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公开(公告)号：CN110678962B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN201880035426.7
申请日：2018-05-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05D1/40 , B05D3/00 , B05D3/06 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。
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公开(公告)号：CN114650396A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111498264.0
申请日：2021-12-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种显示装置、显示方法以及存储介质，能够容易地掌握过去执行的基板处理的状态。显示装置是在显示画面中显示与对多个基板执行规定的基板处理的基板处理装置中的处理有关的信息的装置。显示装置具备显示控制部，所述显示控制部能够根据来自用户的指示，使显示画面中显示基于过去在基板处理装置内拍摄多个基板中的作为显示对象的基板所得到的第一摄像数据的图像，并且能够根据来自用户的指示，使显示画面中显示基于过去在基板处理装置内拍摄作为显示对象的基板所得到的第二摄像数据的图像。第一摄像数据与第二摄像数据是在不同的定时进行拍摄所得到的数据，或者第一摄像数据与第二摄像数据是拍摄不同的摄像范围所得到的数据。
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公开(公告)号：CN107561872A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710526715.4
申请日：2017-06-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明能够自动对检査基板的缺陷时所使用的参数值进行调整，在检査基板的缺陷时实现减少疑似缺陷的检测。对于所选择的虚拟检査用的基板的各像素值，使用供调整后使用的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的允许范围时，将偏离量和调整前的灵敏度参数值进行比较。然后，在偏离量超过该灵敏度参数值并且上述偏离量与该灵敏度参数值的差在阈值以下时，将上述偏离量更新为新的灵敏度参数值。进而，对上述过去已检査过的多个基板的图像数据依次进行该操作，并且在作为偏离量的比较对象的灵敏度参数值发生了更新时使用更新后的灵敏度参数值，将最后更新了的灵敏度参数值作为调整后的灵敏度参数。
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公开(公告)号：CN118280883A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410373353.X
申请日：2018-05-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。
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公开(公告)号：CN116429792A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310002690.3
申请日：2023-01-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 本公开涉及一种基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质。基板检查装置使用拍摄基板的表面而得到的图像来检查基板，所述基板检查装置具有：保持部(31)，其用于保持基板；第一光源部(51)，其用于对保持于保持部(31)的基板射出可见光；第二光源部(52)，其用于对保持于保持部(31)的基板射出红外光；第一摄像传感器，其接受通过照射可见光而从基板射出的第一反射光，来拍摄关于基板的表面的可见光图像；以及第二摄像传感器，其接受通过照射红外光而从基板射出的第二反射光，来拍摄关于基板的表面的红外光图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104465460B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201410641400.0
申请日：2011-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: G03F7/16 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。
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公开(公告)号：CN102809570A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201210135466.3
申请日：2012-05-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/9513 , G06T7/0004
Abstract: 本发明提供不使用检查用基板、能够防止产生由照明部的照度的降低引起的检查的不顺利的问题的技术。本发明的基板检查装置，具有：模式选择部，用于在检查模式和维护模式之间选择模式，所述检查模式以载置于设置在机箱内的载置台的基板为被摄体进行摄像来进行检查，所述维护模式用于确认照明部的照度；导光部件，设置于上述机箱内，用于将上述照明部的光导向摄像部的摄像元件；判定部，对在维护模式执行时经由上述导光部件被摄像元件取得的照明部的光的亮度是否在预先设定的容许范围内进行判定；和报知部，当由上述判定部判定为上述亮度在上述容许范围外时，用于报知需要进行照明部的更换。
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公开(公告)号：CN100370582C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200510093927.5
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本申请公开一种基板处理装置，其具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。
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公开(公告)号：CN101120434A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200680004934.6
申请日：2006-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/38
CPC classification number: H01L21/67109 , G03F7/38 , H01L21/67103 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/67248 , H01L21/67748
Abstract: 为使光刻胶图案的线宽在晶圆面内均匀形成，进行热板的温度设定。PEB装置的热板划分成多个热板区域，可对每个热板区域进行温度设定。热板的各热板区域分别设定温度校正值，用以对置于热板上的晶圆进行面内温度调整。用根据热板中热处理形成的光刻胶图案的线宽和温度校正值之间的相关作成的计算模型，计算并设定该热板的各热板区域的温度校正值。计算模型M，根据光刻胶图案的线宽测定值，计算出使晶圆面内的线宽成为均匀的温度校正值。
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公开(公告)号：CN1737995A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510093927.5
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本申请公开一种基板处理装置，其具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。
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