-
公开(公告)号：CN116880135A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310911241.0
申请日：2023-07-24
Applicant: 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及光刻机浸液供给技术领域，公开一种水箱组件及光刻机浸液供给系统，水箱组件包括:第一水箱和第二水箱，第二水箱位于第一水箱内，第一水箱的顶部具有溢流口，第二水箱的顶部具有浸液降流口，且第一水箱的溢流口高于第二水箱的浸液降流口；第一水箱的底部与浸液进液口连通，第二水箱的底部与浸液出液口连通。进入第一水箱内的浸液升流并分成两股水流，一股浸液在浸液降流口K1开始降流，进入第二水箱，另一股浸液经溢流口向第一水箱外溢流。浸液折返出流过程中，进行逆流式换热和温度补偿，温度控制精准、稳定，并减少细微气泡的产生，减少氧气等气体溶入，降低溶解氧、气泡、细菌、颗粒、有机物等二次污染，降低压力、温度、流量波动。
-
公开(公告)号：CN110398116A
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201910635384.7
申请日：2019-07-15
Applicant: 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
Abstract: 本发明涉及工艺设备冷却循环技术领域，公开了一种工艺设备冷却水循环系统。该系统包括高位定压水箱以及循环管路装置，高位定压水箱的底部高于循环管路装置的最高点，且高位定压水箱内的最高液位高于循环管路装置最高点3-5m；循环管路装置包括补水装置以及依次连通的回水总管、循环泵组、供水总管；回水总管的入水端与高位定压水箱的底部连通，供水总管与所述回水总管通过至少一组水冷管道组件连通；补水装置的出水端与回水总管连通；循环泵组与供水总管之间设置有过滤器组和换热器组，换热器组件的进水端连接冷冻水回水管，出水端连接冷冻水进水管。该系统能够防止出现溢流问题，保证循环泵组运行正常，系统安全性更高且更节能。
-
公开(公告)号：CN114291959B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210225886.4
申请日：2022-03-09
Applicant: 中国电子工程设计院有限公司
IPC: C02F9/10 , C02F103/04
Abstract: 本发明公开一种有效去除总有机碳和弱离子化杂质的超纯水制备方法，包括：对原水进行预处理，得到过滤水，预处理包括至少一次过滤处理；对过滤水进行浅除盐操作，得到一次纯水，浅除盐操作包括对过滤水进行至少一次反渗透处理；对一次纯水进行深除盐操作，得到二次纯水，深除盐操作包括使一次纯水依次经过连续电除盐系统（31）、光催化真空紫外氧化器（32）、弱酸盐脱除塔（33）和氮气真空混合式膜脱气装置（34）进行处理；对二次纯水进行抛光处理，得到超纯水。上述方案能更有效地减少水中总有机碳和弱离子化杂质，从而使所制备的超纯水稳定满足新版国际标准ASTM D5127‑13（2018）《电子和半导体工业用超纯水的标准指南》中E‑1.1及以上要求。
-
公开(公告)号：CN114291959A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202210225886.4
申请日：2022-03-09
Applicant: 中国电子工程设计院有限公司
IPC: C02F9/10 , C02F103/04
Abstract: 本发明公开一种有效去除总有机碳和弱离子化杂质的超纯水制备方法，包括：对原水进行预处理，得到过滤水，预处理包括至少一次过滤处理；对过滤水进行浅除盐操作，得到一次纯水，浅除盐操作包括对过滤水进行至少一次反渗透处理；对一次纯水进行深除盐操作，得到二次纯水，深除盐操作包括使一次纯水依次经过连续电除盐系统（31）、光催化真空紫外氧化器（32）、弱酸盐脱除塔（33）和氮气真空混合式膜脱气装置（34）进行处理；对二次纯水进行抛光处理，得到超纯水。上述方案能更有效地减少水中总有机碳和弱离子化杂质，从而使所制备的超纯水稳定满足新版国际标准ASTM D5127‑13（2018）《电子和半导体工业用超纯水的标准指南》中E‑1.1及以上要求。
-
公开(公告)号：CN118929988A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411345718.4
申请日：2024-09-26
Applicant: 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院股份有限公司
Abstract: 本发明涉及超纯水抛光技术领域，公开一种超纯水抛光系统，超纯水抛光系统包括：水箱、供水管路和回流管路，回流管路串联有回流比例背压阀和回流纯水箱自动阀，回流管路的出口与水箱的入水口连接，供水管路的入口与水箱的出水口连接；供水管路上设有用于调节超纯水参数的超纯水工艺处理设备，回流纯水箱自动阀与水箱的入水口之间设有回流滤器，突破不在回流管路设置超纯水工艺处理设备的思维定势和固有做法，克服了技术偏见，在回流纯水箱自动阀与水箱的入水口之间设有回流滤器，用于滤除回流管路中回流水的污染物，与供水管路的超纯水工艺处理设备一起形成处理工艺流程的全闭环，缓解回流管路中回流水容易出现污染物的技术问题。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114413551B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202111635704.2
