公开(公告)号：CN105274527B

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：CN201510354318.4

申请日：2015-06-24

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  田玹守 ,  赵成培 ,  金相泰 ,  李俊雨

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L27/12 ,  H01L21/28

Abstract: 本发明公开了一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；氟化物；含氮原子的化合物；磷酸；聚乙二醇；以及余量的水，其中，基于1克上述蚀刻液组合物，聚乙二醇的重复单元的毫摩尔量用于表示环氧乙烷水平，并且蚀刻液组合物的环氧乙烷水平为0.4～2；并且公开了一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN105220148B

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201510342127.6

申请日：2015-06-18

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  李俊雨 ,  田玹守 ,  赵成培

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/77

Abstract: 本文所公开的是一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、含氮原子的化合物、膦酸、二醇和水；以及一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN105316677A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510345815.8

申请日：2015-06-19

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  李俊雨 ,  田玹守 ,  赵成培

IPC: C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明公开了一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；在分子中同时具有氨基酸基团和聚乙二醇基团的化合物；以及水，并且公开了一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN102747367A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210034420.2

申请日：2012-02-15

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东友精细化工有限公司

Inventor： 金善一 ,  崔新逸 ,  朴智荣 ,  金湘甲 ,  权五柄 ,  金童基 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  刘仁浩 ,  尹暎晋 ,  李昔准 ,  李俊雨 ,  林玟基 ,  张*勋 ,  秦荣晙

IPC: C23F1/16 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L51/0023 ,  H01L2251/308

Abstract: 本发明的示例性实施例公开了一种用于蚀刻铟氧化物层的非卤化蚀刻剂和一种使用该非卤化蚀刻剂制造显示基底的方法，所述非卤化蚀刻剂包括硝酸、硫酸、含有铵的缓蚀剂、基于环胺的化合物和水。

公开(公告)号：CN102747367B

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201210034420.2

申请日：2012-02-15

Applicant: 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

Inventor： 金善一 ,  崔新逸 ,  朴智荣 ,  金湘甲 ,  权五柄 ,  金童基 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  刘仁浩 ,  尹暎晋 ,  李昔准 ,  李俊雨 ,  林玟基 ,  张*勋 ,  秦荣晙

IPC: C23F1/16 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L51/0023 ,  H01L2251/308

Abstract: 本发明的示例性实施例公开了一种用于蚀刻铟氧化物层的非卤化蚀刻剂和一种使用该非卤化蚀刻剂制造显示基底的方法，所述非卤化蚀刻剂包括硝酸、硫酸、含有铵的缓蚀剂、基于环胺的化合物和水。

公开(公告)号：CN105316679A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510416611.9

申请日：2015-07-15

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 尹暎晉 ,  鞠仁說 ,  劉仁浩 ,  南基龍 ,  朴英哲 ,  李昔準 ,  李俊雨

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/28 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明提供了用于铜层和钛层的蚀刻溶液组合物以及使用所述蚀刻溶液组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。用于蚀刻铜层和钛层的蚀刻溶液组合物包括过硫酸盐、氯化合物、铜盐、环胺化合物和电子供体化合物，从而能够以高的蚀刻速度均匀地分批蚀刻铜层和钛层，同时防止难溶性沉淀的发生。

公开(公告)号：CN105274526A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510368198.3

申请日：2015-06-29

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  田玹守 ,  赵成培 ,  金相泰 ,  李俊雨

IPC: C23F1/14 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/136

Abstract: 本发明公开了一种蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物包括金属层氧化剂、螯合剂和余量的水，其中，所述螯合剂的官能团的摩尔量相比于所述金属层氧化剂的摩尔量是0.1至10；以及，一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN105316678A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510317457.X

申请日：2015-06-11

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  田玹守 ,  赵成培 ,  金相泰 ,  李俊雨

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  G02F1/1362

Abstract: 本文公开的是一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、磷酸、二醇和余量的水，其中，该蚀刻液组合物的特征在于，该蚀刻液组合物在待处理的片材数为5000张时的蚀刻速率与待处理的片材数为100张时的蚀刻速率之比为0.9至1；以及一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN105316677B

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201510345815.8

申请日：2015-06-19

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  金炫佑 ,  李俊雨 ,  田玹守 ,  赵成培

IPC: C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明公开了一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂；在分子中同时具有氨基酸基团和聚乙二醇基团的化合物；以及水，并且公开了一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。

公开(公告)号：CN106995922A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201710033540.3

申请日：2011-04-28

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 林玟基 ,  权五柄 ,  李喻珍 ,  刘仁浩 ,  李俊雨 ,  朴英哲 ,  张尚勋

IPC: C23F1/42 ,  H01L21/3213

CPC classification number: C23F1/16 ,  H01L21/32134 ,  C23F1/42

Abstract: 本发明涉及一种用于含铜和钛的金属层的蚀刻液组合物，基于组合物的总重量，包含：5wt％～20wt％的过硫酸盐，0.01wt％～2wt％的氟化合物，1wt％～10wt％的选自无机酸、无机酸盐及它们的混合物中的一种或多种，0.3wt％～5wt％的环状胺化合物，0.01wt％～5wt％的氯化合物，及其余为水。