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公开(公告)号：CN115135606B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202080093960.0
申请日：2020-02-27
Applicant: 东南大学
Abstract: 提供一种高分散四方相钛酸钡纳米颗粒的制备方法，包括：1）将钛酸四丁酯溶于有机溶剂中，得到溶液A；将钡化合物加入冰乙酸中，溶解或反应后，得到溶液B；将溶液A和B混合配制出含有钛和钡的有机溶胶；2）用该溶胶与水溶性盐混合，静置或离心，使水溶性盐沉降，去除上部多余的有机溶胶，得到溶胶与水溶性盐的混合物；3）保温，发生溶胶凝胶转变，凝胶干燥后在水溶性盐颗粒表面包覆干凝胶膜；4）在600℃以上和盐熔点以下煅烧，干凝胶膜转变为钛酸钡纳米颗粒，形成煅烧产物；5）水洗、干燥，得到四方相钛酸钡纳米颗粒。该方法可以快速批量制备出高分散四方相钛酸钡纳米颗粒，可用于制备超薄层多层陶瓷电容器等基础电子元件。
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公开(公告)号：CN114807890B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202210484996.2
申请日：2022-05-06
Applicant: 东南大学
Abstract: 本发明公开了一种具有大温差电动势二维锑化铋的制备方法，所述制备方法为：对密闭管式炉抽真空后，以惰性气体作为载气，在所需压强下将二维锑化铋在低于其熔点的温度下进行退火处理。本发明制备方法能够制得厚度在20nm以下仍具有大温差电动势(塞贝克系数绝对值大于25μV/K)的二维锑化铋，从而实现20nm以下二维锑化铋在便携场景中的应用；本发明通过退火诱导二维锑化铋升华并留下微孔，通过微孔降低低能量载流子浓度，减少低能量载流子对塞贝克系数的负面贡献，从而提高二维锑化铋塞贝克系数的绝对值；并且本发明方法能够通过氩气的流量来控制锑化铋薄膜上微孔的尺寸和数量，从而实现对锑化铋薄膜塞贝克系数的调控。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113533469B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202110788990.X
申请日：2021-07-13
Applicant: 东南大学
IPC: G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/48
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯/聚吡咯的乳酸根离子传感器及其制备方法和应用，包括基底、螺旋形叉指电极和复合薄膜，所述复合薄膜包括层状石墨烯和覆于石墨烯上表面的聚吡咯薄膜。该方法工艺简单，将石墨烯与聚吡咯两种敏感材料以层状/层状形式复合,不涉及生物酶的固定和失活问题，并且该复合材料具有离子响应度高、探测范围宽、表面平整度高、材料厚度及性能可调、化学性质稳定等优点，且使用寿命长、材料耐久性好。
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公开(公告)号：CN113533469A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110788990.X
申请日：2021-07-13
Applicant: 东南大学
IPC: G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/48
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯/聚吡咯的乳酸根离子传感器及其制备方法和应用，包括基底、螺旋形叉指电极和复合薄膜，所述复合薄膜包括层状石墨烯和覆于石墨烯上表面的聚吡咯薄膜。该方法工艺简单，将石墨烯与聚吡咯两种敏感材料以层状/层状形式复合,不涉及生物酶的固定和失活问题，并且该复合材料具有离子响应度高、探测范围宽、表面平整度高、材料厚度及性能可调、化学性质稳定等优点，且使用寿命长、材料耐久性好。
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公开(公告)号：CN115135606A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202080093960.0
申请日：2020-02-27
Applicant: 东南大学
Abstract: 提供一种高分散四方相钛酸钡纳米颗粒的制备方法，包括：1）将钛酸四丁酯溶于有机溶剂中，得到溶液A；将钡化合物加入冰乙酸中，溶解或反应后，得到溶液B；将溶液A和B混合配制出含有钛和钡的有机溶胶；2）用该溶胶与水溶性盐混合，静置或离心，使水溶性盐沉降，去除上部多余的有机溶胶，得到溶胶与水溶性盐的混合物；3）保温，发生溶胶凝胶转变，凝胶干燥后在水溶性盐颗粒表面包覆干凝胶膜；4）在600℃以上和盐熔点以下煅烧，干凝胶膜转变为钛酸钡纳米颗粒，形成煅烧产物；5）水洗、干燥，得到四方相钛酸钡纳米颗粒。该方法可以快速批量制备出高分散四方相钛酸钡纳米颗粒，可用于制备超薄层多层陶瓷电容器等基础电子元件。
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公开(公告)号：CN114807890A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210484996.2
申请日：2022-05-06
Applicant: 东南大学
Abstract: 本发明公开了一种具有大温差电动势二维锑化铋的制备方法，所述制备方法为：对密闭管式炉抽真空后，以惰性气体作为载气，在所需压强下将二维锑化铋在低于其熔点的温度下进行退火处理。本发明制备方法能够制得厚度在20nm以下仍具有大温差电动势(塞贝克系数绝对值大于25μV/K)的二维锑化铋，从而实现20nm以下二维锑化铋在便携场景中的应用；本发明通过退火诱导二维锑化铋升华并留下微孔，通过微孔降低低能量载流子浓度，减少低能量载流子对塞贝克系数的负面贡献，从而提高二维锑化铋塞贝克系数的绝对值；并且本发明方法能够通过氩气的流量来控制锑化铋薄膜上微孔的尺寸和数量，从而实现对锑化铋薄膜塞贝克系数的调控。
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公开(公告)号：CN113540333A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110779226.6
申请日：2021-07-09
Applicant: 东南大学
Abstract: 本发明公开了一种基于优异电学性能的二维铋薄膜的器件及其制备方法，包括基底和电极。利用电子束蒸镀的工艺首次在纯硅片基底上制备出高导电性能的二维铋薄膜，并通过光刻和电子束蒸镀的工艺在二维铋薄膜上制作出特定形状的电极。该方法工艺可控，可大规模制备高导电性能的二维铋器件，二维铋导电薄膜与基底材料以层状/层状形式复合,使二维铋薄膜具有长平均自由程、高载流子迁移率、高热电转换效率的特征。具有表面平整度高、材料厚度可调、化学性质稳定等优点，且使用寿命长、材料耐久性好。
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