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公开(公告)号：CN110265317A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910145973.7
申请日：2019-02-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明能够对基片均匀地供给干燥用流体。实施方式的基片干燥装置包括处理室和盖部。处理室具有用于送入送出基片的开口部。盖部能够开闭开口部。另外，盖部包括扩散室和整流部件。扩散室用于使干燥用流体扩散。另外，整流部件将在扩散室扩散的流动的干燥用流体整流后使其从扩散室向处理室流出。
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公开(公告)号：CN101989562A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN201010236456.X
申请日：2010-07-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67754 , B65G49/061 , B65G49/066 , B65G49/067 , B65G49/068 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , H01L21/67196 , Y10T29/49826 , Y10T29/53539 , Y10T29/53543 , Y10T29/53548
Abstract: 本发明提供一种即使在没有设置起重机构的工厂内也可以组装的输送机构的组装方法。该方法是一种用于输送输送物的输送机构的组装方法，该输送机构用于包括保持输送物的拾取单元、用于使拾取单元滑动的滑动单元、用于驱动滑动单元的驱动单元，在收容输送机构的输送室(4)的顶部安装有用于悬吊单元的悬吊机构(7)，使用该悬吊机构(7)，在输送室(4)内部将搬入到输送室的内部的单元彼此组装起来。
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公开(公告)号：CN112735997A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011134468.1
申请日：2020-10-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种批量形成机构和基板处理装置，其形成与工艺条件、硬件条件相应的批量。本公开的一形态的批量形成机构具备接收部、间距转换部以及保持部。接收部以能够在垂直方向上移动的方式配置，从输送机构接收以预定的间距排列的多张基板。间距转换部用于转换以等间隔排列配置的多张基板的间距。保持部以能够在水平方向上移动的方式配置，用于暂时保持多张基板。
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公开(公告)号：CN111066126A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880053792.5
申请日：2018-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 实施方式的基片处理装置包括处理单元(16)、控制部(18)和测量部(102)。处理单元包括：能够保持基片并使其旋转的保持部(31)；释放处理液的喷嘴(41)；和对喷嘴供给处理液的导电性的配管部(44)。控制部对处理单元执行通过从喷嘴对由保持部保持并旋转的基片供给处理液来处理基片的液处理。测量部测量因处理液在配管部中流动而产生的流动电流。此外，控制部基于测量部的测量结果来监视液处理。
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公开(公告)号：CN102842522A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210169691.9
申请日：2012-05-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明提供双流体喷嘴、基板液处理装置和基板液处理方法。该双流体喷嘴能够均匀地喷雾小直径的处理液的液滴。在本发明中，在朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部（48）喷射的处理液与从气体喷射口（52）喷射的气体混合而生成的处理液的液滴的双流体喷嘴（34）、使用了该双流体喷嘴（34）的基板液处理装置（1）及基板液处理方法中，液体喷射部（48）使相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液的多个液体喷射口（47）配置在气体喷射口（52）的内侧的同一圆周上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101989562B
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201010236456.X
申请日：2010-07-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67754 , B65G49/061 , B65G49/066 , B65G49/067 , B65G49/068 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , H01L21/67196 , Y10T29/49826 , Y10T29/53539 , Y10T29/53543 , Y10T29/53548
Abstract: 本发明提供一种即使在没有设置起重机构的工厂内也可以组装的输送机构的组装方法。该方法是一种用于输送输送物的输送机构的组装方法，该输送机构用于包括保持输送物的拾取单元、用于使拾取单元滑动的滑动单元、用于驱动滑动单元的驱动单元，在收容输送机构的输送室(4)的顶部安装有用于悬吊单元的悬吊机构(7)，使用该悬吊机构(7)，在输送室(4)内部将搬入到输送室的内部的单元彼此组装起来。
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公开(公告)号：CN112735997B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202011134468.1
申请日：2020-10-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种批量形成机构和基板处理装置，其形成与工艺条件、硬件条件相应的批量。本公开的一形态的批量形成机构具备接收部、间距转换部以及保持部。接收部以能够在垂直方向上移动的方式配置，从输送机构接收以预定的间距排列的多张基板。间距转换部用于转换以等间隔排列配置的多张基板的间距。保持部以能够在水平方向上移动的方式配置，用于暂时保持多张基板。
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公开(公告)号：CN111066126B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201880053792.5
申请日：2018-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 实施方式的基片处理装置包括处理单元(16)、控制部(18)和测量部(102)。处理单元包括：能够保持基片并使其旋转的保持部(31)；释放处理液的喷嘴(41)；和对喷嘴供给处理液的导电性的配管部(44)。控制部对处理单元执行通过从喷嘴对由保持部保持并旋转的基片供给处理液来处理基片的液处理。测量部测量因处理液在配管部中流动而产生的流动电流。此外，控制部基于测量部的测量结果来监视液处理。
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公开(公告)号：CN102842522B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201210169691.9
申请日：2012-05-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明提供双流体喷嘴、基板液处理装置和基板液处理方法。该双流体喷嘴能够均匀地喷雾小直径的处理液的液滴。在本发明中，在朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部（48）喷射的处理液与从气体喷射口（52）喷射的气体混合而生成的处理液的液滴的双流体喷嘴（34）、使用了该双流体喷嘴（34）的基板液处理装置（1）及基板液处理方法中，液体喷射部（48）使相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液的多个液体喷射口（47）配置在气体喷射口（52）的内侧的同一圆周上。
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公开(公告)号：CN102553851B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201110460406.4
申请日：2011-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728
Abstract: 本发明提供一种液处理装置及液处理方法。该液处理装置能够有效地清洗基板的下表面。基板清洗装置(10)具有位于被基板保持机构保持的基板(W)的下表面的下方并用于将处理液喷射到基板的下表面的喷嘴(60)。喷嘴具有排列在从与基板的中央部相对的位置到与基板的周缘部相对的位置之间的多个第1喷射口(61)。第1喷射口以朝向基板的下表面喷射的处理液的喷射方向具有基板的旋转方向的成分的方式被形成。
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