公开(公告)号：CN107532272B

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201680022664.5

申请日：2016-03-23

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 横田博纪 ,  川井大辅 ,  水津龙夫

IPC: C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C4/129 ,  B23K26/352

Abstract: 本发明提供一种基材的表面粗化方法，在大气中对陶瓷基材(2)照射功率密度为1.0×107～109W/cm2、且对照射位置的作用时间为1.0×10‑7～10‑5s的激光，将陶瓷基材(2)的表面粗化，并且在粗化表面(2a)上形成氧化膜(3)。由此，不会引起基材强度的大幅下降，并且通过粗化表面(2a)所产生的物理密合力加上化学亲和力的作用，获得与陶瓷基材(2)上形成的喷涂覆膜的高密合性。

公开(公告)号：CN114269507A

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN202080058524.X

申请日：2020-08-20

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 横田博纪 ,  川井大辅

IPC: B23K26/356

Abstract: 本发明的表面处理方法是对具有凹凸的基材的表面照射激光束以对该表面进行加工的表面处理方法，该激光束满足所有下述三个条件：距激光束斑的中心25μm半径范围的功率密度为1.0×103～1.0×105kW/cm2、整个激光束斑的功率密度为距激光束斑的中心25μm半径范围的功率密度的0.08～0.12倍、以及距激光束斑的中心25μm半径范围的作用时间为1.7×10‑6～1.0×10‑5秒。该方法可以除去基材表面的微细而锐利的突起部，并且保留一定的粗糙度。

公开(公告)号：CN114269507B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202080058524.X

申请日：2020-08-20

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 横田博纪 ,  川井大辅

IPC: B23K26/356 ,  B23K26/00 ,  B23K26/352

Abstract: 本发明的表面处理方法是对具有凹凸的基材的表面照射激光束以对该表面进行加工的表面处理方法，该激光束满足所有下述三个条件：距激光束斑的中心25μm半径范围的功率密度为1.0×103～1.0×105kW/cm2、整个激光束斑的功率密度为距激光束斑的中心25μm半径范围的功率密度的0.08～0.12倍、以及距激光束斑的中心25μm半径范围的作用时间为1.7×10‑6～1.0×10‑5秒。该方法可以除去基材表面的微细而锐利的突起部，并且保留一定的粗糙度。

公开(公告)号：CN107532272A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680022664.5

申请日：2016-03-23

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 横田博纪 ,  川井大辅 ,  水津龙夫

IPC: C23C4/02 ,  B23K26/00 ,  B23K26/352 ,  B32B18/00

Abstract: 本发明提供一种基材的表面粗化方法，在大气中对陶瓷基材(2)照射功率密度为1.0×107～109W/cm2、且对照射位置的作用时间为1.0×10‑7～10‑5s的激光，将陶瓷基材(2)的表面粗化，并且在粗化表面(2a)上形成氧化膜(3)。由此，不会引起基材强度的大幅下降，并且通过粗化表面(2a)所产生的物理密合力加上化学亲和力的作用，获得与陶瓷基材(2)上形成的喷涂覆膜的高密合性。