公开(公告)号：CN111788666B

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN201980015484.8

申请日：2019-02-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  小林将人

IPC: H01L21/66 ,  G01R31/26 ,  G01R31/28 ,  H01L21/26 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种检查装置，其使接触端子与电子器件电接触而检查该电子器件，该检查装置包括：载置台，其在内部具有供光可透射的致冷剂流通的致冷剂流路，该载置台的与被检查体的载置侧相反的一侧由光透射材料形成；光照射机构，其被配置成面对该载置台的与被检查体的载置侧相反的一侧的面，并具有面向被检查体的多个LED；以及控制部，其控制用致冷剂进行的吸热和用来自该LED的光进行的加热，以控制作为检查对象的电子器件的温度，该控制部基于所测量出的作为检查对象的电子器件的温度，来控制来自该LED的光输出，并且基于该LED的光输出来控制用致冷剂进行的吸热。

公开(公告)号：CN109983350B

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN201780072416.6

申请日：2017-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  藤泽良德

IPC: G01R31/26 ,  H01L21/66 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种能够抑制成本升高的电子器件测试装置。探针台(10)包括用于载置载体(C)或晶片(W)的载置台(11)，该载置台(11)包括用于载置载体(C)的载置台盖(27)、与该载置台盖(27)抵接的冷却单元(29)、和隔着载置台(27)和冷却单元(29)与载体(C)相对配置的LED照射单元(30)，载置台盖(27)和冷却单元(29)由透光材料构成，可透光的冷却介质在冷却单元(29)的冷却介质流路(28)中流动，LED照射单元(30)包括面向载体(C)发光的多个LED(32)，载体(C)由大致圆板形的玻璃基片(24)构成，多个电子器件(25)彼此隔着规定的间隔配置在载体(C)的表面。

公开(公告)号：CN105027670A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201380073951.5

申请日：2013-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  三浦仁嗣

IPC: H05B6/78 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H05B6/64 ,  H05B6/72

CPC classification number: H01L21/02667 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719 ,  H05B6/70 ,  H05B6/701 ,  H05B6/708 ,  H05B6/72 ,  H05B6/78 ,  H05B6/80

Abstract: 本发明提供一种能够使用微波对被处理体实施均匀的热处理的加热处理装置。加热处理装置(10)具有内部被导入有效波长为λg的微波的4个处理室(11)，4个处理室(11)相互平行地配置，并且4个处理室(11)中的每一个具有与基板(G)相对的开口部(15)，在长度方向上从一端内壁至另一端内壁的长度为m×λg/2，其中，m是正整数，向处理室(11)的内部激发微波的天线(14)在处理室(11)的长度方向上从端部的内壁偏移λg/4+p×λg/2地配置，其中，p为包含0的正整数，当从与各处理室(11)的长度方向垂直的方向以各处理室(11)重叠的方式观察各处理室(11)时，各处理室(11)在长度方向上错开λg/8地配置。

公开(公告)号：CN102655708B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201210050402.3

申请日：2012-02-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  河西繁 ,  长田勇辉

IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3222 ,  C23C16/274

Abstract: 本发明涉及表面波等离子体产生用天线及表面波等离子体处理装置。该表面波等离子体产生用天线用于将从微波输出部通过由外侧导体与内侧导体构成的同轴状的波导传输来的微波放射到腔室内，在腔室内产生表面波等离子体，该表面波等离子体产生用天线呈平面状，并且多个缝隙形成为圆周状，并且，在圆周方向上邻接的缝隙与缝隙的相接部分处，这些缝隙在径向上重叠，其相接部分呈被缝隙包围的状态。

公开(公告)号：CN103188835B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201210584999.X

申请日：2012-12-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  河西繁 ,  山下润 ,  伴昌和

IPC: H05B6/64 ,  H05B6/80 ,  H01L21/67

CPC classification number: H05B6/6402 ,  H05B6/6426 ,  H05B6/70 ,  H05B6/707 ,  H05B6/72 ,  H05B6/806

Abstract: 本发明提供电力的利用效率和加热效率优异、能够对被处理体进行均匀的处理的微波加热处理装置和处理方法。在微波加热处理装置（1）中，在处理容器（2）的顶部（11），四个微波导入口（10）分别配置为以其长边和短边与四个侧壁部（12A、12B、12C、12D）的内壁面平行，且配置于相互变更90°角度的旋转位置。各微波导入口（10）配置为，在沿与各自的长边垂直的方向平行移动的情况下，不与具有平行的长边的其它微波导入口（10）重叠。

