一种化学气相沉积炉的导流装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117488277A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311659380.5

    申请日:2023-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积炉的导流装置,包括阿基米德螺线导流锥和十字导流支架,所述阿基米德螺线导流锥包括锥本体和阿基米德螺线,所述阿基米德螺线分布在所述锥本体的锥面上形成导流槽,所述十字导流支架包括带孔底座和导流杆,所述阿基米德螺线导流锥安插于带孔底座上,所述带孔底座与导流杆连通,本发明采用阿基米德螺线导流和十字导流支架组合的方式,相比于其他模具,提高了沉积均匀性,既保证多路气体均匀混合又控制气体流场沿径向均匀分布,提高了沉积效率。

    一种基于化学气相沉积炉的保温套件及组装方法

    公开(公告)号:CN116752119A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310683067.9

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本发明提供了一种基于化学气相沉积炉的保温套件及组装方法,包括至少两个保温组件,所述保温组件之间连接形成环形结构;其中,所述保温组件包括第一保温块和第二保温块;第一保温块包括第一支撑部和突出于所述第一支撑部的第一凸起;第二保温块设置有与所述第一凸起匹配连接的第一凹陷。相比于现有技术,本发明提供的保温套件,通过上述结构进行叠加组装,克服了只能依靠人工操作手法来保证更换后保温层的质量问题,有效解决了目前化学气相沉积炉的保温材料更换繁琐且更换后易出现温度分布不均匀的问题,保证了产品质量的一致性。

    一种带外接升降装置的CVD反应设备

    公开(公告)号:CN220099173U

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202321468622.8

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本实用新型提供了一种带外接升降装置的CVD反应设备,包括反应室和与所述反应室连接的外接升降装置;所述外接升降装置包括可伸缩的伺服电缸;所述伺服电缸安装于所述反应室的底部,用于调控所述反应室的高度。本实用新型提供的CVD反应设备,其外部装接带有升降装置,通过该外接升降装置可调控反应室的升降,在装取样品时降低反应室的高度,不仅操作效率更高安全性也更好,同时能适应大尺寸材料的制备要求,有效解决了传统CVD反应室因高度较高导致装取样品难度大、无法适应大尺寸材料制备的问题。

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