅射出来并沉积到旋转的衬底上，衬底的旋转使得合金成分均匀。由于冷却速度非常高，难混溶原子来不及进行相分离而形成非晶态合金。在溅射沉积的同时，用辅助离子源对正在生长的合金膜表面用较小的能量和束流进行轰击，提高薄膜在沉积过程中的致密性，从而实现对非晶态难混溶合金厚膜的制备。该方法可显著提高合金的非晶形成能力，所制备的难互溶合金膜厚度甚至可以达到100微米以上，尺寸大，致密度高。
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公开(公告)号：CN118441245B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410667932.5
申请日：2024-05-28
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明提出了一种掺杂氧的中熵合金/金属玻璃纳米层状薄膜及其制备方法，属于金属合金薄膜技术领域，采用直流磁控溅射法，在基底表面交替沉积软相中熵合金层与硬相金属玻璃层，两相呈交替的层状分布，调控两相的溅射功率与溅射时间，获得纳米层状薄膜。本发明操作简单，条件易于控制，重复性好，制得的薄膜界面清晰、厚度均匀、表面光滑平整，具有优异的力学性能，在高强度电子器件、耐磨以及抗腐蚀涂层等领域拥有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN114192800B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202111527750.0
申请日：2021-12-14
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明属于合金制造技术领域。本发明提供了一种选区电子束熔化技术制备高致密度和高强韧高熵合金的方法，通过电子束增材技术得到合金构件，对合金构件固溶处理后即可获得。本发明提供的高熵合金具有良好的致密度、尺寸精度，以及优异的力学性能。测试后发现合金构件的产品组织得到改善，晶粒沿着建造方向生长，且晶粒内存在枝晶，由FCC相、L12相和L21相构成。经过后续热处理工艺得到的高熵合金主要由FCC相、L12相组成，合金的力学性能得到了进一步的提高。本发明提供的高熵合金经过测试室温屈服强度为601.7MPa，抗拉强度为848.8MPa，断裂伸长率为23.9％，是一种性能优异的合金。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN113013033A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202011516548.3
申请日：2020-12-21
Applicant: 上海大学
IPC: H01L21/3213
Abstract: 本发明公开了一种金属厚膜离子束刻蚀方法，是将厚膜样品结合光刻工艺和离子束刻蚀的方法，将金属厚膜部分刻蚀并使其变脆，然后机械剥离金属厚膜的刻蚀区与未刻蚀区得到具体想要花样的金属厚膜，并且不改变或者损坏膜内部结构和性能，为金属厚膜在芯片、集成电路和促动器上的应用打下技术基础。其中可供刻蚀的膜成分包括所有的纯金属和合金，厚膜的厚度1‑50μm，光刻胶包括所有型号的光刻胶。被刻蚀的地方可与未被刻蚀附着光刻胶的地方机械剥离从而得到具有各种花样的金属膜样品，此技术可以减少刻蚀时间，不用完全刻透厚膜，即可实现厚膜的刻蚀，增加了刻蚀的效率。
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公开(公告)号：CN116497316A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310501194.2
申请日：2023-05-06
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种纳米晶难混溶合金的制备方法，是通过物理气相沉积的方法直接制备出纳米晶难混溶合金，或者先通过物理气相沉积的方法制备出一定厚度的非晶态难混溶合金，再用退火工艺使非晶晶化为纳米晶，从而完成纳米晶难混溶合金的制备。与现有技术相比，本发明方法制备的纳米晶难混溶合金具有致密度高、热导率高和电导率高的优点，本发明使用的设备为工业通用设备，经济实用，适用于工业大批量生产。
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公开(公告)号：CN116479348A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310487696.4
申请日：2023-05-04
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种块体金属玻璃步进循环加载回春方法，包括以下步骤：1)将金属玻璃加工成可以进行循环加载处理的试样；2)将试样安装在循环加载设备上，采用交变载荷进行步进循环加载处理，步进循环加载处理从低于疲劳极限的起始应力幅开始，经过一定循环加载次数之后，再增加步进应力幅进行循环加载，直到试样断裂之前。与现有技术相比，本发明方法效率高，工艺简单，普适性强，对于调控金属玻璃结构的能量状态和性能有很好的应用前景。
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公开(公告)号：CN114921757A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210424436.8
申请日：2022-04-21
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种非晶态高熵合金厚膜制备设备及制备方法，是通过离子束轰击靶材，使靶材表面几个原子层中发生级联碰撞效应，从而溅射出大量高能粒子。高能粒子快速沉积到低温衬底上，来不及形核便凝固，大幅提高了单相高熵合金的玻璃形成能力。同时，辅助离子源对衬底表面进行低能量轰击，增强沉积原子表面扩散和迁移，使金属膜致密化，提高镀膜质量，最终得到厚度不低于100μm以上的非晶态高熵合金厚膜。
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