-
公开(公告)号：CN116547784A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202180083075.9
申请日：2021-11-18
IPC: H01L21/3065
Abstract: 提供一种耐等离子体侵蚀性优异、能够长期保护等离子体蚀刻装置的构件不受等离子体侵蚀的影响、有助于设备的稳定生产、构件的长寿命化的喷镀覆膜。作为本发明的一个方式的喷镀材料由复合化物形成，所述复合化物以40mol％以上且80mol％以下的比例包含稀土氟化物，以10mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化镁，以0mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化钙。
-
公开(公告)号：CN107532272B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201680022664.5
申请日：2016-03-23
Applicant: 东华隆株式会社
IPC: C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/134 , C23C4/129 , B23K26/352
Abstract: 本发明提供一种基材的表面粗化方法，在大气中对陶瓷基材(2)照射功率密度为1.0×107～109W/cm2、且对照射位置的作用时间为1.0×10‑7～10‑5s的激光，将陶瓷基材(2)的表面粗化，并且在粗化表面(2a)上形成氧化膜(3)。由此，不会引起基材强度的大幅下降，并且通过粗化表面(2a)所产生的物理密合力加上化学亲和力的作用，获得与陶瓷基材(2)上形成的喷涂覆膜的高密合性。
-
公开(公告)号：CN107109612B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201580070942.X
申请日：2015-12-24
Abstract: 绝缘轴承具备：至少一者是金属制的外圈和内圈、以及在所述外圈和所述内圈之间自由滚动的多个滚动体，并且，用绝缘膜覆盖了所述外圈和内圈的至少单方，其中，所述绝缘膜是将作为添加物的碳化硅和/或氮化铝分散在由氧化铝构成的基材中的混合物，并且，所述添加物的含量是混合物总量的1～40质量％。
-
-
公开(公告)号：CN104204267B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201280071515.X
申请日：2012-11-28
Applicant: 东华隆株式会社
Abstract: 本发明提供一种氟化物喷涂覆膜覆盖部件以及用于获得其的方法，该氟化物喷涂覆膜覆盖部件通过在基材表面覆盖碳化物金属陶瓷，并通过介设该金属陶瓷，牢固地密接氟化物喷涂覆膜，从而形成。通过在基材表面使用喷涂枪以高速喷洒碳化物金属陶瓷材料，从而形成使碳化物金属陶瓷颗粒的前端部埋没在基材中、同时呈膜状覆盖而成的碳化物金属陶瓷的底涂层或底漆部，然后通过在其上喷涂氟化物颗粒而形成氟化物喷涂覆膜。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103959447B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280059884.7
申请日：2012-12-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东华隆株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C4/04 , H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32477 , H01J37/32495
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置(10)，其特征在于，包括：能够减压的处理容器(12)；兼作在处理容器内载置晶片(W)的载置台(20)的下部电极；以与下部电极相对的方式配置的上部电极或天线电极；向处理容器内导入包含含卤气体和氧气的气体的气体供给源(32)；对上部电极、天线电极和下部电极中的至少任一个电极施加等离子体生成用的高频电力的高频电力源(18)；和利用等离子体生成用的高频电力使上述气体等离子体化，利用等离子体的作用对载置台上的晶片进行等离子体处理的单元，处理容器内的暴露于等离子体的面中，至少位于比晶片的载置位置更靠上部电极侧、天线电极侧或下部电极侧的高度的面的一部分或全部由氟化化合物覆盖。
-
公开(公告)号：CN103025908B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201080068188.3
申请日：2010-05-31
IPC: C23C4/06 , B21C47/00 , B21C47/06 , C22C38/00 , C22C38/22 , C22C38/24 , C23C4/10 , C23C4/12 , C23C4/18 , C23C10/28 , C23C26/00
CPC classification number: C23C4/18 , B21C47/06 , B22F3/115 , B22F7/08 , C22C38/00 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/22 , C23C4/10 , C23C10/02 , C23C10/28
Abstract: 廉价地提供辊基材为高硬度、不易受到凹陷等变形损伤、而且被覆在辊基材表面的喷镀覆膜在覆膜密合性、耐磨耗性、钢板通板性方面优异的、适用于热轧设备的辊，并且提供其有利的制造方法。作为其解决方案，优选在使用Cr为0.9～3.2质量%且下述(1)式定义的碳当量Ceq为0.45～1.65质量%的钢而成的辊基材的表面覆盖含有硬质陶瓷颗粒的自熔合金的喷镀覆膜后，在非氧化性气氛下实施熔合处理而在上述喷镀覆膜与辊基材之间形成厚度为30～200μm的扩散层后，进行冷却或热处理，使辊基材的硬度按肖氏硬度HS计为35～60。
-
公开(公告)号：CN102738296A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210104811.7
申请日：2012-04-06
Applicant: 株式会社日立国际电气 , 东华隆株式会社
IPC: H01L31/18 , H01L31/032 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67754 , H01L31/18 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置，所述衬底处理装置用于形成CIS类太阳能电池的光吸收层，进行硒化或硫化处理，其中，具有与石英制腔室相比易于加工的炉体，另外提供一种易于处置的腔室。所述衬底处理装置具有：处理室，容纳有多个衬底，所述衬底形成有由铜-铟、铜-镓或铜-铟-镓中的任一种形成的层合膜；反应管，以构成处理室的方式形成；气体供给管，向处理室中导入含硒元素气体或含硫元素气体；排气管，将处理室内的气体排出；及加热部，以包围上述反应管方式设置，其中，反应管的基材由不锈钢等金属材料形成，反应管的表面形成有多孔状涂膜，所述多孔状涂膜以氧化铬及氧化硅的混合物作为主要成分、且具有5％至15％的空隙率。
-
公开(公告)号：CN101970365A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980108834.1
申请日：2009-03-12
CPC classification number: C03B35/181 , C23C18/1216
Abstract: 本发明的课题在于，在辊母材的表面上层叠有底层和陶瓷喷镀膜的玻璃运送用辊中，抑制从该陶瓷喷镀膜上的粒子脱落。本发明涉及一种玻璃运送用辊，在辊母材的表面上设置有包含金属陶瓷或金属的第一喷镀膜，在该第一喷镀膜上设置有包含陶瓷的第二喷镀膜，其中，该第二喷镀膜使用二氧化硅前体溶液进行了封孔处理。
-
公开(公告)号：CN118679277A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202380021339.7
申请日：2023-03-07
Applicant: 三菱重工航空发动机株式会社 , 福吉米株式会社 , 东华隆株式会社
Abstract: 一个实施方式的热障涂层的施工方法具备：在形成于对象物的耐热合金基材上的粘结涂层上形成顶涂层的工序。在形成顶涂层的工序中，一边通过以25ml/分以上且100ml/分以下的供给速度向等离子体焰的周围供给水作为冷却流体而将等离子体焰的一部分冷却，一边通过大气压等离子喷镀喷镀包含陶瓷粉末的悬浮液，由此形成顶涂层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
73
records
(took 0.048 seconds)