公开(公告)号：CN101925981B

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN200980103125.4

申请日：2009-01-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  宫下大幸 ,  铃木智博 ,  米田昌刚 ,  大矢和广

IPC: H01L21/26

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的退火装置具备：面向晶片W的面设置、具有向晶片W照射光的多个LED(33)的加热源(17a，17b)；透过来自发光元件(33)的光的光透射部件(18a，18b)；和与加热源(17a，17b)直接接触设置的由Al构成的冷却部件(4a，4b)。加热源(17a，17b)具备多个发光元件阵列(34)，该发光元件阵列包括利用银膏(56)安装了LED(33)的由AlN构成的支撑体(32)和利用焊料(57)粘合到支撑体(32)的背面侧的由Cu构成的热扩散部件(50)，发光元件阵列(34)通过硅润滑油(58)旋紧在冷却部件(4a，4b)上。

公开(公告)号：CN102473670A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080033137.7

申请日：2010-07-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 野村正道 ,  小泉建次郎 ,  河西繁 ,  田中澄

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/26 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/68792

Abstract: 本发明涉及一种处理装置，对被处理体实施规定的处理，其特征在于，包括：能排气的处理容器；配置在所述处理容器内、在上端侧支撑所述被处理体的由非磁性材料构成的旋转浮体；在所述旋转浮体上沿其周方向以规定间隔设置的由磁性材料构成的多个旋转XY用吸附体；在所述旋转浮体上沿其周方向设置的由磁性材料构成的环状的浮起用吸附体；设置在所述处理容器的外侧、在所述浮起用吸附体上向着垂直方向上方作用磁吸引力，调整所述旋转浮体的斜率并使其浮起的浮起用电磁铁组；设置在所述处理容器的外侧使磁吸引力作用在所述旋转XY用吸附体上、在水平方向进行所述浮起的所述旋转浮体的位置调整并使其旋转的旋转XY用电磁铁组；向所述处理容器内供给必要的气体的气体供给单元；对所述被处理体实施规定的处理的处理机构；和对装置整体的动作进行控制的装置控制部。

公开(公告)号：CN102404891A

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN201110271883.6

申请日：2011-09-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  芦田光利

IPC: H05B6/64 ,  H05B6/66 ,  H01L21/67 ,  H01L21/268

CPC classification number: H05B6/68 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/04 ,  Y02B40/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种使用多个磁控管以减少反射电力，从而能够照射微波的微波照射装置以及微波照射方法。微波照射装置100包括：收纳被处理体的腔室1；通过供给电压使其产生微波，将该微波照射在所述腔室1内的被处理体上的多个磁控管10a、10b；以及向这些多个磁控管10a、10b供给脉冲状电压的电源部20，电源部20按照被分别供给多个磁控管10a、10b的脉冲状电压的电压脉冲彼此在时间上不重叠的方式供给电压。

公开(公告)号：CN102365785A

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN201080013874.0

申请日：2010-03-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  池田太郎 ,  长田勇辉

IPC: H01P5/04 ,  H05B6/70 ,  H05B6/72 ,  H05H1/46

CPC classification number: H05B6/80 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32256 ,  H05B6/705 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463

Abstract: 本发明提供一种使腔室内的负荷的阻抗与微波电源的特性阻抗自动匹配的调谐器(60)，其包括：主体(51)，其具有呈筒状的外侧导体(52)和在其中同轴设置的、呈筒状的内侧导体(53)，成为微波传送路径的一部分；铁心(61a、61b)，其设置于外侧导体(52)与内侧导体(53)之间，沿着内侧导体(53)的长度方向能移动，是环状，由电介质形成；和使铁心(61a、61b)移动的驱动机构，驱动机构的驱动传送部、驱动引导部、构成保持部的滑动部件(63)和铁心移动轴(64a、64b)被收容在内侧导体(53)的内部。

公开(公告)号：CN102089867A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200980127227.X

申请日：2009-07-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  康松润 ,  河西繁

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32165 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/321 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明提供一种通过等离子体对基板进行处理的等离子体处理装置，其包括：处理容器；设置在所述处理容器内用于载置基板的载置台；与所述载置台相对设置的、由在下面形成有向所述处理容器内供给处理气体的多个气体喷出孔的导电性部件构成的气体喷淋头；在包围所述气体喷淋头下方空间的区域中供给用于产生感应耦合型等离子体的高频电流的感应线圈；用于向所述气体喷淋头施加负的直流电压，由此将通过所述感应线圈感应产生的感应电场引入处理区域的中央部一侧的负电压供给单元；和对所述处理容器内进行抽真空的单元。