公开(公告)号：CN108957956B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN201810464330.4

申请日：2018-05-15

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 染谷和也 ,  千坂博树 ,  松本直纯 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供：可形成折射率高、耐弯曲性优异的固化物的固化性组合物；该固化性组合物的固化物；由该固化物形成的固化膜；具有该固化膜的显示面板；以及，使用前述的固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是，在包含(A)固化性化合物和(C)固化剂的固化性组合物中，使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的固化性化合物，并且，在所述固化性组合物中配合有(B)金属氧化物，在所述(B)金属氧化物的表面以共价键键合有封端剂。

公开(公告)号：CN114761497A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202080082415.1

申请日：2020-11-17

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 千坂博树 ,  铃木航 ,  三隅浩一

IPC: C09D11/101 ,  C08F220/38 ,  C08L33/14 ,  C08F2/44 ,  C09D11/38 ,  G02B1/04 ,  G09F9/00 ,  C08K3/22

Abstract: 本发明提供能形成高折射率的固化物、并且即使不包含有机溶剂或者仅包含少量有机溶剂、也能应用喷墨法的液态的感光性油墨组合物、该感光性油墨组合物的固化物、具备由该固化物形成的膜的显示面板、和使用前述的感光性油墨组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性化合物(A)、金属化合物粒子(B)、和光聚合引发剂(C)的感光性油墨组合物中，使用特定结构的硫醚化合物(A1)、和特定结构的(甲基)丙烯酸酯化合物(A2)作为光聚合性化合物(A)，使用选自由氧化钛粒子、钛酸钡粒子、氧化铈粒子、及硫化锌粒子组成的组中的至少1种作为金属化合物粒子(B)。

公开(公告)号：CN108300305B

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN201810007780.0

申请日：2018-01-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤井恭 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  染谷和也 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09D183/16 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  H01L21/316

Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。

公开(公告)号：CN108957956A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201810464330.4

申请日：2018-05-15

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 染谷和也 ,  千坂博树 ,  松本直纯 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供：可形成折射率高、耐弯曲性优异的固化物的固化性组合物；该固化性组合物的固化物；由该固化物形成的固化膜；具有该固化膜的显示面板；以及，使用前述的固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是，在包含(A)固化性化合物和(C)固化剂的固化性组合物中，使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的固化性化合物，并且，在所述固化性组合物中配合有(B)金属氧化物，在所述(B)金属氧化物的表面以共价键键合有封端剂。

公开(公告)号：CN108300305A

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201810007780.0

申请日：2018-01-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤井恭 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  染谷和也 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09D183/16 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  H01L21/316

CPC classification number: C09D183/16 ,  C08G77/62 ,  C08L83/16 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02318 ,  H01L21/02326 ,  H01L21/02337 ,  C08K5/3445 ,  C08K5/55 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02205

Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。

公开(公告)号：CN106256872A

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：CN201610431454.3

申请日：2016-06-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 千坂博树 ,  野田国宏 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09K13/00 ,  H01L21/308 ,  G02F1/1362

Abstract: 本发明涉及蚀刻组合物及传导膜的制造方法。本发明的课题在于提供可抑制基板表面的铜等的腐蚀的蚀刻组合物、及使用该蚀刻组合物的传导膜的制造方法。本发明的蚀刻组合物含有氧化剂、水、及下述通式(1a)表示的腐蚀抑制剂。式(1a)中，R各自独立地表示氢原子或1价的有机基团，R2表示可以具有取代基的芳香族基，R4各自独立地表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n表示0～3的整数。上述R可以与另一个R或R2键合而形成环状结构。

公开(公告)号：CN103597605A

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201280027751.1

申请日：2012-06-08

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 桑原大 ,  三隅浩一 ,  宫本英典

IPC: H01L31/032 ,  H01L31/0749

CPC classification number: C09D7/1233 ,  C01B19/002 ,  C01B19/007 ,  C01G19/006 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/03 ,  C09D7/63 ,  H01L21/02557 ,  H01L21/0256 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02628 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/0326 ,  H01L31/0749 ,  Y02E10/541 ,  Y02P70/521

Abstract: 一种光吸收层形成用涂布液，其是用于形成铜锌锡硫(CZTS)系太阳能电池的光吸收层的涂布液，其是使(A)肼配位Cu硫属化物络合物成分、(B)肼配位Sn硫属化物络合物成分和(C)肼配位Zn硫属化物络合物成分溶解于二甲基亚砜而成的。

公开(公告)号：CN102163721B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201110070852.4

申请日：2007-12-11

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社关东学院大学表面工学研究所

Inventor： 三隅浩一 ,  齐藤宏二 ,  渡边充广 ,  本间英夫

IPC: H01M4/66 ,  H01M10/0525 ,  C09D183/04 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC classification number: H01M4/60 ,  G03F7/022 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0385 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  H01M4/045 ,  H01M4/049 ,  H01M4/134 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/48 ,  H01M4/66 ,  H01M4/665 ,  H01M4/667 ,  H01M4/668 ,  H01M10/0525 ,  H01M2004/021 ,  H01M2004/025 ,  H01M2004/027 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54 ,  Y02T10/7011

Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。

公开(公告)号：CN101297010A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680039580.9

申请日：2006-10-23

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 三隅浩一 ,  宫城贤 ,  宫成淳 ,  稻尾吉浩

IPC: C09J133/06 ,  C09J7/02 ,  B24B37/04 ,  H01L21/301 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09J133/06 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  C09J7/385 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J2203/326 ,  H01L21/67132 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T428/2861 ,  Y10T428/2891 ,  Y10T428/31935

Abstract: 本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。

公开(公告)号：CN101133366A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200680006791.2

申请日：2006-04-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 石川薰 ,  三隅浩一 ,  斋藤宏二

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/322

Abstract: 本发明提供一种可以形成良好的厚膜抗蚀图形、且起泡少的显影液组合物。该显影液组合物，其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物，其中，含有作为主剂的有机季铵盐基、用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂、和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂及非离子表面活性剂系消泡剂中选择的消泡剂。(I)式中的R1是碳数为5～18的烷基或烷氧基，a是1或2；R2、R3是独立的磺酸铵基、磺酸取代铵基或下述通式(II)表示的基团，b是0或1～3的整数；c是1～3的整数。(II)式中M是金属原子。