申请日：2021-12-29
Applicant: 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种冷却水应急供水系统及方法，在集水槽内设置潜水泵，在供水管道上设置水箱、稳压装置、止回阀、第一压力开关。响应于第二压力开关和第三压力开关信号，控制箱发送信号启动和关闭稳压泵，使供水管道内保持稳定压力。当冷却水给水管道内失压，止回阀开启，气压水罐以预定压力向冷却水给水管道供水。响应于第一压力开关信号，控制箱发送信号启动潜水泵，潜水泵从集水槽吸水进入供水管道，冷却水从设备处喷出，在地面汇集到集水槽内。利用少量的集水槽水作为水源，冷却水循环使用，不需设置大水池和外部水源供水。本系统构成简单，适用于新建和改造项目，建设灵活性高，投资和运维成本低。
-
公开(公告)号：CN114988644A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210685804.4
申请日：2022-06-16
Applicant: 世源科技工程有限公司
IPC: C02F9/14 , C02F1/32 , C02F1/66 , C02F1/72 , C02F101/38
Abstract: 本发明公开了一种含有四甲基氢氧化铵的废水处理系统及方法，包括酸碱调节单元、高级氧化处理单元和Bardenpho处理系统；高级氧化处理单元为VUV反应器，内部设置真空紫外线灯管，向反应器前的管道内投加氧化剂，紫外线活化氧化剂产生自由基，对废水中的四甲基氢氧化铵进行降解；Bardenpho处理系统对高级氧化处理单元的出水进行生化需氧量去除和生物脱氮处理。本发明系统的高级氧化处理单元中，真空紫外线同时辐照过二硫酸盐和过氧乙酸能产生协同作用，对四甲基氢氧化铵具有更高的氧化效率，能够完全降解废水中的四甲基氢氧化铵。该处理系统出水化学需氧量和氨氮指标优于国家或地方排放标准。
-
公开(公告)号：CN114877070A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210584862.8
申请日：2022-05-26
Applicant: 世源科技工程有限公司
IPC: F16J15/14
Abstract: 本发明涉及纯水处理系统技术领域，公开了一种管道式水封装置及纯水箱的密封系统，该管道式水封装置包括正压防护组件，其包括并行连通的第一管道和第二管道、出气管，第一管道与纯水箱的溢流口连通，第二管道顶端有排气口，第一管道与第二管道内有第一密封液，第二管道设有排液口，以形成排放液位；出气管顶端与第一管道连通，底端有出气口，出气口伸入第一密封液内；破真空防护组件，其包括第三管道和破真空管道，破真空管道顶端与大气连通，底端形成输气口，输气口与第三管道连通，第三管道与第一管道连通，第三管道内有第二密封液，使第二密封液的液面与输气口之间形成第二预设压力。该管道式水封装置便于加工组装，占用空间小，更变修改方便。
-
公开(公告)号：CN116661258A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310652656.0
申请日：2023-06-02
Applicant: 世源科技工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻机用真空系统及光刻机，系统中，至少一个气液分离装置包括，真空罐，其为密封结构，真空罐内容纳具有第一液面的液体和位于液体上方的气体，抽排管路，其连通真空罐以导入来自光刻机的气液两相流，泵，其连通真空罐以抽吸其中的气体；至少一个液封装置，液封装置容纳具有恒定高度的第二液面的液体，液封装置经由液体导流管路液体连通真空罐以构成连通器，液封装置内具有恒定气压，泵控制真空罐内气压且同时实现控制真空罐内液位。本系统为单排系统，泵控制真空罐内气压且同时实现控制真空罐内液位且可靠性及精度高。
-
公开(公告)号：CN115974329A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310017926.0
申请日：2023-01-06
Applicant: 世源科技工程有限公司
IPC: C02F9/00 , C02F1/66 , C02F1/72 , C02F1/44 , C02F101/38 , C02F101/36
Abstract: 本申请提供了一种水处理的方法、装置及电子设备，用以去除水中氯胺以及氯胺水解得到的次氯酸，以避免强氧化性物质对于高分子材料例如反渗透膜的破坏，达到延长执行水处理方法的设备的使用寿命的目的。该方法包括：向第一待处理水中加入可溶性强碱，得到PH为9.5‑10.5的第二待处理水；其中，所述第一待处理水中含氯胺；向所述第二待处理水中加入亚硫酸氢钠，得到氧化还原电位为150‑250mV的第三待处理水；基于反渗透原理，去除所述第三待处理水中的次氯酸根，得到余氯含量小于0.05ppm的纯净水。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
34
records
(took 0.089 seconds)
